染料结构制造技术

本发明专利技术公开一种用于彩膜光刻胶的染料结构，包含：一染料芯核；一保护层，包覆在所述染料芯核外，所述保护层由一耐热高分子聚合物所形成；及一紫外光吸收剂，散布于所述保护层中。本发明专利技术可以改善染料的热稳定性并可以经紫外光照射之后不会因染料的裂解而破坏染料的结构，进而避免影响色度。

Dye structure

The invention discloses a dye structure for color film photoresist, comprising: a dye core; a protective layer, which is coated outside the dye core and is formed by a heat-resistant polymer; and an ultraviolet light absorbent, which is dispersed in the protective layer. The invention can improve the thermal stability of dyes and avoid affecting the chroma of dyes after being irradiated by ultraviolet light without destroying the structure of dyes due to their pyrolysis.

【技术实现步骤摘要】
染料结构
本专利技术是有关于一种染料结构，特别是有关于一种用于彩膜光刻胶的染料结构。
技术介绍
现今，显示技术的发展过程对色彩呈现的能力的追求，从第一代的sRGB通用色彩标准到DCI通用色彩标准，甚至到下一代的BT.2020通用色彩标准，显示器的色域都在提升。高色域意味着显示器能够显示出更加丰富多彩的色彩，具有更强的色彩展现能力，这样可以有效的避免在显示时候出现失真及色块的情况。由于影像色彩的种类增加，使得显示器画面中的色彩切换可以更加自然，使得画面的层次更加的分明，能够展现更多的细节及更加接近真实的效果。一般而言，液晶显示因为屏幕本身并不具备自发光属性，提升色域主要工艺是通过包含三原色(红、绿、蓝)的彩膜滤光片(CF)来实现。目前彩膜滤光片主要是由酞菁、偶氮、蒽醌类颜料(Pigment)分散于树脂之中，通过涂布、曝光、显影等制程形成R/G/B图案化的图案。通常这些颜料对溶剂(例如，彩膜CF常用的有机溶剂丙二醇甲醚醋酸酯(PropyleneGlycolMonomethylEtherAcetate(PGMEA))的溶解性都比较差，以至于分散性差，而且颗粒型态的颜料会造成散射，对LCD的亮度及对比度都有一定的影响。所以，目前将颜料色阻染料化(Dye)，如此可以有效的解决溶解性及分散性的问题，有利于提升LCD的亮度及对比度。然而，所述使用染料取代颜料在实际使用上仍具有下述问题，例如：染料的热稳定性较差，难以满足LCD的工艺制程的需求(通常工艺制程最高温度为230℃及具有紫外光制程)。通常很多染料在热制程中稳定性差，在工艺制程中会发生热裂解，对彩膜滤光片的色度影响很大。再者，LCD的制程中具有紫外光制程(例如紫外光清洗及曝光等)，很多染料耐紫外光性能力差，经紫外光照射之后会裂解而破坏染料的结构，进而对色度产生影响。因此，开发耐紫外光性能的染料是发展高质量、新世代LCD的一个亟待解决的难题。故，有必要提供一种染料结构，以解决现有技术所存在的问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种染料结构，以解决现有技术所存在的染料的热稳定性较差及经紫外光照射之后会裂解而破坏染料结构的问题。本专利技术的主要目的在于提供一种染料结构，其可以改善染料的热稳定性。本专利技术的次要目的在于提供一种染料结构，其可以经紫外光照射之后不会因染料的裂解而破坏染料的结构，进而避免影响色度。为达成本专利技术的前述目的，本专利技术一实施例提供一种用于彩膜光刻胶的染料结构，所述染料结构包含：一染料芯核；一保护层，包覆在所述染料芯核外，所述保护层由一耐热高分子聚合物所形成；及一紫外光吸收剂，散布于所述保护层中。再者，本专利技术另一实施例提供另一种彩膜光刻胶，所述彩膜光刻胶包含：一基材，包含一高分子树脂、一单体、一光引发剂及一溶剂；以及一染料，包含：一染料芯核；一保护层，包覆在所述染料芯核外围，所述保护层由一耐热高分子聚合物所形成；及一紫外光吸收剂，散布于所述保护层中。在本专利技术的一实施例中，所述染料芯核由下式I、II或III所组成：在本专利技术的一实施例中，所述保护层的耐热高分子聚合物包含选自由以下组成的群组：聚苯乙烯、双酚A聚碳酸酯、聚碳酸酯、聚(甲基丙烯酸甲酯)、尼龙6、聚氨酯及聚亚酰胺中的一种或多种的嵌段物。在本专利技术的一实施例中，所述紫外光吸收剂的一吸收波长为420纳米以下。在本专利技术的一实施例中，所述紫外光吸收剂由2,2’-二羟基-4-甲氧基二苯甲酮衍生物组成。在本专利技术的一实施例中，所述紫外光吸收剂由下式IV所组成：其中R1选自由以下组成的群组：烷氧基、酯基、非共轭结构的直链烷烃、非共轭结构的支链烷烃、含烷氧基的直链或者支链烷烃、氟取代的烷烃衍生物、通过烷氧基及酯基相连接的共轭结构、五元杂环化合物、六元杂环化合物、苯并杂环化合物及稠环杂环化合物；其中，当R1为烷氧基、酯基及氟取代的烷烃衍生物时，R1的碳链长度为1至25；及其中当R1为五元杂环化合物时，R1选自由以下组成的群组：呋喃、噻吩、吡咯、噻唑及咪唑；当R1为六元杂环化合物时，R1选自由以下组成的群组：吡啶、吡嗪、嘧啶及哒嗪；及当R1为稠环杂环化合物，R1选自由以下组成的群组：吲哚、喹啉、蝶啶及吖啶。与现有技术相比较，本专利技术的染料结构，这样不但可改善染料的热稳定性，还可以使得染料经紫外光照射之后不会裂解而破坏染料结构的问题。附图说明为让本专利技术的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：图1是本专利技术第一实施例染料结构的示意图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。再者，本专利技术所提到的方向用语，例如上、下、顶、底、前、后、左、右、内、外、侧面、周围、中央、水平、横向、垂直、纵向、轴向、径向、最上层或最下层等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。请参照图1所示，本专利技术第一实施例的染料结构主要包含一染料芯核10；一保护层20，包覆在所述染料芯核10外，所述保护层20由一耐热高分子聚合物所形成；及一紫外光吸收剂21，散布于所述保护层20中。本专利技术将于下文利用图1逐一详细说明第一实施例上述各元件的细部构造、成分组成及其运作原理。请参照图1所示，本专利技术第一实施例的染料结构的所述染料芯核10由下式I、II或III所组成：请参照图1所示，本专利技术第一实施例的染料结构中，所述保护层20包覆在所述染料芯核10外。所述保护层20由一耐热高分子聚合物所形成，所述耐热高分子聚合物包含选自由以下组成的群组：聚苯乙烯、双酚A聚碳酸酯、聚碳酸酯、聚(甲基丙烯酸甲酯)、尼龙6、聚氨酯及聚亚酰胺中的一种或多种的嵌段物。所述耐热高分子聚合物的分子量可以是1000～20000。所述保护层20主要采用微乳液聚合的方式将添加所述紫外光吸收剂21的高分子聚合物包裹在所述染料芯核10的外层，从而实现保护作用，以提高耐热及耐UV性能。本实施例中，所述染料芯核10为球状结构。于其他实施例中，所述染料芯核10可以配置为其他所需的形状。请参照图1所示，当使用本专利技术第一实施例的染料结构中更具有所述紫外光吸收剂21，散布于所述保护层20中。所述紫外光吸收剂21由二苯甲酮衍生物组成。本实施例中，所述二苯甲酮衍生物为2,2’-二羟基-4-甲氧基二苯甲酮衍生物。所述紫外光吸收剂21的一吸收波长为420纳米以下。换句话说，所述紫外光吸收剂21吸收波长420纳米以下的光线，而且对紫外光(包含极紫外光(ExtremeUltraViolet,EUV)及深紫外光(DeepUltraViolet,DUV)段)具有高的吸收效率且稳定性好，以避免紫外光造成染料的裂解。所述紫外光吸收剂21由下式IV所组成：其中R1选自由以下组成的群组：烷氧基、酯基、非共轭结构的直链烷烃、非共轭结构的支链烷烃、含烷氧基的直链或者支链烷烃、氟取代的烷烃衍生物、通过烷氧基及酯基相连接的共轭结构、五元杂环化合物、六元杂环化合物、苯并杂环化合物及稠环杂环化合物；其中，当R1为烷氧基、酯基及氟取代的烷烃衍生物时，R1的碳链长度为1至25；及其中当R1为五元杂环化合物时，R1选自由以下组成的群组：呋喃、噻吩、吡咯、噻唑及咪唑；当R1为六元杂环化合物时，R1选自由以下组成的群组：吡啶、吡嗪、嘧啶本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于彩膜光刻胶的染料结构，其特征在于：所述染料结构包含：一染料芯核；一保护层，包覆在所述染料芯核外，所述保护层由一耐热高分子聚合物所形成；及一紫外光吸收剂，散布于所述保护层中。

