一种阵列基板及其显示面板制造技术

本发明专利技术提供了一种阵列基板，包括玻璃基底层。其中所述基底层上设置有遮光层，所述遮光层上设置有第一金属层。本发明专利技术通过在所述第一金属层同侧的玻璃基底层上设置一层遮光层，即在所述第一金属层和玻璃基底层之间设置一层遮光层，由于所述遮光层的遮光性能，从而能够起到有效的降低所述第一金属层对于入射光线的反射率的效果。

An Array Substrate and Its Display Panel

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其显示面板
本专利技术涉及显示
，尤其是，其中的一种阵列基板及其显示面板。
技术介绍
已知，随着显示技术的不断发展，平板显示技术获得了极大的进步，使得其应用范围越来越广泛，这其中也包括电视领域。例如，一般常见的平板电视都是采用显示屏幕外设金属边框的结构。但随着平板显示技术的不断发展，已逐渐发展出不需设置金属边框的电视，即“beze-less”的电视设计。目前常见的有3边bezel-less设计和4边bezel-less设计。以4边beze-less设计为例而言，请参阅图1所示，其最初采用的结构为CF玻璃10在上而TFT玻璃20在下的结构，每侧玻璃外都设置有相应的CF偏光片12和TFT偏光片22。其中在OLB处的设计是需要CF侧的CF偏光片12凸出TFT侧玻璃20，并在两者狭缝中填充树脂(resin)15，再通过遮光胶与背光粘合固定。之后，业界又推出了对其的改进版。请参阅图2所示，所述改进版的4边bezel-less设计采用TFT玻璃20在上而CF玻璃10在下的结构。与传统的4边bezel-less设计相比，改进版的4边bezel-less设计减少了OLB填充树脂的过程(OLBfilling)，而是改用了遮光胶16，从而更加的便利。但是由于TFT侧做金属膜层，其对于入射光线的反射率很高。因此，确有必要来提出一种新型的阵列基板结构，来克服现有技术中的缺陷。
技术实现思路
本专利技术的一个方面是提供一种阵列基板，其采用新型的阵列(Array)膜层结构，能够有效降低其所在显示面板对于入射光线的反射率。本专利技术采用的技术方案如下：一种阵列基板，包括玻璃基底层。其中所述基底层上设置有遮光层，所述遮光层上设置有第一金属层。本专利技术通过在所述第一金属层同侧的玻璃基底层上设置一层遮光层，即在所述第一金属层和玻璃基底层之间设置一层遮光层，由于所述遮光层的遮光性能，从而能够起到有效的降低所述第一金属层对于入射光线的反射率的效果。其中所述遮光层的遮光系数值(OD值)的具体数值可以是符合业界一般的遮光要求即可，但不限于，具体可随实际需要而定，并无限定。进一步的，其中所述遮光层的厚度在0.5～5μm。进一步的，其中所述遮光层包括BM(BlackMatrix，黑色光阻)层。其中所述BM层的厚度具体可以是在0.5～1.5μm，其中优选值在1μm左右，但不限于。进一步的，其中所述遮光层包括BPS(BlackPhotoSpacer，黑色隔垫物)层。其中所述BPS层的厚度具体可以是在2.5～5μm，其中优选值在3～4μm左右，但不限于。进一步的，在不同实施方式中，其中所述第一金属层与所述遮光层之间还设置有第一绝缘层。进一步的，在不同实施方式中，其中所述第一绝缘层为单层绝缘层或叠层绝缘层。其中所述第一绝缘层可以是单层结构也可以是叠层结构，其采用的材料可以是无机材料，例如SiNx、SiOx等；也可以是有机材料，例如PFA等；具体可随需要而定，并无限定。进一步的，在不同实施方式中，其中所述遮光层与所述玻璃基底层之间还设置有第二绝缘层。其中所述第二绝缘层可以是单层结构也可以是叠层结构，其采用的材料可以是无机材料，例如SiNx、SiOx等；也可以是有机材料，例如PFA等；具体可随需要而定，并无限定。进一步的，在不同实施方式中，其中所述第一金属层与所述遮光层之间还设置有第一绝缘层；所述BM层与所述玻璃基底层之间还设置有第二绝缘层。进一步的，在不同实施方式中，其中所述第一金属层为栅极金属层。进一步的，在不同实施方式中，其中所述第一金属层上还依次设置有层间绝缘层、有源层(Activelayer)以及第二金属层。进一步的，在不同实施方式中，其中所述第一金属层为栅极金属层。进一步的，在不同实施方式中，其中所述第一金属层为栅极金属层，所述层间绝缘层为栅极绝缘层，所述第二金属层为源漏极金属层。进一步的，本专利技术的又一个实施方式是提供一种显示面板，其包括本专利技术涉及的所述阵列基板。