一种高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜及制备方法技术

技术编号:21881849 阅读:34 留言:0更新日期:2019-08-17 11:07
本发明专利技术涉及一种高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜及其制备方法,利用磁控溅射方法在基体表面分层沉积制得高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜,复合薄膜厚度为1200nm~7μm,硬度为16GPa,弹性模量在180GPa以上,疲劳周次在4.35×10

A Multilayer Composite Film of High Entropy Alloy and Metal Glass and Its Preparation Method

【技术实现步骤摘要】
一种高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜及制备方法
本专利技术涉及合金薄膜及其制备
,具体涉及一种高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜及其制备方法。
技术介绍
2004年,中国台湾科学家叶均蔚等研究者们提出了一种全新的合金体系设计方案,即以五种或者更多的元素为主要组元的高熵合金体系。高熵合金由摩尔比接近的元素组成,每种组元的含量在5%~35%之间。高熵合金体系的混合熵很大,抑制了金属间化合物的形成,促进了简单的体心立方(BCC)或面心立方(FCC)晶体相的形成。由于高熵合金独特的组成方式,其具有很多微观和宏观上的特性,例如热力学方面的高混合熵效应、结晶学方面的晶格畸变效应、动力学上的缓慢扩散效应以及性能上的鸡尾酒效应等;其中高混合熵效应使合金易形成简单的面心立方(FCC)或体心立方(BCC)结构,晶格畸变效应和原子扩散使合金易形成非晶和析出纳米晶组织,鸡尾酒效应则使合金具备有多功能性能,从而使高熵合金拥有硬度高、耐高温、抗腐蚀以及抗氧化等诸多优良特性,在众多领域得到了广泛研究,可以适应不同作业环境要求,具有重要的实用研究价值。金属玻璃是非晶态材料大家庭的一名新成员,相比传统晶态材料来说金属玻璃具有结构上长程无序而短程有序的原子排布特征,即原子没有三维的周期性规则排列,然而这并不是说金属玻璃的原子完全无序排列,金属玻璃的近邻原子间会有一定的短程有序排列结构进而形成多面体团簇,这些团簇之间通过角、边及面的联结又可从形成一定的中程有序排列结构。因为没有晶界、位错以及第二相粒子等结构的缺陷,金属玻璃呈现出优异的力学、软磁以及耐腐蚀等性能。与常规的晶体薄膜材料相比,金属玻璃薄膜((MGTFs)具有高强度、无颗粒边晃和偏析等优点,因此MGTFs被认为没有尺寸效应。另外,MGTFs还具有良好的生物相容性和抑制大肠杆菌等功效。近年来,金属玻璃薄膜在生物纳米机器人的微机电系统(MEMS)、人体可移植芯片和医疗器材表面的应用日益增加。不仅要求金属玻璃薄膜具有抗菌性、硬度高,而且有高的疲劳韧性,当受到人体肌肉、血液循环产生的压力时不破裂。当前,金属玻璃玻璃突出特点是抗菌性和硬度高,但脆性大在交变应力作用下容易发生脆性断裂,因此具有良好疲劳韧性的金属玻璃薄膜材料越来越显示出其实用价值。
技术实现思路
为了解决金属玻璃疲劳韧性差的技术问题,而提供一种高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜及其制备方法。一种高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜,所述多层复合薄膜的结构是由高熵合金层和金属玻璃层交替沉积复合而成,将高熵合金层和金属玻璃层作为一个交替周期,后一个交替周期的高熵合金层沉积在前一个交替周期的金属玻璃层上方;其中所述高熵合金层为CoCrFeMnNi合金薄膜,所述金属玻璃层为CoCrFeNiAlY合金薄膜。进一步地,所述CoCrFeNiAlY合金薄膜是由Al80Y20铝基稀土合金与等原子比Co25Cr25Fe25Ni25磁控溅射沉积所得。进一步地,所述多层复合薄膜的厚度为1200nm~7μm;所述交替周期为2~4次。本专利技术另一方面提供一种高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜的制备方法,包括如下步骤:(1)靶材准备:以等原子比Co20Cr20Fe20Mn20Ni20合金作为靶材1;以等原子比Co25Cr25Fe25Ni25合金作为靶材2;以Al80Y20合金作为靶材3;(2)基体准备:将Si基体抛光后除杂去污,将基体固定后送入进样室,抽真空以去除基体表面残留的水膜,并使真空度≤5×10-5Pa;(3)预溅射:在溅射腔内清理靶材1、2、3表面的杂质和氧化物,预溅射过程中通过目镜不断观察电浆的颜色;预溅射完成后靶材1、2、3都处于关闭状态;(4)传送基体:预溅射完成后升起进样室和溅射腔之间的闸门,将进样室的不锈钢基体通过传送杆送入溅射腔内,抽出传送杆降落闸门;(5)沉积CoCrFeMnNi高熵合金层:打开靶材1的挡板,溅射腔内真空度≤2.5×10-6后,通入氩气,设置溅射条件氩气流量15~25sccm、工作气压0.2~0.5Pa、基体转速为50~100r/min、沉积距离10cm、功率为100~200W;打开加热器将基体加热到80℃后开启靶材1的电浆,沉积时间30~90min后关闭靶材1的电浆和工作气体,整个溅射过程冷却系统将基体温度保持在80±2℃,保证薄膜不会因热量累计而发生相变;当步骤(5)溅射结束后腔体温度冷却至20℃后再进行步骤(6);(6)沉积CoCrFeNiAlY金属玻璃层:关闭靶材1的挡板,打开靶材2、3的挡板,溅射腔内真空度≤2.5×10-6后,通入氩气,设置溅射条件氩气流量15~25sccm、工作气压为0.2~0.5Pa、基体转速为50~100r/min、沉积距离10cm、功率为100~200W;同时开启靶材2、3的电浆,沉积时间30~90min后关闭电浆和工作气体,整个溅射过程冷却系统将基体温度保持在20±2℃,保证薄膜不会因热量累计发生相变;(7)按顺序重复步骤(5)和步骤(6),最终制得高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜。进一步地,所述靶材1、靶材2、靶材3的纯度均为99.99%;所述靶材1和靶材2均是经过真空1000℃保温48h均质化处理所得;所述靶材3是经过真空300℃保温48h均质化处理所得。进一步地,步骤(2)中所述Si基体是(100)晶面取向的单晶Si;步骤(2)中所述除杂去污是将基体分别在丙酮、酒精和去离子水中超声清洗15min达到的。进一步地,步骤(3)中预溅射的条件为预溅射功率100W,真空度≤2.5×10-6Pa,氩气流量设置为20sccm,工作气压为0.4Pa,时间30min,预溅射的过程中通过目镜不断观察电浆的颜色,蓝色为最佳;预溅射靶材1时,靶材2、3的挡板是关闭状态,预溅射靶材2、3时,靶材1的挡板是关闭状态。进一步地,步骤(4)中所述升起进样室和溅射腔之间的闸门的条件必须使进样室的真空度≤2.5×10-6Pa才可以升起闸门,为了保证溅射腔的真空度。溅射过程中若真空度大于2.5×10-6Pa,会影响薄膜成分,导致薄膜材料中混入氧元素。进一步地,步骤(5)和步骤(6)中所述溅射条件为氩气流量20sccm,工作气压为0.4Pa,基体转速为100r/min,沉积距离10cm,功率为200W,沉积时间30min;所述氩气的纯度为99.99%。有益技术效果:利用磁控溅射方法在基体表面分层沉积制得高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜,复合薄膜厚度为1200nm~7μm,硬度为16GPa,弹性模量在180GPa以上,疲劳周次在4.35×105以上,将金属玻璃薄膜与高熵合金复合,可以大幅度提高疲劳性能。本专利技术的复合薄膜可应用于生物纳米机器人的微机电系统(MEMS)、人体可移植芯片和医疗器材表面等。附图说明图1为本专利技术实施例1~3所制得的高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜的疲劳损伤刚度图。具体实施方式以下结合附图及具体实施例进一步描述本专利技术,但不限制本专利技术范围。实施例1交替周期为2次的高熵合金与金属玻璃的4层复合薄膜,制备方法如下:(1)靶材准备:以高纯Co20Cr20Fe20Mn20Ni20(at%)合金作为靶材1,纯度为99.99%;以高纯Co25Cr25Fe25Ni25(at%)合金作为靶材2,纯度为99.99本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜,其特征在于,所述多层复合薄膜的结构是由高熵合金层和金属玻璃层交替沉积复合而成,将高熵合金层和金属玻璃层作为一个交替周期,后一个交替周期的高熵合金层沉积在前一个交替周期的金属玻璃层上方;其中所述高熵合金层为CoCrFeMnNi合金薄膜,所述金属玻璃层为CoCrFeNiAlY合金薄膜。

