成膜装置制造方法及图纸

根据本发明专利技术的成膜装置具备：腔室；在所述腔室之中保持基板的保持部；以所述基板通过所述腔室之中的成膜区域的方式而使保持所述基板的所述保持部移动的驱动部；向所述成膜区域供应成膜物质从而将膜形成于正通过所述成膜区域的所述基板的成膜部；以及冷却所述保持部的冷却部。

Film forming device

【技术实现步骤摘要】
成膜装置本申请是国际申请号为PCT/JP2015/067908、中国申请号为201580054834.3、申请日为2015年6月22日、专利技术名称为“成膜装置”的专利技术申请的分案申请。
本专利技术是关于在基板形成膜的成膜装置。
技术介绍
在电子装置的制造中，可凭借等离子PVD或等离子CVD等的等离子处理而在基板形成各种的膜。例如，专利文献1记载边搬送基板边在该基板上形成膜的成膜装置。在如此的成膜装置中，经受处理的基板被加热，可能偏离处理用的适当温度或变形。尤其，在树脂基板等中，变形量可能变大而成为问题。另一方面，存在将膜形成于基板的两个面两者上的成膜装置。在记载于专利文献2的成膜装置中，在成膜部在基板的一个面形成膜后，基板被从成膜部移出并移动至载体旋转部。载体旋转部将保持基板的载体载置构件旋转180度。被旋转的基板送回成膜部，成膜部在另一面形成膜。在这种成膜装置中由于搬送次数、搬送时间等增加的原因，存在产量低的问题。此外，在为了谋求产量的提升同时处理多个基板的情况下，存在一个成膜部将膜形成于其他成膜部的问题。先前技术文献专利文献专利文献1：日本专利技术专利公开2014-58698号公报专利文献2：日本专利技术专利公开2014-28999号公报
技术实现思路
本专利技术的第一方面的目的在于提供一种技术，其有利于在边搬送基板边在基板上形成膜的成膜装置中抑制基板的变形。本专利技术之第一方面涉及一种成膜装置，该成膜装置具备：腔室；保持部，用于在所述腔室中保持基板；驱动部，用于移动保持所述基板的所述保持部，使得所述基板通过所述腔室中的成膜区域；成膜部，用于通过向所述成膜区域供应成膜物质而将膜形成于正通过所述成膜区域的所述基板；以及冷却部，用于冷却所述保持部。本专利技术的第二方面的目的在于提供有利于产量的提升的技术。本专利技术的第二方面涉及一种成膜装置，用于在均具有第一面及第二面的多个基板中的每个基板的所述第一面及所述第二面中的每一面上形成膜，所述成膜装置具备：腔室；保持部，所述保持部具有彼此位于相反侧上的第一夹具及第二夹具并且构成为，在所述腔室中，由所述第一夹具保持基板的所述第二面一侧，由所述第二夹具保持基板的所述第一面一侧；驱动部，用于移动所述保持部，使得分别由所述第一夹具和所述第二夹具保持的基板通过所述腔室中的成膜区域；第一成膜部，用于在由所述第一夹具保持的基板上形成膜；第二成膜部，用于在由所述第二夹具保持的基板上形成膜；以及操作机构，用于在所述第二面一侧由所述第一夹具所保持并且由第一成膜部在所述第一面上形成膜的情况下操作所述基板使得所述第一面一侧由所述第二夹具所保持。本专利技术的第三方面的目的在于提供一种技术，其有利于解决在为了谋求产量的提升能够同时处理多个基板的情况下出现的问题。本专利技术的第三方面涉及一种成膜装置，具备：腔室；保持部，所述保持部具有彼此位于相反侧上的第一夹具及第二夹具，并且构造为，在所述腔室中，分别由所述第一夹具和所述第二夹具保持基板；驱动部，用于使所述保持部移动，使得分别由所述第一夹具和所述第二夹具保持的基板通过所述腔室中的成膜区域；第一成膜部，用于在由所述第一夹具所保持的所述基板上形成膜；以及第二成膜部，用于在由所述第二夹具所保持的基板上形成膜；其中，所述保持部包含分离部，用于将所述第一成膜部一侧的空间与所述第二成膜部一侧的空间分离，使得在形成膜期间在所述保持部的可动范围中所述第一成膜部与所述第二成膜部不会彼此面对。【附图说明】图1是本专利技术的一个实施例的成膜装置以平行于水平面的面截取的示意性的剖面图。图2A是本专利技术的一个实施例的成膜装置的一部分以沿着竖直方向的面截取的剖面图。图2B是本专利技术的一个实施例的成膜装置的一部分以沿着竖直方向的面作切断下的剖面图。图3是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图4是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图5是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图6是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图7是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图8是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图9是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图10是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图11是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图12是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图13是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图14是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图15是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图16是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图17是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图18是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图19是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图20是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图21是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图22是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。图23是针对本专利技术的一个实施例的具体的操作例进行说明的图。【具体实施方式】以下，边参照附图边针对本专利技术透过其例示性的实施例进行说明。图1是将本专利技术的一个实施例的成膜装置1以平行于水平面的面截取的示意性的剖面图。图2A、2B是将成膜装置1的一部分以沿着竖直方向的面截取的剖面图。这里，XY平面是平行于水平面的面，Z轴是平行于竖直方向的轴。成膜装置1构成为在基板S(S1、S2…)上形成膜的装置。在此说明书中，虽然使用用于相对区别多个基板用的如S1、S2、S3、S4的符号。在无须相对区别基板的情况下，它们记载为基板S。每个基板S可在其由载体CR所保持的状态下被搬送和处理。成膜装置1除用于进行在基板S(S1、S2…)上形成膜的处理用的腔室(也可称作成膜腔室或主腔室)50以外，还可具备平台10及真空进样室30。平台10可用于在与其他装置之间传递/接收基板S。在平台10与真空进样室30之间设有阀20，在真空进样室30与腔室50之间系设有阀40。成膜装置1可在腔室50之中具备保持基板S的保持部60。保持部60可具有彼此配置于相反侧的第一夹具CH1及第二夹具CH2。第一夹具CH1及第二夹具CH2均可包含例如静电夹具或机械式夹具。成膜装置1可具备以基板S通过腔室50之中的成膜区域FFA的方式使保持着基板S的保持部60沿着移动路径TP而移动的驱动部110。驱动部110可包含例如线性马达或滚珠螺杆机构。移动路径TP例如平行于基板S的处理目标面。成膜装置1可具备通过将成膜物质供应于成膜区域FFA从而将膜形成于正通过成膜区域FFA的基板S的成膜部FF。这里，成膜区域FFA是在期中在基板S上形成膜的区域。成膜部FF可构成为在由第一夹具CH1所保持的基板S(方便上，称作第一基板)、由第二夹具CH2所保持的其他基板S(方便上，称作第二基板)上同时形成膜。第一基板及第二基板均具有是彼此相反侧的面的第一面及第二面。对于第一基板及第二基板中的每个，可在由第一夹具CH1保持第二面一侧的状态下通过成膜部FF在第一面形成膜，在由第二夹具CH2保持第一面一侧的状态下通过成膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种成膜装置，用于在均具有第一面及第二面的多个基板中的每个基板的所述第一面及所述第二面中的每个面上形成膜，所述成膜装置具备：腔室；保持部，所述保持部具有彼此位于相反侧上的第一夹具及第二夹具并且构成为，在所述腔室中，由所述第一夹具保持基板的所述第二面一侧，由所述第二夹具保持基板的所述第一面一侧；驱动部，用于移动所述保持部，使得分别由所述第一夹具和所述第二夹具保持的基板通过所述腔室中的成膜区域；第一成膜部，用于在由所述第一夹具保持的基板上形成膜；第二成膜部，用于在由所述第二夹具保持的基板上形成膜；以及操作机构，用于在所述第二面一侧由所述第一夹具所保持并且由第一成膜部在所述第一面上形成膜的情况下操作所述基板使得所述第一面一侧由所述第二夹具所保持。

