化学水浴镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术是关于一种化学水浴镀膜装置。该装置包括反应槽、馈入单元和流速控制单元；馈入单元，位于反应槽内，馈入单元用于将反应槽外的反应液注入反应槽内；流速控制单元，包括气管，气管位于反应槽内，所述气管的管壁上包括喷气口，且喷气口浸于反应液中，通过喷气口将气管内的气体喷入反应液。该技术方案可以加快反应槽内的反应液的流动速度，从而提升反应槽内反应液的温度、浓度的均匀性，以使得浸入反应液中的待镀膜衬板上的镀膜厚度更均匀，可以在改善待镀膜衬板上的镀膜厚度的均匀性的同时，保证镀膜的效率。

Chemical Water Bath Coating Device

【技术实现步骤摘要】
化学水浴镀膜装置
本技术涉及表面工程
，尤其涉及一种化学水浴镀膜装置。
技术介绍
在铜铟镓硒薄膜太阳能电池的多层薄膜结构中，硫化镉薄膜作为缓冲层对电池的光电转换效率的提升具有重要影响。在硫化镉薄膜的制备技术中，化学水浴沉积技术被广泛使用，采用化学水浴沉积技术的衬底立式镀膜方法是一种常用的硫化镉薄膜制备方法，多用于制备大尺寸的铜铟镓硒薄膜太阳能电池所需的硫化镉薄膜，且生产效率高。在相关技术中，衬底立式镀膜方法中所采用的化学水浴镀膜装置在衬底上沉积硫化镉薄膜时，由外部加热器加热的反应液从安装在反应槽底部的馈入管的上喷射口持续不断地馈入反应槽内，如此，为反应槽内的立式衬底镀膜。然而，利用该方法向反应槽内馈入反应液时，反应槽内反应液流速缓慢，存在反应液浓度和温度从反应槽底部至顶部梯度递减的问题，致使在沉积大面积衬底时，衬底同一表面的上、下部所沉积的硫化镉薄膜的厚度严重不一致。相关技术中，通常采用主动降低反应槽内反应液浓度的方法来解决上述问题，但是此解决方法不仅成效较小，还降低了镀膜的效率。
技术实现思路
为了在提高镀膜厚度的均匀程度的同时保证镀膜的效率，本技术实施例提供一种化学水浴镀膜装置。该技术方案如下：根据本技术实施例的第一方面，提供一种化学水浴镀膜装置，包括：反应槽、馈入单元和流速控制单元；所述馈入单元，位于所述反应槽内，所述馈入单元用于将所述反应槽外的反应液注入所述反应槽内；所述流速控制单元，包括气管，所述气管位于所述反应槽内，所述气管的管壁上包括喷气口，且所述喷气口浸于所述反应液中，通过所述喷气口将所述气管内的气体喷入所述反应液。在一个实施例中，所述气管的个数为N，所述N大于等于1。在一个实施例中，所述化学水浴镀膜装置还包括M个调压阀，分别连通所述N个气管，用于控制输入所述N个气管的气体的流动速度，所述M为大于等于1的整数。在一个实施例中，距离所述馈入单元不同距离的所述气管所连接的所述调压阀不同。在一个实施例中，所述N个气管均与所述馈入单元平行，且所述N个气管固定在所述反应槽内的不同高度处。在一个实施例中，所述喷气口的侧壁设置有螺纹。在一个实施例中，所述馈入单元包括喷射口，所述喷射口用于将所述馈入单元内的反应液注入所述反应槽；所述气管上的喷气口与所述馈入单元上的喷射口的开口方向一致。在一个实施例中，所述反应槽还包括：通孔和固定件；所述通孔，位于所述反应槽的侧壁，所述气管穿过所述通孔与所述气体输入单元连通；所述固定件，用于将穿过所述通孔的气管固定于所述反应槽上。在一个实施例中，所述装置还包括气体输入单元，位于所述反应槽外，且连通所述N个气管，用于向所述N个气管内输入气体。在一个实施例中，所述气管的直径为5mm～15mm，所述喷气口的直径为1mm～2mm。本技术实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:采用上述化学水浴镀膜装置对待镀膜衬板的表面进行镀膜时，通过向反应槽内喷入气体，可以加快反应槽内的反应液的流动速度，从而提升反应槽内反应液的温度、浓度的均匀性，以使得浸入反应液中的待镀膜衬板上的镀膜厚度更均匀，在改善待镀膜衬板上的镀膜厚度的均匀性的同时，也保证了镀膜的效率。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本技术。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本技术的实施例，并与说明书一起用于解释本技术的原理。图1是根据一示例性实施例示出的化学水浴镀膜装置的的主视结构示意图。图2是根据一示例性实施例示出的反应槽的侧视结构示意图。图3是根据一示例性实施例示出的化学水浴镀膜装置的主视结构示意图。图4是根据一示例性实施例示出的化学水浴镀膜装置的侧视结构示意图。图5是根据一示例性实施例示出的化学水浴镀膜装置的主视结构示意图。