折射率可变的介质膜的镀膜方法及含有该介质膜的颜色膜技术

本发明专利技术公开了折射率可变的介质膜的镀膜方法及含有该介质膜的颜色膜，包括如下步骤：提供待镀膜的基板；采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化。传统的介质膜的折射率固定不变，本发明专利技术中，采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化，可以据需求实现多种颜色膜的制备，呈现丰富多彩的不同颜色，使颜色膜的制备更具灵活性和多变性，镀膜工艺稳定、简单，对设备配置要求较低，从而减少了设备投入，节省了镀膜成本。

Coating method of dielectric film with variable refractive index and color film containing the dielectric film

【技术实现步骤摘要】
折射率可变的介质膜的镀膜方法及含有该介质膜的颜色膜
本专利技术涉及镀膜
，特别是涉及了折射率可变的介质膜的镀膜方法及含有该介质膜的颜色膜。
技术介绍
随着人们生活水平的提高，手机等电子产品已经成为人们必不可少的日常用品，近些年，消费者不仅对手机性能的要求越来越高，同时对其舒适度及外观的要求也在不断提高，有愈来愈多的使用者希望自己所使用的产品是一个特殊且与众不同的产品，可见，这些使用者对于现阶段电子产品的外观的不满以及对于电子产品外观的创新与改变肯定也有很多的期待。面对消费者越来越高的要求，当很多厂家在不断寻求技术创新和功能创新来迎合环境、节能和差化的发展趋势的同时，为了博得大众的眼球、获得消费者的青睐，不断的就产品的外观进行改进。为了满足对电子产品外观的颜色多样性的要求，炫彩的颜色膜在产品外观设计上得到了越来越广泛的应用。现有的颜色膜通常是由第一介质膜和第二介质膜交替排列的堆叠膜层，其中所述第一介质膜的折射率高于所述第二介质膜的折射率，第一介质膜通常采用氮化硅膜，第二介质膜通常采用氧化硅膜，由于第一介质膜和第二介质膜的折射率是固定不变的，颜色膜的颜色变化不够丰富。
技术实现思路
为了弥补已有技术的缺陷，本专利技术提供折射率可变的介质膜的镀膜方法及含有该介质膜的颜色膜。本专利技术所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：折射率可变的介质膜的镀膜方法，包括如下步骤：提供待镀膜的基板；采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化。进一步地，所述介质膜的折射率在1.46-2.0之间变化。一种颜色膜，是由第一介质膜和第二介质膜交替排列的堆叠膜层，所述第一介质膜的折射率高于所述第二介质膜的折射率，其中，所述第一介质膜和第二介质膜均采用上述镀膜方法制备得到。本专利技术具有如下有益效果：传统的介质膜的折射率固定不变，本专利技术中，采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化，可以据需求实现多种颜色膜的制备，呈现丰富多彩的不同颜色，使颜色膜的制备更具灵活性和多变性，镀膜工艺稳定、简单，对设备配置要求较低，从而减少了设备投入，节省了镀膜成本。具体实施方式下面结合实施例对本专利技术进行详细的说明，实施例仅是本专利技术的优选实施方式，不是对本专利技术的限定。现有的颜色膜通常是由第一介质膜和第二介质膜交替排列的堆叠膜层，其中所述第一介质膜的折射率高于所述第二介质膜的折射率，第一介质膜通常采用氮化硅膜，第二介质膜通常采用氧化硅膜，颜色膜的颜色主要源自于介质膜，由于第一介质膜和第二介质膜的折射率是固定不变的，只能通过调整介质膜的材质、膜厚和层数从而获得多种颜色膜，颜色膜的制备过程灵活性和多变性不足，无法满足消费者的需求。基于此，本专利技术提供一种折射率可变的介质膜的镀膜方法，包括如下步骤：提供待镀膜的基板；本专利技术对基板的材质不作具体限定，例如可以是玻璃基板，本实施例的基板包括但不限于前面所列举的几种材料，也可以是其他未列举在本实施例中的但被本领域技术人员所熟知的其他材料。采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化。可以理解，当分别以氮气和氧气作为反应气体制备介质膜时，介质膜的折射率分别为2.0和1.46，本专利技术中以氮气和氧气作为反应气体，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化，所述介质膜的折射率在1.46-2.0之间变化。本专利技术中，所述的介质膜由真空腔体内溅射的硅靶材与反应气体反应并沉积而成。本专利技术对真空镀膜的具体工艺参数不作具体限定，其结构和原理都为本技术人员均可通过技术手册得知或通过常规实验方法获知，本领域技术人员可以根据实际需要进行调整。本专利技术还提供一种颜色膜，是由第一介质膜和第二介质膜交替排列的堆叠膜层，所述第一介质膜的折射率高于所述第二介质膜的折射率，其中，所述第一介质膜和第二介质膜均采用上述镀膜方法制备得到。需要说明的是，颜色膜是由第一介质膜和第二介质膜交替排列的堆叠膜层，所述第一介质膜的折射率高于所述第二介质膜的折射率，利用第一介质膜和第二介质膜的折射率不同，使得颜色膜的整体反射率不同，能够反射出不同颜色的光，从而使得用户人眼看到显示不同的颜色的产品。以上所述实施例仅表达了本专利技术的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本专利技术专利范围的限制，但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案，均应落在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.折射率可变的介质膜的镀膜方法，其特征在于，其包括如下步骤：提供待镀膜的基板；采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化。

【技术特征摘要】
1.折射率可变的介质膜的镀膜方法，其特征在于，其包括如下步骤：提供待镀膜的基板；采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化。2.如权利要求1所述的折射率可变的介质膜的镀...

【专利技术属性】
技术研发人员：李军旗，曾一鑫，
申请(专利权)人：信利光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44