【技术特征摘要】
1.一种高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜,其特征在于,所述多层复合薄膜的结构是由高熵合金层和金属玻璃层交替沉积复合而成,将高熵合金层和金属玻璃层作为一个交替周期,后一个交替周期的高熵合金层沉积在前一个交替周期的金属玻璃层上方;其中所述高熵合金层为CoCrFeMnNi合金薄膜,所述金属玻璃层为CoCrFeNiAlY合金薄膜。2.根据权利要求1所述的一种高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜,其特征在于,所述CoCrFeNiAlY合金薄膜是由Al80Y20铝基稀土合金与等原子比Co25Cr25Fe25Ni25磁控溅射沉积所得。3.根据权利要求1所述的一种高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜,其特征在于,所述多层复合薄膜的厚度为1200nm~7μm;所述交替周期为2~4次。4.一种根据权利要求1~3任一项所述的高熵合金与金属玻璃的多层复合薄膜的制备方法,包括如下步骤:(1)靶材准备:以等原子比Co20Cr20Fe20Mn20Ni20合金作为靶材1;以等原子比Co25Cr25Fe25Ni25合金作为靶材2;以Al80Y20合金作为靶材3;(2)基体准备:将Si基体抛光后除杂去污,将基体固定后送入进样室,抽真空以去除基体表面残留的水膜,并使真空度≤5×10-5Pa;(3)预溅射:在溅射腔内清理靶材1、2、3表面的杂质和氧化物,预溅射过程中通过目镜不断观察电浆的颜色;预溅射完成后靶材1、2、3都处于关闭状态;(4)传送基体:预溅射完成后升起进样室和溅射腔之间的闸门,将进样室的不锈钢基体通过传送杆送入溅射腔内,抽出传送杆降落闸门;(5)沉积CoCrFeMnNi高熵合金层:打开靶材1的挡板,溅射腔内真空度≤2.5×10-6后,通入氩气,设置溅射条件氩气流量15~25sccm、工作气压0.2~0.5Pa、基体转速为50~100r/min、沉积距离10cm、功率为100~200W;打开加热器将基体加热到80℃后开启靶材1的电浆,沉积时间30~90min后关闭靶材1的电浆和工作气体,整个溅射过程冷却系统将基体温度保持在80±2℃,保证薄膜不会因热量累计而发生相变;当步骤(5)溅射结束后腔体温度冷却至20℃后再进...

【专利技术属性】
技术研发人员:王泽姚远远彭涛仇建国吴建珍杨桂东杨晓红李小平卢雅琳雷卫宁孙志娟叶霞
申请(专利权)人:江苏理工学院
类型:发明
国别省市:江苏,32

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