用于控制极紫外光辐射源中的激发激光的装置制造方法及图纸

一种控制激发激光的装置和方法，该方法包括在液滴检测器处检测在第一位置由第一辐射源照射的一给定标靶液滴散射的辐射的第一信号。控制激发激光的方法还包括在液滴检测器处检测在相距第一位置一固定距离的第二位置由第二辐射源照射的所述给定标靶液滴散射的辐射的第二信号，以及基于第一信号的检测与第二信号的检测之间的时滞来确定给定标靶液滴的速度。所述方法还包括基于所确定的给定标靶液滴的速度，控制触发一激发脉冲以加热给定标靶液滴的触发时间。

Device for Controlling Excited Laser in Extreme Ultraviolet Radiation Source

A device and method for controlling the excitation of a laser includes detecting the first signal of radiation scattered by a given target droplet irradiated by a first radiation source at the first position at the droplet detector. The method of controlling the laser excitation also includes detecting the second signal of the radiation scattered by the given target droplet at the second position of a fixed distance from the first position at the droplet detector by the second radiation source, and determining the velocity of the given target droplet based on the time delay between the detection of the first signal and the detection of the second signal. The method also includes controlling a triggering pulse to heat the triggering time of a given target droplet based on the determined velocity of the given target droplet.

【技术实现步骤摘要】
用于控制极紫外光辐射源中的激发激光的装置
本专利技术实施例关于一种在半导体制造过程中使用的产生极紫外光辐射(extremeultraviolet(EUV)radiation)的方法和设备。
技术介绍
对计算能力的需求呈指数成长，这种计算能力的增加可通过增加半导体集成电路(integratedcircuits(ICs))的功能密度(即，每个芯片上互连装置的数目)来实现。随着功能密度的增加，芯片上各个装置的尺寸会减小。基于微影制程(lithography，光刻)等半导体制造技术的进步，集成电路中元件尺寸的减小可得到满足。举例来说，用于微影制程的辐射波长已经从紫外光减小到深紫外光(deepultraviolet(DUV))，再到最近的极紫外光(extremeultraviolet(EUV))范围。元件尺寸的进一步减小需要微影制程的分辨率的进一步改善，此可以利用极紫外光微影制程(EUVlithography(EUVL))来实现。极紫外光微影制程采用波长约1到100纳米(nm)的辐射。一种产生极紫外光辐射的方法是激光产生等离子体(laser-producedplasma(LPP))。在一基于激光产生等离子体的极紫外光源(source)中，一高功率激光束聚焦在小的掺锡液滴标靶(tindroplettargets)上以形成高度离子化等离子体，其可发出峰值波长在约13.5纳米的极紫外光辐射。由激光产生等离子体产生的极紫外光辐射的强度取决于通过高功率激光从标靶液滴(targetdroplets)产生等离子体的有效性。使高功率激光的脉冲与标靶液滴的产生和移动同步(Synchronizing)可以提高基于激光产生等离子体的极紫外光辐射源的效率。
技术实现思路
本公开一些实施例提供一种用于控制一极紫外光(EUV)辐射源中的一激发激光的装置，极紫外光辐射源包括配置用以产生标靶液滴的一液滴产生器及配置用以使用激发脉冲加热标靶液滴的一激发激光，所述装置包括一第一辐射源、一第二辐射源、一液滴检测器以及一定时模块。第一辐射源配置用以在一第一位置照射各标靶液滴。第二辐射源配置用以在相距第一位置一固定距离的一第二位置照射各标靶液滴。液滴检测器配置用以检测在第一位置由一给定标靶液滴散射的辐射的一第一信号和在第二位置由所述给定标靶液滴散射的辐射的一第二信号。定时模块配置用以接收第一信号和第二信号、基于接收到的所述信号测量给定标靶液滴的一速度、基于所测量的速度估计提供一激发脉冲以加热给定标靶液滴的一触发时间以及向激发激光提供触发时间。本公开一些实施例提供一种控制极紫外光辐射源中的激发激光的方法，极紫外光辐射源包括配置用以产生标靶液滴的一液滴产生器及配置用以使用激发脉冲加热标靶液滴的激发激光，所述方法包括在一液滴检测器处检测在一第一位置由一第一辐射源照射的一给定标靶液滴散射的辐射的一第一信号。所述方法还包括在液滴检测器处检测在相距第一位置一固定距离的一第二位置由一第二辐射源照射的所述给定标靶液滴散射的辐射的一第二信号。