测量方法、测量装置、曝光装置以及物品制造方法制造方法及图纸

本公开涉及测量方法、测量装置、曝光装置以及物品制造方法。测量方法具有：第1工序，将把具有多个第1标记的第1图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以不产生与相邻拍摄区的重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第1图案；第2工序，将把具有多个第2标记和位于该多个第2标记的周边的多个周边标记的第2图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以使相邻拍摄区的一部分区域重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第2图案；以及第3工序，根据转印到基板的第1标记与第2标记的偏离量和一部分区域中的周边标记彼此的偏离量求出畸变。

【技术实现步骤摘要】
测量方法、测量装置、曝光装置以及物品制造方法
本专利技术涉及测量表示经由投影光学系统投影到基板的像的失真的畸变的测量方法、测量装置、曝光装置以及物品制造方法。
技术介绍
在日本特开2004-063905号公报(专利文献1)中公开了使用形成于测试掩模的多个主刻度标记和多个副刻度标记来求出曝光装置的投影光学系统的畸变的手法。另外，在日本特开2011-35009号公报(专利文献2)中公开了解决在该方法的实施过程中产生的标记间相对距离的经时变化所致的畸变测量精度的下降的手法。(1)专利文献1中公开的畸变的测量方法在该测量方法中，例如，第1标记和第2标记是与各个图案对应的副刻度标记和主刻度标记。在第1工序中，将如图7的(a)那样配置有m1行n1列(在图中，m1＝n1＝3)的第1标记10的拍摄区如图7的(b)那样进行m2行n2列曝光(在图中，m2＝n2＝2)。接下来，在第2工序中，将如图7的(c)那样配置有m2行n2列的具有与m1行n1列的第1标记10相同的间隔的第2标记11的拍摄区如图7的(d)那样进行m1行n1列曝光。由此，生成N＝m1×n1×m2×n2个重叠标记。之后，测量生成的重叠标记的偏离量，根据该偏离量来计算畸变。(2)专利文献2中公开的畸变的测量方法该测量方法基于专利文献1的测量方法。在该测量方法中，在第2工序的实施前，作为第3工序，将排列有m2行n2列的第2标记11的拍摄区曝光1次。另外，在第2工序的实施后，作为第4工序，将排列有m2行n2列的第2标记11的拍摄区曝光1次。进而，作为第5工序，将排列有与m2行n2列的第2标记11相同的数量以及相同的间隔的第3标记的拍摄区曝光两次。接下来，测量由在第3工序和第4工序中形成的(m2×n2×2)个第2标记和在第5工序中形成的(m2×n2×2)个第3标记形成的(m2×n2×2)个重叠标记的偏离量。之后，根据测量出的偏离量，推测第2工序的各曝光拍摄区的标记相互间的相对位置变化。进而，将该推测出的标记相互间的相对位置变化与从在第1工序和第2工序中生成的重叠标记得到的偏离量一起计算畸变。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2004-063905号公报专利文献2：日本特开2011-035009号公报
技术实现思路
在专利文献1所记载的畸变测量方法中，以多个副刻度标记相互间的相对位置和多个主刻度标记相互间的相对位置是恒定的为前提条件。在专利文献2中，叙述了主刻度标记相互间的相对位置的变化无法忽略，而需要采取对策，但在该畸变测量方法中，以相对位置的变化具有一定的趋势而能够进行推测为前提条件。但是，标记相互间的相对位置的经时变化是由于在曝光过程中产生的曝光热、投影系统的变形、载置台的马达热等各种主要原因而导致的，包含大量的随机成分，所以难以精度良好地推测。因而，在以往的测量方法中，由于标记相互间的相对位置的变化，畸变的测量误差增大，无法得到良好的测量精度。本专利技术的目的在于提供例如对于畸变的测量误差的降低有利的测量方法。