阵列基板、阵列基板的制作方法和显示面板技术

技术编号:21831276 阅读:18 留言:0更新日期:2019-08-10 17:30
本发明专利技术公开一种阵列基板、阵列基板的制作方法和显示面板,阵列基板包括衬底基板;扫描线,所述扫描线设于所述衬底基板的一表面;数据线,所述数据线位于所述扫描线背离所述衬底基板的一侧,并与所述扫描线交叠设置;以及黑色矩阵层,所述黑色矩阵层设于所述扫描线和所述数据线之间,且所述黑色矩阵层的至少部分位于所述扫描线和所述数据线的交叠处。本发明专利技术技术方案旨在减小数据线和扫描线的寄生电容,提高画素充电率,进而保证阵列基板的对比度和画质品位。

Manufacturing Method and Display Panel of Array Substrate and Array Substrate

【技术实现步骤摘要】
阵列基板、阵列基板的制作方法和显示面板
本专利技术涉及显示
,特别涉及一种阵列基板、阵列基板的制作方法和显示面板。
技术介绍
示例性技术中,VA(VerticalAlignment,垂直对齐)显示模式像素结构分为TFT(ThinFilmTransistor,薄膜晶体管)侧的像素结构和CF(ColorFilter,彩膜基板)侧的像素结构两部分。其中,TFT侧的像素结构主要实现TFT-LCD(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay,薄膜晶体管液晶显示器)的电学功能,是决定像素电容效应、配向延迟效应、灰阶电压写入特性和保持特性的主要因素;CF侧的像素结构主要实现TFT-LCD的光学功能,是决定TFT-LCD的对比度和色域度的主要因素。以及,完成VA显示从电学输入向光学输出转换的过度元素是像素负荷电容。而数据线和扫描线上一般会产生寄生电容,该部分寄生电容会干扰到像素负荷电容,并且会增大Dateloading(数据线负载)、Gateloading(扫描线负载),继而减小画素充电率,使阵列基板对比度有所下降,影响阵列基板的画质品位。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提供一种阵列基板,旨在减小数据线和扫描线的寄生电容,提高画素充电率,进而保证阵列基板的对比度和画质品位。为实现上述目的,本专利技术提供的阵列基板,包括:衬底基板;扫描线,所述扫描线设于所述衬底基板的一表面;数据线,所述数据线位于所述扫描线背离所述衬底基板的一侧,并与所述扫描线交叠设置;以及黑色矩阵层,所述黑色矩阵层设于所述扫描线和所述数据线之间,且所述黑色矩阵层的至少部分位于所述扫描线和所述数据线的交叠处。可选地,所述阵列基板还包括:栅极绝缘层,所述栅极绝缘层设于所述扫描线背离所述衬底基板的一侧,所述数据线设于所述栅极绝缘层背离所述扫描线的一侧;以及黑色矩阵层,所述黑色矩阵层设于所述数据线与所述栅极绝缘层之间。可选地,所述黑色矩阵层形成有贯穿孔,所述阵列基板还包括有源层、源极和漏极,所述有源层设于所述栅极绝缘层背离所述扫描线的表面,并位于所述贯穿孔内;所述源极和所述漏极均设于所述有源层背离所述栅极绝缘层的一侧,所述源极的至少部分伸出所述贯穿孔,并与所述数据线电性连接。可选地,所述阵列基板还包括:栅极绝缘层,所述栅极绝缘层设于所述扫描线背离所述衬底基板的一侧,所述数据线设于所述栅极绝缘层背离所述扫描线一侧;以及黑色矩阵层,所述黑色矩阵层设于所述扫描线与所述栅极绝缘层之间。可选地,所述阵列基板还包括:有源层,所述有源层设于所述栅极绝缘层背离所述扫描线的表面,所述有源层投影于所述黑色矩阵层的形成投影轮廓,所述投影轮廓位于所述黑色矩阵层内;源极和漏极,所述源极和所述漏极均设于所述有源层背离所述栅极绝缘层的一侧,所述源极与所述数据线电性连接,定义所述源极和所述漏极投影于所述衬底基板形成第一区域,定义所述扫描线投影于所述衬底基板形成第二区域,所述第一区域和所述第二区域间隔设置。本专利技术还提出一种阵列基板的制作方法,该阵列基板的制作方法用于制作上述任一项的阵列基板,所述阵列基板的制作方法包括以下步骤:在衬底基板的一表面形成扫描线;在所述扫描线背离衬底基板的一侧形成黑色矩阵;在黑色矩阵背离衬底基板的一侧形成与扫描线交叠的数据线,其中,所述黑色矩阵层的至少部分位于所述扫描线和所述数据线的交叠处。可选地,所述“在所述扫描线背离衬底基板的一侧形成黑色矩阵”的步骤之后,所述“在黑色矩阵背离衬底基板的一侧形成与扫描线交叠的数据线,其中,所述黑色矩阵层的至少部分位于所述扫描线和所述数据线的交叠处”的步骤之前还包括:形成覆盖所述黑色矩阵层的栅极绝缘层。可选地,所述“在衬底基板的一表面形成扫描线”的步骤之后,所述“在所述扫描线背离衬底基板的一侧形成黑色矩阵”的步骤之前还包括:形成覆盖所述扫描线的栅极绝缘层。可选地,所述“形成覆盖所述扫描线的栅极绝缘层”的步骤之后还包括:在所述黑色矩阵层形成显露栅极绝缘层的贯穿孔;在贯穿孔显露的区域形成与栅极绝缘层连接的有源层;在所述有源层的表面设置相互间隔的源极和漏极,并使所述源极连接所述数据线。本专利技术还提出一种显示面板,包括阵列基板和与所述阵列基板相对设置的彩膜基板,所述黑色矩阵形成有透光区,所述彩膜基板包括色块层,所述色块层正对所述透光区设置,该阵列基板的制作方法包括以下步骤:在衬底基板的一表面形成扫描线;在所述扫描线背离衬底基板的一侧形成黑色矩阵;在黑色矩阵背离衬底基板的一侧形成与扫描线交叠的数据线,其中,所述黑色矩阵层的至少部分位于所述扫描线和所述数据线的交叠处;或者,该阵列基板包括:衬底基板;扫描线,所述扫描线设于所述衬底基板的一表面;数据线,所述数据线位于所述扫描线背离所述衬底基板的一侧,并与所述扫描线交叠设置;黑色矩阵层,所述黑色矩阵层设于所述扫描线和所述数据线之间,且所述黑色矩阵层的至少部分位于所述扫描线和所述数据线的交叠处。本专利技术技术方案通过在衬底基板形成扫描线,并在扫描线背离衬底基板的一侧形成数据线,再将黑色矩阵层设置在扫描线和数据线之间,进一步使黑色矩阵层的至少部分位于扫描线和数据线之间,参照电容计算公式:C=εS/4πkd(ε为介电常数、S为交叠面积、k为静电力常量、d为相对距离),示例性技术中,该扫描线和数据线的距离为d1,则扫描线和数据线在交叠处形成的寄生电容C1则为:C1=εS/4πkd1;定义黑色矩阵层的高度为d2、介电常数为δ,根据电容串联公式:C=(C1*C2)/(C1+C2),当将黑色矩阵层设置在扫描线和数据线之间时的寄生电容C2则为:C2=[(εS/4πkd1)*(δS/4πkd2)]/[(εS/4πkd1)+(δS/4πkd2)]=[εδ/(εd2+δd1)]*S/4πk,再通过将C1和C2进行差值比较,得到C1-C2=[(ε/d1)-εδ/(εd2+δd1)]*S/4πk=d1ε2/[d1*(εd2+δd1)]*S/4πk>0,也即,C1>C2,通过在扫描线和数据线之间增加黑色矩阵层可以减小扫描线与数据线的寄生电容,从而扫描线和数据线的负载都得到了降低,如此,本专利技术的技术方案可以减小数据线和扫描线的寄生电容,提高画素充电率,进而保证阵列基板的对比度和画质品位。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。图1为本专利技术显示面板的像素单位一实施例的结构示意图;图2为本专利技术显示面板的像素单位的驱动部分一实施例的结构示意图;图3为图2中A-A处一实施例的截面图;图4为图2中A-A处另一实施例的截面图;图5为图2中B-B处一实施例的截面图;图6为本专利技术阵列基板一实施例的分解示意图;图7为本专利技术阵列基板另一实施例的结构示意图;图8为本专利技术阵列基板的制作方法一实施例的流程步骤图;图9为本专利技术阵列基板的制作方法另一实施例的流程步骤图;图10为本专利技术阵列基板的制作方法再一实施例的流程步骤图。图11为本专利技术阵列基板的制作方法又一实施例的流程步骤图。附图标号说本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板;扫描线,所述扫描线设于所述衬底基板的一表面;数据线,所述数据线位于所述扫描线背离所述衬底基板的一侧,并与所述扫描线交叠设置;以及黑色矩阵层,所述黑色矩阵层设于所述扫描线和所述数据线之间,且所述黑色矩阵层的至少部分位于所述扫描线和所述数据线的交叠处。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板;扫描线,所述扫描线设于所述衬底基板的一表面;数据线,所述数据线位于所述扫描线背离所述衬底基板的一侧,并与所述扫描线交叠设置;以及黑色矩阵层,所述黑色矩阵层设于所述扫描线和所述数据线之间,且所述黑色矩阵层的至少部分位于所述扫描线和所述数据线的交叠处。2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括:栅极绝缘层,所述栅极绝缘层设于所述扫描线背离所述衬底基板的一侧,所述数据线设于所述栅极绝缘层背离所述扫描线的一侧;以及黑色矩阵层,所述黑色矩阵层设于所述数据线与所述栅极绝缘层之间。3.如权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述黑色矩阵层形成有贯穿孔,所述阵列基板还包括有源层、源极和漏极,所述有源层设于所述栅极绝缘层背离所述扫描线的表面,并位于所述贯穿孔内;所述源极和所述漏极均设于所述有源层背离所述栅极绝缘层的一侧,所述源极的至少部分伸出所述贯穿孔,并与所述数据线电性连接。4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括:栅极绝缘层,所述栅极绝缘层设于所述扫描线背离所述衬底基板的一侧,所述数据线设于所述栅极绝缘层背离所述扫描线一侧;以及黑色矩阵层,所述黑色矩阵层设于所述扫描线与所述栅极绝缘层之间。5.如权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括:有源层,所述有源层设于所述栅极绝缘层背离所述扫描线的表面,所述有源层投影于所述黑色矩阵层的形成投影轮廓,所述投影轮廓位于所述黑色矩阵层内;源极和漏极,所述源极和所述漏极均设于所述有源层背离所述栅极绝缘层的一侧,所述源极与所述数据线电性连接,定义所述源极和所述漏极投影于所述衬底基板形成第一区域,定义所述扫描线投影...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨春辉
申请(专利权)人:惠科股份有限公司滁州惠科光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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