多色膜的制备方法及显示面板技术

本申请提供一种多色膜的制备方法及显示面板。所述多色膜的制备方法包括将至少一块所述磁体固定设置于所述基板的一面。所述固定设置有至少一块所述磁体的基板的一面背向所述磁控溅射系统中的靶台。在真空磁控溅射过程中，所述靶材以分子或原子的形态分布。所述靶材在所述基板上沉积为薄膜层的过程中，受到所述磁体的磁场影响，会形成厚度均匀递变的薄膜层。由于所述薄膜层的厚度是无台阶渐变的，光在通过所述薄膜层时，光的反射率、折射率、色散等参数连续渐变，使得通过所述多色膜的制备方法制备的所述多色膜可以形成各种各样的渐变色膜。所述多色膜的制备方法有效避免了调试方式单一，多色膜的色彩单调的问题。

Preparation of polychromatic film and display panel

【技术实现步骤摘要】
多色膜的制备方法及显示面板
本申请涉及显示
，特别是涉及一种多色膜的制备方法及显示面板。
技术介绍
目前，电子产品的外观设计成为了一款产品能否取得成功的重要因素，这其中也包括了产品的外观颜色设计。3D颜色玻璃渐变效果是通过溅射成膜时改变玻璃基片上中下区域的成膜厚度(形成递增或递减的变化)，从而形成特定的彩虹色光带。极光色工艺即是采用某种特定的遮板，将一部分离子云遮住，只让另一部分的离子云附着在玻璃表面，形成一层极薄的纳米镀层。通过控制镀层的厚度，形成纳米级的厚度差别，再喷上底色，就实现了充满神秘感的极光色。渐变色玻璃在镀膜过程中，经常通过增加遮板或调整镀膜角度来实现渐变色的调试，这种渐变色的调试方法只能够调试上中下区域渐变效果，或者左中右渐变效果，调试方式单一，多色膜的色彩单调。
技术实现思路
基于此，有必要针对现有渐变色的调试方法调试方式单一，多色膜的色彩单调的问题，提供一种多色膜的制备方法及显示面板。一种多色膜的制备方法，采用磁控溅射系统实现所述制备方法，包括：S10，提供至少一块磁体和一块基板，将至少一块所述磁体固定设置于所述基板的一面；S20，将固定设置有至少一块所述磁体的基板固定于所述磁控溅射系统中的样品台上，所述固定设置有至少一块所述磁体的基板的一面背向所述磁控溅射系统中的靶台；S30，提供至少一种靶材，将所述靶材固定设置于所述靶台，利用磁控溅射法在所述基板上形成至少一层薄膜层，所述薄膜层的厚度无台阶渐变。在其中一个实施例中，所述S30，提供至少一种靶材，将所述靶材固定设置于所述靶台，利用磁控溅射法在所述基板上形成至少一层薄膜层的步骤包括：提供第一靶材，将所述第一靶材固定设置于所述靶台；开启所述磁控溅射系统的中频电源，充入第一预设含量的氧气后，在第一预设溅射功率和第一预设溅射速度下，得到第一氧化薄膜层。在其中一个实施例中，所述S30，提供至少一种靶材，将所述靶材固定设置于所述靶台，利用磁控溅射法在所述基板上形成至少一层薄膜层的步骤还包括：在所述第一氧化薄膜层的基础上，提供第二靶材，将所述第二靶材固定设置于所述靶台；开启所述磁控溅射系统10的中频电源，充入第二预设含量的氧气后，在第二预设溅射功率和第二预设溅射速度下，得到第二氧化薄膜层。在其中一个实施例中，当所述第一靶材与所述第二靶材均为顺磁性材料或均为逆磁性材料时，所述第二氧化薄膜层的厚度渐变规律与所述第一氧化薄膜层的厚度渐变规律相同；当所述第一靶材和所述第二靶材中的一个靶材为顺磁性材料，另一个靶材为逆磁性靶材时，所述第二氧化薄膜层的厚度渐变规律与所述第一氧化薄膜层的厚度渐变规律相反。在其中一个实施例中，当所述磁体为球磁体或点磁体，所述靶材为顺磁性材料时，所述薄膜层的厚度渐变规律为由所述磁场的中心向四周无台阶变薄；当所述磁体为球磁体或点磁体，所述靶材为逆磁性材料时，所述薄膜层的厚度渐变规律为由所述磁体形成的磁场中心向四周无台阶变厚。一种显示面板，包括基板，所述基板为透明基板；以及采用上述实施例中任一项所述多色膜的制备方法制备的多色膜，所述多色膜覆盖设置于所述透明基板的一面。在其中一个实施例中，所述多色膜包括：第一氧化薄膜层，所述第一氧化薄膜层的厚度渐变范围为6nm-12nm。在其中一个实施例中，所述多色膜还包括：第二氧化薄膜层，所述第二氧化薄膜层的厚度渐变范围为35nm-65nm。在其中一个实施例中，所述第一氧化薄膜层为氧化钛层，所述第二氧化薄膜层为氧化硅层，所述氧化钛层的厚度渐变范围为7nm-11nm，所述氧化硅层的厚度渐变范围为55nm-65nm。在其中一个实施例中，所述基板为玻璃基板或树脂基板中的一种。本申请提供一种多色膜的制备方法及显示面板。所述多色膜的制备方法包括将至少一块所述磁体固定设置于所述基板的一面。所述固定设置有至少一块所述磁体的基板的一面背向所述磁控溅射系统中的靶台。在真空磁控溅射过程中，所述靶材以分子或原子的形态分布。所述靶材在所述基板上沉积为薄膜层的过程中，受到所述磁体的磁场影响，会形成厚度均匀递变的薄膜层。由于所述薄膜层的厚度是无台阶渐变的，光在通过所述薄膜层时，光的反射率、折射率、色散等参数连续渐变，使得通过所述多色膜的制备方法制备的所述多色膜可以形成各种各样的渐变色膜。所述多色膜的制备方法有效避免了调试方式单一，多色膜的色彩单调的问题。附图说明图1为本申请一个实施例提供多色膜的制备方法流程图；图2为本申请一个实施例提供多色膜的制备原理图；图3为本申请一个实施例提供多色膜的结构图；图4为本申请一个实施例提供多色膜的色彩效果图；图5为本申请一个实施例提供多色膜的色彩效果图；图6为本申请一个实施例提供多色膜的色彩效果图；图7为本申请一个实施例提供多色膜的色彩效果图。主要元件附图标号说明磁控溅射系统10基板101磁体201靶材310薄膜层110第一氧化薄膜层102第二氧化薄膜层103具体实施方式为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进，因此本申请不受下面公开的具体实施的限制。需要说明的是，当元件被称为“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。请参见图1，本申请一个实施例提供一种多色膜的制备方法，采用磁控溅射系统10实现所述制备方法。所述制备方法包括：S10，提供至少一块磁体201和一块基板101，将至少一块所述磁体201固定设置于所述基板101的一面。步骤S10中，所述磁体201的具体数量和形状不做具体限定。所述磁体201的具体数量和形状可以根据设计需要任意设定。在一个可选的实施例中，所述磁体201可以是永磁体。在一个可选的实施例中，所述磁体201还可以是软磁体。请参见图4，当所述磁体201为单环形磁体时，所述基板101上形成的多色膜为环形渐变的。请参见图5，当所述磁体201为双环形磁体时，所述基板101上形成的多色膜为双环形渐变相交的。请参见图6，当所述磁体201为单个圆柱形磁体时，所述基板101上形成的多色膜为中间炫彩的环形渐变的。请参见图7，当所述磁体201为两个圆柱形磁体时，所述基板101上形成的多色膜为两个中间炫彩的环形渐变相交的。所述基板101的具体结构和形状可以根据设计需要任意设定。所述基板101为玻璃基板或树脂基板中的一种。在一个可选的实施例中，所述基板101为石英玻璃基板。所述石英玻璃基板在使用前分别用丙酮、乙醇、去离子水超声清洗。清洗完成后，可以用氮气将所述石英玻璃基板吹干备用。所述磁铁可以通过固定夹具固定在所述基板101的一个外表面。所述磁铁还可以通过耐高温胶带固定在所述基板101的一个外本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种多色膜的制备方法，采用磁控溅射系统(10)实现所述制备方法，其特征在于，包括：S10，提供至少一块磁体(201)和一块基板(101)，将至少一块所述磁体(201)固定设置于所述基板(101)的一面；S20，将固定设置有至少一块所述磁体(201)的基板(101)固定于所述磁控溅射系统(10)中的样品台上，所述固定设置有至少一块所述磁体(201)的基板(101)的一面背向所述磁控溅射系统(10)中的靶台；S30，提供至少一种靶材(310)，将所述靶材(310)固定设置于所述靶台，利用磁控溅射法在所述基板(101)上形成至少一层薄膜层(110)，所述薄膜层(110)的厚度无台阶渐变。

