【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】涂层
本专利技术涉及涂层,更具体地说,本专利技术涉及其上形成有保护涂层的基底,以及在基底上形成涂层的方法。
技术介绍
众所周知,电子和电气设备对于诸如环境液体(特别是水)的液体污染造成的损伤非常敏感。在正常使用过程中或由于意外暴露而接触液体,可能会导致电子元件之间的短路、腐蚀、退化,并对电路板、电子芯片等造成不可修复的损伤。此问题对于移动电话、智能手机、寻呼机、收音机、助听器、膝上型电脑、笔记本电脑、平板电脑、平板手机和个人数字助理(PDAs)等小型便携式和可穿戴式电子设备尤为严重,当在室外使用或在室内接近液体使用时,这些设备可能暴露于显著的液体污染。这些设备也容易意外暴露于液体中,例如掉入液体或被溅到。对具有更强功能、更小型的便携式电子和电气设备存在持续驱动,从而导致对设备性能的更严格要求,例如浸入水中操作。由于位置原因,其他类型的电子或电气设备可能易于损坏,例如室外照明系统、无线电天线和其他形式的通信设备。已知的涂布技术和涂层包括喷涂、浸涂聚苯乙烯、气相处理系统,如聚对二甲苯、氨基甲酸酯改性的聚丁二烯、聚合物复合材料、无定形烃膜(a-C:H)和等离子体沉积涂层(例如WO2007/083122和WO2006/109014)。通常,这些涂层的问题在于:它们不能提供足够的环境保护,或者涂层太厚以至于不合需要地增加电子或电气设备的尺寸和体积。为了获得强化的防水损坏的保护,已经使用了多层化。但是,多层化往往涉及多个和冗长的步骤,以及升高的温度。多个和冗长的步骤增加了制造成本,高温可能损坏存在于电子或电气设备中的敏感部件。因此,相关技术中仍需要能够提供高的湿电屏障 ...
【技术保护点】
1.一种涂层,包括:(i)第一层,以及(ii)第二层,其中,所述第一层和第二层通过交联基团交联,其中,所述第一层和第二层中至少一层是自交联。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.06.14 GB 1610481.21.一种涂层,包括:(i)第一层,以及(ii)第二层,其中,所述第一层和第二层通过交联基团交联,其中,所述第一层和第二层中至少一层是自交联。2.根据权利要求1所述的涂层,其中,所述第一层包含含有非芳香族不饱和化学基团的聚合物。3.根据权利要求1或2所述的涂层,其中,第一层包含含有反应性基团的聚合物,所述反应性基团对硫醇基具有反应性;优选地,所述反应性基团选自双键基团、三键基团、卤化物基团、环氧基团。4.根据前述权利要求任一项所述的涂层,其中,所述第一层包含含有式(I)的重复单元的聚合物:-[WR3C=CR4Z]-(I)其中,W可独立地为键、或者为O、S、CO、C(O)O、CH2O或(CR1R2)p中的一种或几种,Z可独立地为键、或者为O、S、CO、C(O)O、CH2O或(CR5R6)q中的一种或几种,其中,p和q各自独立地为1至6的整数,其中,W、Z、R3和R4基本上为惰性基团;优选地,R1至R6分别独立地选自氢原子、任意取代的直链或支链烷烃链、或任意取代的芳基。5.根据权利要求4所述的涂层,其中,所述W,Z,R3或R4中的至少一个是给电子基团;任选地,给电子基团选自任意取代的直链或支链烷烃链,或任意取代的芳基。6.根据权利要求4或5所述的涂层,其中,W、Z和R3为氢,R4为甲基。7.根据前述权利要求中任一项所述的涂层,其中,所述第二层包括由沉积式(II)的单体化合物制备的聚合物:K-L-[-M-H]m(II)其中:K为含有非芳香族不饱和键的基团;L为连接基团K和M的连接基;M为能够与非芳香族不饱和键反应的基团;H为氢原子;以及m为大于0的整数;优选地,m为1、2、3、4、5或6。8.根据权利要求7所述的涂层,其中,K包括选自C=C、C=N、N=N、或C≡C基团的基团。9.根据权利要求7或8所述的涂层,其中,M选自S、O、NH、NR7、PH、PR8、POR8、P(O)R9和P(O)OR9;其中,R7至R9分别独立地选自任意取代的直链或支链烷烃链、或任意取代的芳基。10.根据权利要求7至9中任一项所述的涂层,其中,L基本上是惰性的。11.根据权利要求7至10中任一项所述的涂层,其中,L选自键、任意取代的直链或支链烷烃链、或任意取代的芳基。12.根据前述权利要求中任一项所述的涂层,其中,所述第二层包含由沉积式(IIa)的单体化合物制备的聚合物:R10R11C=CR12-L-[-S-H]m(IIa)其中,L如权利要求10或11所定义,R10至R12分别独立地选自任意取代的直链或支链烷烃链、任意取代的芳基或氢原子,m为大于0的整数;优选地,m为1、2、3、4、5或6。13.根据权利要求7至12中任一项所述的涂层,其中,式(II)或(IIa)的单体是硫醇-烯;优选地,式(II)或(IIa)的单体为烯丙基硫醇。14.根据权利要求1至16中任一项所述的涂层,其中,所述第二层包含含有式(III)的重复单元的聚合物:其中:X选自基团CRARB或NRC;Y选自基团CRD或N;或者X和Y一起为基团CRE=C;RA至RE分别独立地选自氢原子、任意取代的直链或支链烷烃链、或任意取代的芳基;L如权利要求7,10或11中任一项所定义;和M如权利要求7或9中所定义。15.根据权利要求14所述的涂层,其中,X为CH2;Y为CH;L为CH2,M为S原子。16.根据前述权利要求中任一项所述的涂层,其中,所述交联基团包含基团M,其中,M如权利要求7或9中所定义。17.根据前述权利要求中任一项所述的涂层,其中,所述交联基团包含基团L-M,其中,M和L如权利要求7、9至11中任一项中所定义。18.根据前述权利要求中任一项所述的涂层,其中,所述交联基团包含S、CH2或CH2-S基团。19.根据权利要求1至6中任一项所述的涂层,其包含式(IV)的单元:其中,X、Y、L和M如权利要求14至18中任一项所定义,W、Z、R3至R4如权利要求4至6中任一项所定义。20.根据前述权利要求中任一项所述的涂...
【专利技术属性】
技术研发人员:J·P·S·巴德亚尔,R·C·弗雷泽,
申请(专利权)人:表面创新有限公司,
类型:发明
国别省市:英国,GB
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