根据本专利技术的第1方面，提供一种测量方法，测量表示经由投影光学系统投影到基板的像的失真的畸变，所述测量方法的特征在于，具有：第1工序，将把配置于所述投影光学系统的物面的、具有在行方向以及列方向上分别以预定的间隔排列的多个第1标记的第1图案转印到所述基板的拍摄区曝光，一边以不产生与相邻拍摄区的重复的方式在所述行方向以及所述列方向上分别错开一边进行多次，从而在所述行方向以及所述列方向上分别形成多个所述第1图案；第2工序，将把配置于所述物面的、具有在所述行方向以及所述列方向上分别以所述预定的间隔排列的多个第2标记和位于该多个第2标记的周边的多个周边标记的第2图案转印到所述基板的拍摄区曝光，一边以使相邻拍摄区的一部分区域重复的方式在所述行方向以及所述列方向上分别错开一边进行多次，从而在所述行方向以及所述列方向上分别形成多个所述第2图案；以及第3工序，根据转印到所述基板的所述第1标记与所述第2标记的偏离量和所述一部分区域中的所述周边标记彼此的偏离量，求出所述畸变。根据本专利技术的第2方面，提供一种测量装置，具有处理部，该处理部进行表示经由投影光学系统投影到基板的像的失真的畸变的测量，所述测量装置的特征在于，所述处理部进行如下处理：将把配置于所述投影光学系统的物面的、具有在行方向以及列方向上分别以预定的间隔排列的多个第1标记的第1图案转印到所述基板的拍摄区曝光，一边以不产生与相邻拍摄区的重复的方式在所述行方向以及所述列方向上分别错开一边进行多次，从而在所述行方向以及所述列方向上分别形成多个所述第1图案的处理；将把配置于所述物面的、具有在所述行方向以及所述列方向上分别以所述预定的间隔排列的多个第2标记和位于该多个第2标记的周边的多个周边标记的第2图案转印到所述基板的拍摄区曝光，一边以使相邻拍摄区的一部分区域重复的方式在所述行方向以及所述列方向上分别错开一边进行多次，从而在所述行方向以及所述列方向上分别形成多个所述第2图案的处理；以及根据转印到所述基板的所述第1标记与所述第2标记的偏离量和所述一部分区域中的所述周边标记彼此的偏离量，求出所述畸变的处理。根据本专利技术的第3方面，提供一种曝光装置，经由投影光学系统对基板进行曝光，所述曝光装置的特征在于，具有：载置台，保持所述基板；上述第2方面的测量装置，经由所述投影光学系统，将掩模的图案投影到保持于所述载置台的基板，测量所述投影光学系统的畸变；以及控制部，以降低由所述测量装置测量出的畸变的方式控制对所述基板进行曝光的曝光处理。根据本专利技术的第4方面，提供一种制造物品的物品制造方法，该物品制造方法的特征在于，包括：使用曝光装置对基板进行曝光的工序；使被曝光的所述基板显影的工序；以及从被显影的所述基板制造所述物品的工序，所述曝光装置是经由投影光学系统对基板进行曝光的曝光装置，包括：载置台，保持所述基板；测量装置，经由所述投影光学系统，将掩模的图案投影到保持于所述载置台的基板，测量所述投影光学系统的畸变；以及控制部，以降低由所述测量装置测量出的畸变的方式控制对所述基板进行曝光的曝光处理，所述测量装置是具有处理部的测量装置，该处理部进行表示经由所述投影光学系统投影到基板的像的失真的畸变的测量，所述处理部进行如下处理：将把配置于所述投影光学系统的物面的、具有在行方向以及列方向上分别以预定的间隔排列的多个第1标记的第1图案转印到所述基板的拍摄区曝光，一边以不产生与相邻拍摄区的重复的方式在所述行方向以及所述列方向上分别错开一边进行多次，从而在所述行方向以及所述列方向上分别形成多个所述第1图案的处理；将把配置于所述物面的、具有在所述行方向以及所述列方向上分别以所述预定的间隔排列的多个第2标记和位于该多个第2标记的周边的多个周边标记的第2图案转印到所述基板的拍摄区曝光，一边以使相邻拍摄区的一部分区域重复的方式在所述行方向以及所述列方向上分别错开一边进行多次，从而在所述行方向以及所述列方向上分别形成多个所述第2图案的处理；以及根据转印到所述基板的所述第1标记与所述第2标记的偏离量和所述一部分区域中的所述周边标记彼此的偏离量，求出所述畸变的处理。根据本专利技术，例如能够提供对于畸变的测量误差的降低有利的测量方法。附图说明图1是示出实施方式中的曝光装置的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种测量方法，测量表示经由投影光学系统投影到基板的像的失真的畸变，所述测量方法的特征在于，具有：第1工序，将把配置于所述投影光学系统的物面的、具有在行方向以及列方向上分别以预定的间隔排列的多个第1标记的第1图案转印到所述基板的拍摄区曝光，一边以不产生与相邻拍摄区的重复的方式在所述行方向以及所述列方向上分别错开一边进行多次，从而在所述行方向以及所述列方向上分别形成多个所述第1图案；第2工序，将把配置于所述物面的、具有在所述行方向以及所述列方向上分别以所述预定的间隔排列的多个第2标记和位于该多个第2标记的周边的多个周边标记的第2图案转印到所述基板的拍摄区曝光，一边以使相邻拍摄区的一部分区域重复的方式在所述行方向以及所述列方向上分别错开一边进行多次，从而在所述行方向以及所述列方向上分别形成多个所述第2图案；以及第3工序，根据转印到所述基板的所述第1标记与所述第2标记的偏离量和所述一部分区域中的所述周边标记彼此的偏离量，求出所述畸变。

