The utility model relates to the technical field of semiconductor manufacturing, in particular to a film deposition device. The film deposition device comprises a regulating part, including a separating surface oriented to the wafer surface and a plurality of nozzles located on the separating surface, the nozzle is used to transfer reactants to the wafer surface, and the control part is used to control whether each of the nozzles is opened separately to realize the non-uniform distribution of the reactant density on the wafer surface. The utility model can form a film layer with non-uniform thickness distribution on the surface of a wafer, realize the balance of the distribution of the bending degree of the wafer, and is suitable for wafers of various shapes, thereby effectively improving the quality of wafer products.
【技术实现步骤摘要】
膜层沉积装置
本技术涉及半导体制造
,尤其涉及一种膜层沉积装置。
技术介绍
随着平面型闪存存储器的发展,半导体的生产工艺取得了巨大的进步。但是最近几年,平面型闪存的发展遇到了各种挑战:物理极限、现有显影技术极限以及存储电子密度极限等。在此背景下,为解决平面闪存遇到的困难以及追求更低的单位存储单元的生产成本,各种不同的三维(3D)闪存存储器结构应运而生,例如3DNOR(3D或非)闪存和3DNAND(3D与非)闪存。其中,3DNAND存储器以其小体积、大容量为出发点,将储存单元采用三维模式层层堆叠的高度集成为设计理念,生产出高单位面积存储密度,高效存储单元性能的存储器,已经成为新兴存储器设计和生产的主流工艺。然而,晶圆在经过各种半导体工艺处理之后,晶圆的弯曲度分布不能达到平衡,从而使得晶圆呈现翘曲的状态,严重影响晶圆产品的质量。因此,如何改善晶圆的弯曲度分布,提高晶圆产品的质量,是目前亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本技术提供一种膜层沉积装置,用于解决现有技术中晶圆经多步处理工艺后弯曲度分布不平衡的问题,以改善晶圆产品的质量。为了解决上述问题,本技术提供了一种膜层沉积装置,包括:调节部,包括朝向晶圆表面设置的分隔面以及位于所述分隔面的多个喷口,所述喷口用于将反应物传输至所述晶圆表面;控制部,用于分别控制每一所述喷口是否开启,实现所述反应物的密度在所述晶圆表面的非均匀分布。优选的,所述控制部还用于获取所述晶圆的弯曲度分布,并根据所述弯曲度分布控制每一所述喷口是否开启,使得由所述反应物生成的膜层的厚度在所述晶圆表面非均匀分布。优选的,多个所述喷口均匀分布于整个所 ...
【技术保护点】
1.一种膜层沉积装置,其特征在于,包括:调节部,包括朝向晶圆表面设置的分隔面以及位于所述分隔面的多个喷口,所述喷口用于将反应物传输至所述晶圆表面;控制部,用于分别控制每一所述喷口是否开启,实现所述反应物的密度在所述晶圆表面的非均匀分布。
【技术特征摘要】
1.一种膜层沉积装置,其特征在于,包括:调节部,包括朝向晶圆表面设置的分隔面以及位于所述分隔面的多个喷口,所述喷口用于将反应物传输至所述晶圆表面;控制部,用于分别控制每一所述喷口是否开启,实现所述反应物的密度在所述晶圆表面的非均匀分布。2.根据权利要求1所述的膜层沉积装置,其特征在于,所述控制部还用于获取所述晶圆的弯曲度分布,并根据所述弯曲度分布控制每一所述喷口是否开启,使得由所述反应物生成的膜层的厚度在所述晶圆表面非均匀分布。3.根据权利要求1所述的膜层沉积装置,其特征在于,多个所述喷口均匀分布于整个所述分隔面。4.根据权利要求1所述的膜层沉积装置,其特征在于,所述调节部包括分区控制气体盘;所述分区控制气体盘包括:气体腔,用于容纳气态的所述反应物;所述分隔面包括位于所述气体腔朝向所述晶圆一侧的第一分隔面。5.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员:孟昭生,徐文浩,李展信,刘聪,
申请(专利权)人:长江存储科技有限责任公司,
类型:新型
国别省市:湖北,42
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