一种消光结构制造技术

技术编号:21464866 阅读:46 留言:0更新日期:2019-06-26 10:55
本实用新型专利技术公开了一种消光结构,包括镜体,光源和反光镜,所述光源和反光镜分别设置在镜体的两端,所述镜体位于光源和反光镜之间设置有往反光镜方向倾斜的斜面体。本实用新型专利技术在位于光源和反光镜之间的镜体上设置斜面体,可将光源照射在镜身上的光线反射到反光镜之外的空间,可避免因镜身反射的杂光投射到反光镜上,从而提高了产品的瞄准性能。

A Extinction Structure

The utility model discloses an extinction structure, which comprises a mirror body, a light source and a reflecting mirror. The light source and a reflecting mirror are respectively arranged at two ends of the mirror body, and the mirror body is arranged between the light source and the reflecting mirror with an inclined plane in the direction of the reflecting mirror. The utility model sets an oblique body on the mirror body between the light source and the reflector, which can reflect the light illuminated by the light source on the mirror body to the space outside the reflector, avoid the stray light reflected by the mirror body projecting on the reflector, thereby improving the aiming performance of the product.

【技术实现步骤摘要】
一种消光结构
本技术涉及枪瞄
,特别是一种消光结构。
技术介绍
目前的开放式大红点枪瞄其原理基本相同,都是由LED与光栏片组成一发光点,此发光点发出的光射向后面的反光镜,点经反光镜反射后形成一个在50码或无穷远处的虚像;目前这种反射红点枪瞄都会存在一个普遍的问题,就是光经过反镜后反射的杂光,而传统的开放式大红点枪瞄的消光纹,消光纹上采用了多条条形纹形成凹凸结构,当光线射入凹处,反射的光线就会被挡掉,不会射向反光镜,但部分凸处的反射壁还是会把光反射到反光镜,特别是靠近光源地方,造成强烈的杂光,当这些杂光跟瞄准光点混在一起出现在用户的视场当中,这将直接影响产品的使用性能。
技术实现思路
为了解决上述的技术问题,本技术提供了一种消光结构,可消除镜身反射产生的杂光。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种消光结构,包括镜体,光源和反光镜,所述光源和反光镜分别设置在镜体的两端,所述镜体位于光源和反光镜之间设置有往反光镜方向倾斜的斜面体。进一步,所述斜面体设置于光源的一侧。进一步,所述斜面体的坡度至少大于60%。进一步,所述斜面体的坡度为100%。进一步,所述斜面体的顶端还设置有与斜面体所在的斜面保持垂直的挡板。进一步,还包括消光纹,所述消光纹设置在消光部件与反光镜之间。进一步,所述消光纹采用多条平行且并列排布在镜体上的条形槽,多条所述条形槽由光源往反光镜方向依次排列。进一步,所述光源对着反光镜中部,所述反光镜的镜面朝向光源。进一步,还包括镜筒,所述镜筒设置于镜体的前端,所述反光镜固定于镜筒内。本技术的有益效果是:在位于光源和反光镜之间的镜体上设置斜面体,可将光源照射在镜身上的光线反射到反光镜之外的空间,可避免因镜身反射的杂光投射到反光镜上,从而提高了产品的瞄准性能。附图说明下面结合附图和实施例对本技术进一步说明。图1是本技术的一种较优实施例的结构剖视图;图2是图1中A处的放大示意图;图3是本技术的一种较优实施例的俯视示意图。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下将结合实施例和附图对本技术的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述,以充分地理解本技术的目的、特征和效果。显然,所描述的实施例只是本技术的一部分实施例,而不是全部实施例,本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例,均属于本技术保护的范围。参照图1,为一种较优的实施方式,一种消光结构,包括镜体1,光源2和反光镜3,所述光源2和反光镜3分别设置在镜体1的两端,所述镜体1位于光源2和反光镜3之间设置有往反光镜3方向倾斜的斜面体4。所述光源2对着反光镜3中部,所述反光镜3的镜面朝向光源2,此光源2发出的光射向后面的反光镜3,光线经反光镜3反射后形成一个在50码或无穷远处的虚像,可用于枪的弹道瞄准。还包括镜筒6,所述镜筒6设置于镜体1的前端,所述反光镜3固定于镜筒6内,采用镜筒6,可避免外界的光线干扰,可避免影响光源2在反光镜3上的成像效果。参照图2,为了形成斜面体4,需在镜体1的上表面上挖设一个槽,同时所述斜面体4需设置于光源2的一侧,因为靠近光源2处的光线反射情况更严重,故将斜面体4设置在靠近光源2处,消除杂光的效果最好。为了达到良好的消除杂光的效果,斜面体4坡度的位置需根据光源2和反光镜3之间的角度及距离进行设置,一般为了达到可消除杂光的效果,斜面体4的坡度至少得大于60%;本实施中所述斜面体4的坡度为100%,采用坡度100%,即斜面与镜身所处水平面的角度形成45度,可有效将光线反射到反光镜3外。所述斜面体4的顶端还设置有与斜面体4所在的斜面保持垂直的挡板41,由于光的漫射性,添加挡板41,可进一步将反射向反光镜3的光线进行遮挡,从而进一步保证了杂光的产生。参照图3,还包括消光纹5,所述消光纹5设置在消光部件与反光镜3之间;所述消光纹5采用多条平行且并列排布在镜体1上的条形槽,多条所述条形槽由光源2往反光镜3方向依次排列,消光纹5为常用技术,由于光线的漫射性,添加消光纹5,可进一步确保光线发射到反光镜3上。以上所述,只是本技术的较佳实施方式而已,但本技术并不限于上述实施例,只要其以任何相同或相似手段达到本技术的技术效果,都应属于本技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种消光结构,包括镜体(1),光源(2)和反光镜(3),所述光源(2)和反光镜(3)分别设置在镜体(1)的两端,其特征在于:所述镜体(1)位于光源(2)和反光镜(3)之间设置有往反光镜(3)方向倾斜的斜面体(4)。

【技术特征摘要】
1.一种消光结构,包括镜体(1),光源(2)和反光镜(3),所述光源(2)和反光镜(3)分别设置在镜体(1)的两端,其特征在于:所述镜体(1)位于光源(2)和反光镜(3)之间设置有往反光镜(3)方向倾斜的斜面体(4)。2.根据权利要求1所述的消光结构,其特征在于:所述斜面体(4)设置于光源(2)的一侧。3.根据权利要求1或2所述的消光结构,其特征在于:所述斜面体(4)的坡度至少大于60%。4.根据权利要求3所述的消光结构,其特征在于:所述斜面体(4)的坡度为100%。5.根据权利要求1或2所述的消光结构,其特征在于:所述斜面体(4)的顶端还设置有与斜面体(4)所...

【专利技术属性】
技术研发人员:廖惟宇廖峰波黄敏忠
申请(专利权)人:珠海天峰光电有限公司
类型:新型
国别省市:广东,44

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