【技术特征摘要】
1.一种多色膜的制备方法，采用磁控溅射系统(10)实现所述制备方法，其特征在于，包括：S10，提供至少一块磁体(201)和一块基板(101)，将至少一块所述磁体(201)固定设置于所述基板(101)的一面；S20，将固定设置有至少一块所述磁体(201)的基板(101)固定于所述磁控溅射系统(10)中的样品台上，所述固定设置有至少一块所述磁体(201)的基板(101)的一面背向所述磁控溅射系统(10)中的靶台；S30，提供至少一种靶材(310)，将所述靶材(310)固定设置于所述靶台，利用磁控溅射法在所述基板(101)上形成至少一层薄膜层(110)，所述薄膜层(110)的厚度无台阶渐变。2.根据权利要求1所述的多色膜的制备方法,其特征在于，所述S30，提供至少一种靶材(310)，将所述靶材(310)固定设置于所述靶台，利用磁控溅射法在所述基板(101)上形成至少一层薄膜层的步骤包括：提供第一靶材，将所述第一靶材固定设置于所述靶台；开启所述磁控溅射系统(10)的中频电源，充入第一预设含量的氧气后，在第一预设溅射功率和第一预设溅射速度下，得到第一氧化薄膜层(102)。3.根据权利要求2所述的多色膜的制备方法，其特征在于，所述S30，提供至少一种靶材(310)，将所述靶材(310)固定设置于所述靶台，利用磁控溅射法在所述基板(101)上形成至少一层薄膜层的步骤还包括：在所述第一氧化薄膜层(102)的基础上，提供第二靶材，将所述第二靶材固定设置于所述靶台；开启所述磁控溅射系统(10)的中频电源，充入第二预设含量的氧气后，在第二预设溅射功率和第二预设溅射速度下，得到第二氧化薄膜层(103)。4.根据权利要求3所述的多色膜的制备方法，其特征在于，当所述第一靶材与所述第二靶材均为顺磁性材料或均为逆磁性材料...

【专利技术属性】
技术研发人员：张迅，易伟华，郑芳平，徐彬彬，洪华俊，
申请(专利权)人：江西沃格光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江西,36