具体实施方式这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本技术相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本技术的一些方面相一致的设备和方法的例子。本技术实施例提供的技术方案涉及一种化学水浴镀膜装置，图1是根据一示例性实施例示出的化学水浴镀膜装置的主视结构示意图。如图1所示，化学水浴镀膜装置包括：反应槽10、馈入单元20和流速控制单元30。如图1所示，馈入单元20位于反应槽10内，馈入单元20的输入端位于反应槽10外，馈入单元20用于将反应槽10外的反应液注入反应槽10内。示例的，反应液可以为包含醋酸镉、硫脲、氨和去离子水的反应镀液，以通过与放置于反应槽10内的待镀膜衬板发生化学反应，从而在所述待镀膜衬板上沉积硫化镉薄膜层，该待镀膜衬板可以为镀有铜铟镓硒薄膜的衬板。示例的，如图1所示，馈入单元20可以位于反应槽10的底部，以将反应槽10的外部的反应液从反应槽10槽内的底部馈入反应槽10内。当然，馈入单元20也可以位于反应槽10的顶部或中间等其他位置处，本技术在此不做具体限制。如图1所示，流速控制单元30包括气管31，气管31位于反应槽10内，且气管31的输入端位于反应槽10外。气管31的管壁上包括喷气口310，喷气口310浸于所述反应液中，通过喷气口310将气管31内的气体喷入反应槽10，以加快反应槽10内反应液的流动速度，从而提升反应槽10内反应液的温度、浓度的均匀性。这里，气管31可以设置在反应槽10内的任意位置处，只要保证喷气口310浸于所述反应液中即可，例如，如图1所示，气管31可以分别位于反应槽10槽内的中间位置以及靠近槽顶的位置处，如此可分别对反应槽内中间位置处的反应液与靠近槽顶位置处的反应液施加扰动力，使得反应槽内中间位置处的反应液与靠近槽顶位置处的反应液快速流动，保证了反应槽10内反应液浓度、温度的均匀性。图2是根据一示例性实施例示出的反应槽的侧视结构示意图，如图2所示，反应槽10内还包括固定结构，用于将竖直放置于反应槽10内的待镀膜衬板2固定在反应槽10内，本实施例在此对固定结构不作具体限制，只要可将竖直放置于反应槽10内的待镀膜衬板2固定即可。这里，待镀膜衬板2可以是镀有铜铟镓硒薄膜的玻璃衬板。如图2所示，两片待镀膜衬板2的待镀膜面相对，馈入单元20位于两片待镀膜衬板2之间，用于从两片待镀膜衬板2之间的位置处将反应液注入反应槽10内。两个气管31同样位于两片待镀膜衬板2之间且位于馈入单元20上方的不同高度处，以在不同高度处向两片待镀膜衬板2之间喷射气体，从而使得两片待镀膜衬板2之间的反应液的浓度、温度更均匀，以提高浸入反应液中的两片待镀膜衬板2的待镀膜面上的镀膜厚度的均匀性。这里，每个气管31管壁上的喷气口310可以是以预设密度设置在气管31上，例如，喷气口310可以是以预设密度均匀地设置在气管31的管壁上，以使得气管31内的气体均匀地喷入反应槽10的反应液中，从而气管31所在位置处的反应液的流动速度相同，从而使反应液均匀扩散。这里，气管31内的气体是不会对镀膜产生污染的气体，示例的，该气体可以是洁净干燥的空气，也可以是惰性气体等。这里，馈入单元20和气管31的材质可以为聚氯乙烯。聚氯乙烯具有较好的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种化学水浴镀膜装置，其特征在于，包括：反应槽、馈入单元和流速控制单元；所述馈入单元，位于所述反应槽内，所述馈入单元用于将所述反应槽外的反应液注入所述反应槽内；所述流速控制单元，包括气管，所述气管位于所述反应槽内，所述气管的管壁上包括喷气口，且所述喷气口浸于所述反应液中，通过所述喷气口将所述气管内的气体喷入所述反应液。

【技术特征摘要】
1.一种化学水浴镀膜装置，其特征在于，包括：反应槽、馈入单元和流速控制单元；所述馈入单元，位于所述反应槽内，所述馈入单元用于将所述反应槽外的反应液注入所述反应槽内；所述流速控制单元，包括气管，所述气管位于所述反应槽内，所述气管的管壁上包括喷气口，且所述喷气口浸于所述反应液中，通过所述喷气口将所述气管内的气体喷入所述反应液。2.如权利要求1所述的化学水浴镀膜装置，其特征在于，所述气管的个数为N，所述N大于等于1。3.如权利要求2所述的化学水浴镀膜装置，其特征在于，所述装置还包括：M个调压阀，分别连通所述N个气管，用于控制输入所述N个气管的气体的流动速度，所述M为大于等于1的整数。4.如权利要求3所述的化学水浴镀膜装置，其特征在于，距离所述馈入单元不同距离的所述气管与不同的所述调压阀对应连接。5.如权利要求1所述的化学水浴镀膜装置，其特征在于，所述N个气管均与所述馈入单元平行，且所述N...

【专利技术属性】
技术研发人员：惠述伟，
申请(专利权)人：华夏易能广东新能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44