【技术特征摘要】
2017.12.18 JP 2017-2422271.一种测量方法，测量表示经由投影光学系统投影到基板的像的失真的畸变，所述测量方法的特征在于，具有：第1工序，将把配置于所述投影光学系统的物面的、具有在行方向以及列方向上分别以预定的间隔排列的多个第1标记的第1图案转印到所述基板的拍摄区曝光，一边以不产生与相邻拍摄区的重复的方式在所述行方向以及所述列方向上分别错开一边进行多次，从而在所述行方向以及所述列方向上分别形成多个所述第1图案；第2工序，将把配置于所述物面的、具有在所述行方向以及所述列方向上分别以所述预定的间隔排列的多个第2标记和位于该多个第2标记的周边的多个周边标记的第2图案转印到所述基板的拍摄区曝光，一边以使相邻拍摄区的一部分区域重复的方式在所述行方向以及所述列方向上分别错开一边进行多次，从而在所述行方向以及所述列方向上分别形成多个所述第2图案；以及第3工序，根据转印到所述基板的所述第1标记与所述第2标记的偏离量和所述一部分区域中的所述周边标记彼此的偏离量，求出所述畸变。2.根据权利要求1所述的测量方法，其特征在于，所述多个周边标记包括配置于所述多个第2标记的周边的各个不同的位置的第3标记、第4标记、第5标记以及第6标记，在所述第2工序中，以在所述一部分区域中的在列方向上相邻的两个拍摄区的一部分重复的第1重复区域形成所述第3标记和所述第4标记、在所述一部分区域中的在行方向上相邻的两个拍摄区的一部分重复的第2重复区域形成所述第5标记和所述第6标记的方式，在所述行方向以及所述列方向上分别形成多个所述第2图案，在所述第3工序中，根据在所述第1工序中形成于所述基板的所述第1标记与在所述第2工序中形成于所述基板的所述第2标记的偏离量即第1偏离量、通过所述第2工序而形成于所述第1重复区域的所述第3标记与所述第4标记的偏离量即第2偏离量、以及通过所述第2工序而形成于所述第2重复区域的所述第5标记与所述第6标记的偏离量即第3偏离量，求出所述畸变。3.根据权利要求2所述的测量方法，其特征在于，所述多个周边标记包括配置于所述多个第2标记的周边的各个不同的位置的第3标记、第4标记、第5标记以及第6标记，在将m1和m2设为具有m1>m2的关系的互质的自然数、将n1和n2设为具有n1>n2的关系的互质的自然数、且将m3以及m4分别设为自然数时，在所述第1工序中，将把具有m1行n1列的所述第1标记的所述第1图案转印到所述基板的拍摄区曝光重复(m2×n2)次，从而将(m1×m2)行(n1×n2)列的所述第1标记形成于所述基板，在所述第2工序中，将把所述第2图案转印到所述基板的拍摄区曝光重复(m1×n1)次，从而将((m1－1)×n1)个所述第1重复区域和(m1×(n1－1))个所述第2重复区域形成于所述基板，并且将(m1×m2)行(n1×n2)列的所述第2标记、所述第1重复区域的每一个重复区域中的m3个所述第3标记及m3个所述第4标记、以及所述第2重复区域的每一个重复区域中的m4个所述第5标记及m4个所述第6标记形成于所述基板，在所述第3工序中，针对利用在所述第1工序中形成的所述第1标记和在所述第2工序中形成的所述第2标记而形成于所述基板的(m1×m2×n1×n2)个重叠标记的各个重叠标记，求出所述第1偏离量，针对利用通过所述第2工序形成于所述第1重复区域的所述第3标记和所述第4标记而形成的(m3×(m1－1)×n1)个重叠标记的各个重叠标记，求出所述第2偏离量，针对利用通过所述第2工序形成于所述第2重复区域的所述第5标记和所述第6标记而形成的(m4×m1×(n1－1))个重叠标记的各个重叠标记，求出所述第3偏离量。4.根据权利要求3所述的测量方法，其特征在于，以使连结m3个所述第3标记的中心位置与m3个所述第4标记的中心位置的直线的中心点与m2×n2个所述第2标记的中心位置重叠的方式，配置有所述第3标记以及所述第4标记。5.根据权利要求3所述的测量方法，其特征在于，以使连结m4个所述第5标记的中心位置与m4个所述第6标记的中心位置的直线的中心点与m2×n...

【专利技术属性】
技术研发人员：张劬，伊藤正裕，川端宣幸，雨宫靖，土井贤，黑泽良昭，金田崇，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP