一种阵列基板及显示面板制造技术

本实用新型专利技术提供了一种阵列基板及显示面板，该阵列基板包括基底、设于所述基底上的透光结构和设于所述基底上的遮光结构，所述阵列基板还包括设于所述基底与遮光结构之间的反射层，所述反射层完全遮蔽所述遮光结构设置。本实用新型专利技术提供的一种阵列基板及显示面板通过设置了一个能够完全遮蔽阵列基板中的遮光结构的反射层且反射层设于阵列基板的基底与遮光结构之间，从而使得从背光射向遮光结构的光线会受到发射层的阻挡反射回背光单元中，有效提高了背光光线的利用率；而且，反射层有效阻挡射向遮光结构的背光光线，保证了显示效果。

An Array Substrate and Display Panel

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及显示面板
本技术涉及了显示
，特别是涉及了一种阵列基板及显示面板。
技术介绍
显示面板一般包括阵列基板、与阵列基板对应的彩膜基板、设于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。其中，阵列基板往往包括透光结构和遮光结构，背光单元提供的光学仅能通过遮光结构部分射出，使得现有的显示面板对背光光线的利用效率很低，现也有很多方案通过增大阵列基板的透光结构的面积来增大开口率，已增大对背光光线的利用效率，提高显示效果；但是受限与像素结构的设计，现有的阵列基板的开口率往往也只能达到50％作用，对于背光光线的利用依然很有限。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种阵列基板及显示面板，它可以有效提高对背光光线的利用率，提高显示效果。为了解决以上技术问题，本技术提供了一种阵列基板，包括基底、设于所述基底上的透光结构和设于所述基底上的遮光结构，所述阵列基板还包括设于所述基底与遮光结构之间的反射层，所述反射层完全遮蔽所述遮光结构设置。作为本技术的一种优选方案，所述反射层的材料为铝。作为本技术的一种优选方案，所述遮光结构包括栅极层、形成于栅极层上的绝缘层、形成于绝缘层上的有源层和形成于有源层上的源/漏极层；所述栅极层形成于所述反射层上。作为本技术的一种优选方案，所述遮光结构还包括栅极线和数据线。进一步地，提供一种显示面板，包括以上任一项所述的阵列基板、与所述阵列基板对应的彩膜基板和设于所述阵列基板和彩膜基板之间的液晶层；所述彩膜基板中设有与所述遮光结构对应的黑矩阵。作为本技术的一种优选方案，还包括设于所述彩膜基板背向液晶层一侧的上偏光片和设于阵列基板背向液晶层一侧的下偏光片。作为本技术的一种优选方案，包括以上任一项所述的显示面板。本技术具有如下技术效果：本技术提供的一种阵列基板及显示面板通过设置了一个能够完全遮蔽阵列基板中的遮光结构的反射层且反射层设于阵列基板的基底与遮光结构之间，从而使得从背光射向遮光结构的光线会受到发射层的阻挡反射回背光单元中，有效提高了背光光线的利用率；而且，反射层有效阻挡射向遮光结构的背光光线，保证了显示效果。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本技术的一些实施例，而非对本技术的限制。图1为本技术提供的一种阵列基板的结构示意图；图2为本技术提供的一种遮光结构的结构示意图。具体实施方式为使本技术的目的，技术方案和优点更加清楚，下面结合附图对本技术实施方式作进一步详细说明。显然，所描述的实施例是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本技术的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。如图1所示，其显示了本技术提供的一种阵列基板，该阵列基板包括基底1、设于所述基底1上的透光结构2和设于所述基底1上的遮光结构3，所述阵列基板还包括设于所述基底1与遮光结构2之间的反射层4，所述反射层4完全遮蔽所述遮光结构2设置。这样，通过设置了一个能够完全遮蔽阵列基板中的遮光结构2的反射层4且反射层4设于阵列基板的基底1与遮光结构2之间，从而使得从背光单元射向遮光结构2的光线会受到发射层4的阻挡反射回背光单元中，有效提高了背光光线的利用率；而且，反射层4有效阻挡射向遮光结构2的背光光线，保证了一致的良好遮光效果，提高了显示效果。优选地，所述反射层4的材料为铝。由于发射层4设于阵列基板的基底1与遮光结构2之间，所以反射层4可以直接采用曝光显影的工艺形成，能够有效保证对位精度，提高产品质量。具体地，在本实施例中，如图2所示，所述遮光结构2包括栅极层21、形成于栅极层21上的绝缘层22、形成于绝缘层22上的有源层23和形成于有源层上的源/漏极层24；所述栅极层21形成于所述反射层4上。当然，所述遮光结构2还可以包括栅极线和数据线。所示透光结构可以包括绝缘层22，还可以包括透明像素电极层(图中未示出)，此为现有技术的内容，在此不做详述。进一步地，提供一种显示面板，包括以上所述的阵列基板、与所述阵列基板对应的彩膜基板和设于所述阵列基板和彩膜基板之间的液晶层；所述彩膜基板中设有与所述遮光结构对应的黑矩阵。进一步地，还包括设于所述彩膜基板背向液晶层一侧的上偏光片和设于阵列基板背向液晶层一侧的下偏光片。以上所述实施例仅表达了本技术的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本技术专利范围的限制，但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案，均应落在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括基底、设于所述基底上的透光结构和设于所述基底上的遮光结构，其特征在于，所述阵列基板还包括设于所述基底与遮光结构之间的反射层，所述反射层完全遮蔽所述遮光结构设置。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括基底、设于所述基底上的透光结构和设于所述基底上的遮光结构，其特征在于，所述阵列基板还包括设于所述基底与遮光结构之间的反射层，所述反射层完全遮蔽所述遮光结构设置。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述反射层的材料为铝。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光结构包括栅极层、形成于栅极层上的绝缘层、形成于绝缘层上的有源层和形成于有源层上的源/漏极层；所述栅极层形成于...

【专利技术属性】
技术研发人员：于靖，庄崇营，李林，
申请(专利权)人：信利半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44