相对于现有技术，本专利技术的有益效果是：本专利技术涉及的一种阵列基板，其通过在所述第一金属层同侧的玻璃基底层上设置一层遮光层，即在所述第一金属层和玻璃基底层之间设置一层遮光层。其中由于所述遮光层的遮光性能，从而能够起到有效的降低所述第一金属层对于入射光线的反射率的效果，进而降低其所在显示面板对于入射光线的反射率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中涉及的一种4边beze-less结构的示意图；图2为现有技术中涉及的又一种4边beze-less结构的示意图；图3为本专利技术的一个实施方式中涉及的一种阵列基板的局部结构示意图；图4为本专利技术的又一个实施方式中涉及的一种阵列基板的局部结构示意图；图5为本专利技术的又一个实施方式中涉及的一种阵列基板的局部结构示意图；图6为本专利技术的又一个实施方式中涉及的一种阵列基板的局部结构示意图；图7为本专利技术的又一个实施方式中涉及的一种阵列基板的结构示意图。具体实施方式以下将结合附图和实施例，对本专利技术涉及的一种阵列基板及其显示面板的技术方案作进一步的详细描述。请参阅图3所示，本专利技术的一个实施方式提供了一种阵列基板，包括玻璃基底层10。其中所述基底层10上设置有遮光层20，所述遮光层上设置有第一金属层30。本专利技术通过在所述第一金属层同侧的玻璃基底层上设置一层遮光层，即在所述第一金属层和玻璃基底层之间设置一层遮光层，由于所述遮光层的遮光性能，从而能够起到有效的降低所述第一金属层对于入射光线的反射率的效果。其中所述遮光层的遮光系数值(OD值)的具体数值可以是符合业界一般的遮光要求即可，但不限于，具体可随实际需要而定，并无限定。具体的，其中所述遮光层可以是BM(BlackMatrix，黑色光阻)层。其中所述BM层的厚度具体可以是在0.5～1.5μm，其中优选值在1μm左右。或者，所述遮光层可以是BPS(BlackPhotoSpacer，黑色隔垫物)层，其中所述BPS层的厚度具体可以是在2.5～5μm，其中优选值在3～4μm。进一步的，在不同实施方式中，其中所述第一金属层30、遮光层20以及基底层10之间，可分别根据需要设置有绝缘层。具体的设置方式可以包括三种方式。其中每种设置方式的具体结构，请分别参阅图4、5以及6所示。如图4所示，其为在所述第一金属层30与所述遮光层20之间设置有第一绝缘层32。具体的，其中所述第一绝缘层可以采用单层绝缘层或叠层绝缘层结构，具体可随需要而定，并无限定。其中所述第一绝缘层采用的材料可以是无机材料，例如SiNx、SiOx等；也可以是有机材料，例如PFA等；具体可随需要而定，并无限定。如图5所示，其为在所述遮光层20与所述基底层10之间设置有第二绝缘层22。具体的，其中所述第二绝缘层可以采用单层绝缘层或叠层绝缘层结构，具体可随需要而定，并无限定。其中所述第二绝缘层采用的材料可以是无机材料，例如SiNx、SiOx等；也可以是有机材料，例如PFA等；具体可随需要而定，并无限定。如图6所示，其为在所述金属层30和所述遮光层20之间设置所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括玻璃基底层；其特征在于，其中所述基底层上设置有遮光层，所述遮光层上设置有第一金属层。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括玻璃基底层；其特征在于，其中所述基底层上设置有遮光层，所述遮光层上设置有第一金属层。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，其中所述遮光层的厚度在0.5～5μm。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，其中所述遮光层包括BM层。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，其中所述遮光层包括BPS层。5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，其中所述第一金属层与所述遮光层之间设置有第一绝缘层。6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，其中所述遮光层与...

【专利技术属性】
技术研发人员：李利霞，王勐，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44