具有镜面光泽的PVD处理工艺制造技术

技术编号:21881797 阅读:26 留言:0更新日期:2019-08-17 11:06
本发明专利技术涉及PVD处理工艺技术领域,具体涉及具有镜面光泽的PVD处理工艺,包括前处理:对基材进行清洗,风干预处理;抛光:对基材表面进行抛光处理;清洗:对基材抛光后进行清洗;喷涂反光漆:对基材进行真空喷涂反光漆;红外线烘烤:烘烤时间4‑6min;紫外固化:在紫外固化室对底漆进行固定,清洗:对固化后的基材进行清洗;静电除尘;制备TiN、SiN交替层:通过磁控溅射制备TiN、SiN交替层;注入高能离子:通过离子注入机注入高能离子。本发明专利技术通过喷刷反光漆使得基体达到反光效果,通过TiN、SiN交替生长,TiN、SiN交替层晶体结构产生晶化,通过往TiN、SiN交替层注入TiN和SiN离子,高能离子对TiN、SiN交替层产生的轰击效应能够在硬质薄膜表面引入压应力效应。

Processing Technology of PVD with Mirror Gloss

【技术实现步骤摘要】
具有镜面光泽的PVD处理工艺
本专利技术涉及PVD处理工艺
,具体涉及具有镜面光泽的PVD处理工艺。
技术介绍
随着社会的不断进步,科技的不断发展,人们的生活也随之品质不断上升,在日常生活中,便携式电子产品是人们出门的必需品之一,如平板电脑、手机等已逐渐成为了生活中的刚需品,这类电子产品的外壳为了提高其美观度,通常会做成具有镜面光泽的外壳,但现有的带有镜面光泽的外壳容易被划伤,易碎、易氧化,并且会容易留下指纹,导致非常不美观。并且现有技术对于生产具有镜面光泽的PVD处理工艺通常步骤为前处理、底漆喷涂、烘烤、固化、镀膜、中漆喷涂、再烘烤、再固化、面漆喷涂、终极烘烤、终极固化,完成整个步骤,这类PVD处理方式步骤过于繁琐,并且无法克服上述缺陷,仅能保证出产的时候外壳具有镜面效果,无法保证长期具有镜面效果。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服现有技术的不足和缺陷,提供一种强度高,不易碎,带有镜面光泽的PVD处理工艺。本专利技术的目的是通过以下技术方案来实现的:具有镜面光泽的PVD处理工艺,包括以下步骤:(1)前处理:对基材进行清洗,风干预处理;(2)抛光:对基材表面进行抛光处理;(3)清洗:对基材抛光后进行清洗;(4)喷涂反光漆:对基材进行真空喷涂反光漆;(5)红外线烘烤:烘烤温度为55℃-65℃,烘烤时间4-6min;(6)紫外固化:在紫外固化室对底漆进行固定,固化能量为1200-1500mj/cm2,强度100-130mw/cm2;(7)清洗:对固化后的基材进行清洗;(8)静电除尘:采用往复式高压静电除尘;(9)制备TiN、SiN交替层:通过磁控溅射制备TiN、SiN交替层;(10)注入高能离子:通过离子注入机注入高能离子;具体的,所述步骤(3)、步骤(7)中清洗是采用清洗设备经过喷淋、浸淋、超声、漂洗、干燥工序,使基体获得清洁的表面。具体的,所述步骤(4)中喷涂反光漆厚度为0.5-0.8μm。具体的,所述反光漆为丙烯酸树酯类漆料,如:环氧丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂或丙烯酸改性树脂。具体的,步骤(9)中的制备TiN、SiN交替层的工艺条件为:1)磁控溅射的准备:将基材放置在基托上,真空室抽至(1.5~3)×10-2Pa的高真空后,将TiN和SiN作为溅射靶材安装到磁控射频溅射靶中,通入惰性气体(如氩气),使真空度达到0.2-0.3Pa,2)磁控溅射制备TiN、SiN交替层:将待溅射的基材旋转至TiN靶位,通入TiN靶位的频射电源,频射结束后得到3-7nm的TiN薄膜层,TiN薄膜层制备完成后关闭TiN靶位的频射电源;将基材旋转至SiN靶位,通入SiN靶位的频射电源,频射结束后得到20-30nmSiN薄膜层,SiN薄膜层,制备完成后关闭SiN靶位的频射电源;重复上述溅射TiN层和SiN层的操作至总薄膜厚度达到70-100nm。具体的,所述步骤2)中TiN层溅射速率为4s/nm,SiN层溅射速率为18s/nm。具体的,步骤(10)中注入离子的种类为TiN和SiN,注入TiN和SiN比例为1:2,注入离子的能量为40-80kev,注入离子的剂量为3×1013ions/cm2~5×1015ions/cm2。本专利技术相比现有技术包括以下优点及有益效果:(1)本专利技术通过喷刷反光漆使得基体达到反光效果,通过TiN、SiN交替生长,TiN、SiN交替层晶体结构产生晶化,使得TiN、SiN交替层形成共格外延生长的多晶超晶格,与之相应,TiN、SiN交替层产生硬度和弹性模量升高的的超硬效应,通过往TiN、SiN交替层注入TiN和SiN离子,高能离子对TiN、SiN交替层产生的轰击效应能够在硬质薄膜表面引入压应力效应,应力效应能够显著抑制薄膜表面微裂纹的产生,使得TiN、SiN交替层不仅具有超硬效应,还具有极强的韧性。具体实施方式下面结合实施例对本专利技术作进一步详细的描述,但本专利技术的实施方式不限于此。具有镜面光泽的PVD处理工艺,包括以下步骤:(1)前处理:对基材进行清洗,风干预处理;对基材表面油渍等清洗干净。(2)抛光:对基材表面进行抛光处理;采用磨抛机使用抛光轮,将基材表面抛光,抛光后的基材表面光滑、平整、光洁。(3)清洗:对基材抛光后进行清洗;将抛光后的基体进行清洗干净。(4)喷涂反光漆:对基材进行真空喷涂反光漆;使得基体表面获得镜面光泽效果。(5)红外线烘烤:烘烤温度为55℃-65℃,烘烤时间4-6min;对反光漆表面进行初步硬化。(6)紫外固化:在紫外固化室对底漆进行固定,固化能量为1200-1500mj/cm2,强度100-130mw/cm2;对反光漆表面进行完全固化,保证漆膜不变色。(7)清洗:对固化后的基材进行清洗;对固化后的反光漆进行清洗。(8)静电除尘:采用往复式高压静电除尘;采用往复式高压静电除尘,无死角,提高产品合格率。(9)制备TiN、SiN交替层:通过磁控溅射制备TiN、SiN交替层;通过TiN、SiN交替生长,TiN、SiN交替层晶体结构产生晶化,使得TiN、SiN交替层形成共格外延生长的多晶超晶格,最终达到TiN、SiN交替层产生硬度和弹性模量升高的的超硬效应;当TiN、SiN交替层具有超硬效应后普通材料无法对反光漆产生刮痕,使得反光漆能够长期保持反光效果,并且由于TiN、SiN交替层将反光漆完全包覆,使得反光漆不容易与空气反应进行氧化,进一步保持了反光效果。(10)注入高能离子:通过离子注入机注入高能离子;通过在TiN、SiN交替层注入高能离子,高能离子对TiN、SiN交替层产生的轰击效应能够在硬质薄膜表面引入压应力效应,加上高能离子在TiN、SiN交替层表面形成的扎钉效应,两种效果共同作用能够显著抑制薄膜表面微裂纹的产生,使得TiN、SiN交替层不仅具有超硬效应,还具有极强的韧性;除此之外,高能离子在TiN、SiN交替层表面容易带电,使得TiN、SiN交替层表面不容易粘上灰尘,也不容易留下指纹。具体的,所述步骤(3)、步骤(7)中清洗是采用清洗设备经过喷淋、浸淋、超声、漂洗、干燥工序,使基体获得清洁的表面。具体的,所述步骤(4)中喷涂反光漆厚度为0.5-0.8μm。具体的,所述反光漆为丙烯酸树酯类漆料,如:环氧丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂或丙烯酸改性树脂。具体的,步骤(9)中的制备TiN、SiN交替层的工艺条件为:1)磁控溅射的准备:将基材放置在基托上,真空室抽至(1.5~3)×10-2Pa的高真空后,将TiN和SiN作为溅射靶材安装到磁控射频溅射靶中,通入惰性气体(如氩气),使真空度达到0.2-0.3Pa,2)磁控溅射制备TiN、SiN交替层:将待溅射的基材旋转至TiN靶位,通入TiN靶位的频射电源,频射结束后得到3-7nm的TiN薄膜层,TiN薄膜层制备完成后关闭TiN靶位的频射电源;将基材旋转至SiN靶位,通入SiN靶位的频射电源,频射结束后得到20-30nmSiN薄膜层,SiN薄膜层,制备完成后关闭SiN靶位的频射电源;重复上述溅射TiN层和SiN层的操作至总薄膜厚度达到70-100nm。具体的,所述步骤2)中TiN层溅射速率为4s/nm,SiN层溅射速率为18s/nm。具体的,步骤(10)中注入离子的种类为TiN和SiN,注入TiN和SiN比例为1:2,注入离子的能量为40-80本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.具有镜面光泽的PVD处理工艺,其特征在于,包括以下步骤:(1)前处理:对基材进行清洗,风干预处理;(2)抛光:对基材表面进行抛光处理;(3)清洗:对基材抛光后进行清洗;(4)喷涂反光漆:对基材进行真空喷涂反光漆;(5)红外线烘烤:烘烤温度为55℃‑65℃,烘烤时间4‑6min;(6)紫外固化:在紫外固化室对底漆进行固定,固化能量为1200‑1500mj/cm

【技术特征摘要】
1.具有镜面光泽的PVD处理工艺,其特征在于,包括以下步骤:(1)前处理:对基材进行清洗,风干预处理;(2)抛光:对基材表面进行抛光处理;(3)清洗:对基材抛光后进行清洗;(4)喷涂反光漆:对基材进行真空喷涂反光漆;(5)红外线烘烤:烘烤温度为55℃-65℃,烘烤时间4-6min;(6)紫外固化:在紫外固化室对底漆进行固定,固化能量为1200-1500mj/cm2’强度100-130mw/cm2;(7)清洗:对固化后的基材进行清洗;(8)静电除尘:采用往复式高压静电除尘;(9)制备TiN、SiN交替层:通过磁控溅射制备TiN、SiN交替层;(10)注入高能离子:通过离子注入机注入高能离子。2.根据权利要求1所述的具有镜面光泽的PVD处理工艺,其特征在于,所述步骤(3)、步骤(7)中清洗是采用清洗设备经过喷淋、浸淋、超声、漂洗、干燥工序,使基体获得清洁的表面。3.根据权利要求1所述的具有镜面光泽的PVD处理工艺,其特征在于,所述步骤(4)中喷涂反光漆厚度为0.5-0.8μm。4.根据权利要求1所述的具有镜面光泽的PVD处理工艺,其特征在于,所述反光漆为丙烯酸树酯类漆料,如:环氧丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂或丙烯酸改性树脂。5.根据权利要求1所述的具有镜面光泽...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈杰锋丁斐
申请(专利权)人:东莞市旺鑫精密工业有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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