【技术特征摘要】
2014.10.10 JP 2014-2093801.一种成膜装置，用于在均具有第一面及第二面的多个基板中的每个基板的所述第一面及所述第二面中的每个面上形成膜，所述成膜装置具备：腔室；保持部，所述保持部具有彼此位于相反侧上的第一夹具及第二夹具并且构成为，在所述腔室中，由所述第一夹具保持基板的所述第二面一侧，由所述第二夹具保持基板的所述第一面一侧；驱动部，用于移动所述保持部，使得分别由所述第一夹具和所述第二夹具保持的基板通过所述腔室中的成膜区域；第一成膜部，用于在由所述第一夹具保持的基板上形成膜；第二成膜部，用于在由所述第二夹具保持的基板上形成膜；以及操作机构，用于在所述第二面一侧由所述第一夹具所保持并且由第一成膜部在所述第一面上形成膜的情况下操作所述基板使得所述第一面一侧由所述第二夹具所保持。2.如权利要求1所述的成膜装置，还具备：搬送机构，用于在所述保持部与所述操作机构之间搬送所述基板，其中，所述驱动部使所述保持部沿着移动路径移动；所述搬送机构将所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：野泽直之，松木信雄，坂本怜士，石原雅仁，
申请(专利权)人：佳能安内华股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP