一种半自动曝光机曝光台面的水冷装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种半自动曝光机曝光台面的水冷装置，包括框架，所述的框架的下表面均匀的开设有连通的水槽，且框架的下表面通过锁紧孔配合锁紧螺栓的结构安装有水冷盖板，所述的框架上还设置有与水冷盖板配合的密封胶条，所述的密封胶条位于最外层水槽的外侧，所述的水冷盖板上设置有与水槽连通的进水口和出水口，且进水口和出水口连接到水循环装置，本实用新型专利技术的目的是提供一种半自动曝光机曝光台面的水冷装置，对框架下部开始水槽配合水冷盖板的设计，可以使冷却水在水槽内流动，实现水冷的功能，且冷却均匀，效果良好，同时不会影响到后续的取板操作，能使PCB板表面的油墨外观保持良好。

A Water Cooling Device for Exposure Table of Semi-automatic Exposure Machine

【技术实现步骤摘要】
一种半自动曝光机曝光台面的水冷装置
本技术涉及曝光机领域，尤其涉及一种半自动曝光机曝光台面的水冷装置。
技术介绍
目前行业常见的自动曝光机曝光台面冷却方式多数是机械风冷；在风冷过程中存在死角及温度不均的现象，而且对于无尘车间风冷也会吹动异物导致PCB曝光缺陷，更主要因素是因台面温度高低不均影响PCB涨缩，同时因冷却效果不佳再加上PCB在曝光前其表层印制的油墨未干透（工艺设计需要，干透会造成曝光不良）从而容易粘在曝光台面上，致使吸盘机构取板或人工取板时导致失败及影响其PCB表面油墨外观，因此有必要对曝光台面冷却控制方式进行改进。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种半自动曝光机曝光台面的水冷装置，对框架下部开始水槽配合水冷盖板的设计，可以使冷却水在水槽内流动，实现水冷的功能，且冷却均匀，效果良好，同时不会影响到后续的取板操作，能使PCB板表面的油墨外观保持良好。为了实现以上目的，本技术采用的技术方案为：一种半自动曝光机曝光台面的水冷装置，包括框架，所述的框架的下表面均匀的开设有连通的水槽，且框架的下表面通过锁紧孔配合锁紧螺栓的结构安装有水冷盖板，所述的框架上还设置有与水冷盖板配合的密封胶条，所述的密封胶条位于最外层水槽的外侧，且框架下表面开设有与密封胶条配合的沟槽，所述的水冷盖板上设置有与水槽连通的进水口和出水口，且进水口和出水口连接到水循环装置。优选的，所述的框架的下部还开设有两个调节口，且调节口与水槽不连通，调节口的外部也设置有密封胶条。优选的，所述的密封胶条与水冷盖板之间还设置有密封胶垫。优选的，所述的水冷盖板上还设置有与水槽连通的泄压阀。优选的，所述的锁紧孔均匀的设置在位于密封胶条外侧的部位。附图说明图1为一种半自动曝光机曝光台面的水冷装置的仰视爆炸图。图2为框架部分的立体示意图。图3为密封胶垫和水冷盖板的立体示意图。图中所示文字标注表示为：1、框架；2、密封胶条；3、密封胶垫；4、水冷盖板；5、进水口；6、出水口；7、锁紧孔；8、泄压阀；11、水槽；12、调节口。具体实施方式为了使本领域技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图对本技术进行详细描述，本部分的描述仅是示范性和解释性，不应对本技术的保护范围有任何的限制作用。如图1-3所示，本技术的具体结构为：一种半自动曝光机曝光台面的水冷装置，包括框架1，所述的框架1的下表面均匀的开设有连通的水槽11，且框架1的下表面通过锁紧孔7配合锁紧螺栓的结构安装有水冷盖板4，所述的框架1上还设置有与水冷盖板4配合的密封胶条2，所述的密封胶条2位于最外层水槽的外侧，且框架1下表面开设有与密封胶条2配合的沟槽，所述的水冷盖板4上设置有与水槽11连通的进水口5和出水口6，且进水口5和出水口6连接到水循环装置。对框架下部开始水槽配合水冷盖板的设计，可以使冷却水在水槽内流动，实现水冷的功能，且冷却均匀，效果良好，使框架平台温度均匀，且能有效控制在范围内，以免因温度影响PCB缩涨，同时也便于取板及板面菲林印品质改善。如图1所示，所述的框架1的下部还开设有两个调节口12，且调节口12与水槽不连通，调节口12的外部也设置有密封胶条2。如图3所示，所述的密封胶条2与水冷盖板4之间还设置有密封胶垫3。密封胶垫的设计，可以进一步提高密封效果。如图3所示，所述的水冷盖板4上还设置有与水槽11连通的泄压阀8。通过泄压阀对水循环压力的控制，使得水循环得以通畅，保证水路各区域水量均衡以及水温的稳定，水冷盖板材质为不锈钢，可提升冷却速率。如图3所示，所述的锁紧孔7均匀的设置在位于密封胶条2外侧的部位。螺栓孔的均匀设置，可以确保水冷盖板各个部位的良好的密封效果。本技术的具体安装和使用流程如下，首先将密封胶条2放置到沟槽中，然后将密封胶垫3盖在密封胶条2上或者放置在密封胶条2的侧面，之后将水冷盖板4盖上，通过锁紧螺栓配合锁紧孔将水冷盖板4完全锁紧，完成安装；在PCB板完成曝光后，通过水循环装置往进水口注水，使水槽11内充斥冷却水，之后开通出水口，实现冷却水循环，在这个过程中，可以通过泄压阀进行泄压，保证水路各区域水量均衡以及水温的稳定。需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想。以上所述仅是本技术的优选实施方式，应当指出，由于文字表达的有限性，而客观上存在无限的具体结构，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理的前提下，还可以做出若干改进、润饰或变化，也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合；这些改进润饰、变化或组合，或未经改进将技术的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均应视为本技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半自动曝光机曝光台面的水冷装置，包括框架（1），其特征在于，所述的框架（1）的下表面均匀的开设有连通的水槽（11），且框架（1）的下表面通过锁紧孔（7）配合锁紧螺栓的结构安装有水冷盖板（4），所述的框架（1）上还设置有与水冷盖板（4）配合的密封胶条（2），所述的密封胶条（2）位于最外层水槽的外侧，且框架（1）下表面开设有与密封胶条（2）配合的沟槽，所述的水冷盖板（4）上设置有与水槽（11）连通的进水口（5）和出水口（6），且进水口（5）和出水口（6）连接到水循环装置。

【技术特征摘要】
1.一种半自动曝光机曝光台面的水冷装置，包括框架（1），其特征在于，所述的框架（1）的下表面均匀的开设有连通的水槽（11），且框架（1）的下表面通过锁紧孔（7）配合锁紧螺栓的结构安装有水冷盖板（4），所述的框架（1）上还设置有与水冷盖板（4）配合的密封胶条（2），所述的密封胶条（2）位于最外层水槽的外侧，且框架（1）下表面开设有与密封胶条（2）配合的沟槽，所述的水冷盖板（4）上设置有与水槽（11）连通的进水口（5）和出水口（6），且进水口（5）和出水口（6）连接到水循环装置。2.根据权利要求1所述的一种半自动曝光机曝光台面的水冷装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈振才，邱田生，
申请(专利权)人：东莞市多普光电设备有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44