所述方法还包括基于第一信号的检测与第二信号的检测之间的时滞来确定给定标靶液滴的速度。此外，所述方法包括基于所确定的给定标靶液滴的速度，控制触发一激发脉冲以加热给定标靶液滴的触发时间。本公开一些实施例提供一种用于产生极紫外光辐射的设备，包括一液滴产生器、一激发激光、一第一辐射源、一第二辐射源、一液滴检测器以及一定时模块。液滴产生器配置用以产生标靶液滴。激发激光配置用以使用激发脉冲加热标靶液滴。第一辐射源配置用以在一第一位置照射标靶液滴。第二辐射源配置用以在一第二位置照射标靶液滴，第二位置与第一位置相距一固定距离。液滴检测器配置用以检测在第一位置由一给定标靶液滴散射的辐射的一第一信号和在第二位置由所述给定标靶液滴散射的辐射的一第二信号。定时模块配置用以接收第一信号和第二信号、基于第一信号与第二信号之间的时滞来估计提供一激发脉冲以加热给定标靶液滴的一触发时间以及向激发激光提供触发时间。其中，通过加热每个标靶液滴来产生极紫外光辐射脉冲。附图说明图1显示根据本公开一些实施例，一种极紫外光(EUV)微影系统的示意图，其中极紫外光微影系统具有一激光产生等离子体(LPP)极紫外光辐射源。图2A显示根据一实施例，一种用于使激发脉冲的产生与标靶液滴到达激发区同步的装置的示意图。图2B和图2C示意性地显示激发激光的不正确定时的(incorrectlytimed)预脉冲的结果。图3显示根据本公开一实施例，一种控制用于极紫外光辐射源的激发激光的方法的流程图。图4A显示根据本公开一实施例，一种用于控制极紫外光辐射源中的激发激光的装置的示意图。图4B显示根据本公开一替代实施例，用于控制图4A的极紫外光辐射源中的激发激光的装置中的第二辐射源的示意图。附图标记说明：100～极紫外光辐射源；105～腔室；110～(激光产生等离子体)收集器/收集镜；115～标靶液滴产生器；117～喷嘴；200～曝光工具；300～激发激光源；310～激光产生器/激光源；320～激光引导光学元件；330～聚焦设备；410～液滴照明源/(第一)辐射源；410’～第一辐射源/分光镜；415～液滴照明源/(第二)辐射源；415’～第二辐射源；420～液滴检测传感器/液滴检测器；430～定时和能量测量模块；3000～方法；d’～固定距离；P～(第一)位置；P2～第二位置；DP～标靶液滴；DP1～阻尼器；DP2～阻尼器；LR1～激光；LR2～激发激光/激发脉冲/激光脉冲/激光；PP1～基座板；PP2～基座板；BF～底层；MF～主层；ZE～激发区；EUV～极紫外光；S310、S320、S330、S340～操作。具体实施方式以下的公开内容提供许多不同的实施例或范例以实施本公开的不同特征。以下的公开内容叙述各个构件及其排列方式的特定范例，以简化说明。当然，这些特定的范例并非用以限定。例如，若是本公开书叙述了一第一特征形成于一第二特征之上或上方，即表示其可能包含第一特征与第二特征是直接接触的实施例，亦可能包含了有附加特征形成于第一特征与第二特征之间，而使第一特征与第二特征可能未直接接触的实施例。另外，以下公开书不同范例可能重复使用相同的参考符号及/或标记。这些重复是为了简化与清晰的目的，并非用以限定所讨论的不同实施例及/或配置之间有特定的关系。为了简单和清楚起见，各种特征可能以不同比例任意绘制。再者，空间相关用语，例如“在…下方”、“下方”、“较低的”、“上方”、“较高的”及类似的用语，是为了便于描述图示中一个元件或特征与另一个(些)元件或特征之间的关系。除了在附图中示出的方位外，这些空间相关用语意欲包含使用中或操作中的装置的不同方位。设备/装置可能被转向不同方位(旋转90度或其他方位)，则在此使用的空间相关词也可依此相同解释。另外，在本文中出现的用语“由…制成”可以表示“包括”或“由…组成”。本公开实施例主要关于极紫外光(EUV)微影系统及方法。更具体来说，本公开实施例涉及用于控制在一基于激光产生等离子体(LPP-based)的极紫外光辐射源中使用的激发激光(excitationlase)的设备及方法。激发激光可加热激光产生等离子体腔室中的金属(例如，锡)标靶液滴，以将液滴电解离成可发射极紫外光辐射本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于控制一极紫外光辐射源中的一激发激光的装置，该极紫外光辐射源包括配置用以产生标靶液滴的一液滴产生器，并且该激发激光配置用以使用激发脉冲加热所述标靶液滴，该装置包括：一第一辐射源，配置用以在一第一位置照射各所述标靶液滴；一第二辐射源，配置用以在相距该第一位置一固定距离的一第二位置照射各所述标靶液滴；一液滴检测器，配置用以检测在该第一位置由一给定标靶液滴散射的辐射的一第一信号和在该第二位置由该给定标靶液滴散射的辐射的一第二信号；以及一定时模块，配置用以接收该第一信号和该第二信号、基于接收到的所述信号测量该给定标靶液滴的一速度、基于所测量的该速度估计提供一激发脉冲以加热该给定标靶液滴的一触发时间以及向该激发激光提供该触发时间。

【技术特征摘要】
2017.11.14 US 62/585,778;2018.02.27 US 15/906,5741.一种用于控制一极紫外光辐射源中的一激发激光的装置，该极紫外光辐射源包括配置用以产生标靶液滴的一液滴产生器，并且该激发激光配置用以使用激发脉冲加热所述标靶液滴，该装置包括：一第一辐射源，配置用以在一第一位置照射各所述标...

【专利技术属性】
技术研发人员：赖韦志，张汉龙，刘柏村，陈立锐，郑博中，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71