【技术特征摘要】
1.一种用于彩膜光刻胶的染料结构，其特征在于：所述染料结构包含：一染料芯核；一保护层，包覆在所述染料芯核外，所述保护层由一耐热高分子聚合物所形成；及一紫外光吸收剂，散布于所述保护层中。2.如权利要求1所述的染料结构，其特征在于：所述染料芯核由下式I、II或III所组成：3.如权利要求1所述的染料结构，其特征在于：所述保护层的耐热高分子聚合物包含选自由以下组成的群组：聚苯乙烯、双酚A聚碳酸酯、聚碳酸酯、聚(甲基丙烯酸甲酯)、尼龙6、聚氨酯及聚亚酰胺中的一种或多种的嵌段物。4.如权利要求1所述的染料结构，其特征在于：所述紫外光吸收剂的一吸收波长为420纳米以下。5.如权利要求1所述的染料结构，其特征在于：所述紫外光吸收剂由2,2’-二羟基-4-甲氧基二苯甲酮衍生物组成。6.如权利要求1所述的染料结构，其特征在于：所述紫外光吸收剂由下式IV所组成：其中R1选自由以下组成的群组：烷氧基、酯基、非共轭结构的直链烷烃、非共轭结构的支链烷烃、含烷氧基的直链或者支链烷烃、氟取代的烷烃衍生物、通过烷氧基及酯基相连接的共轭结构、五元杂环化合物、六元杂环化合物、苯并杂环化合物及稠环杂环化合物；其中，当R1为烷氧基、酯基及氟取代的烷烃衍生物时，R1的碳链长度为1至25；及其中当R1为五元杂环化合物时，R1选自由以下组成的群组：呋喃、噻吩、吡咯、噻唑及咪唑；当R1为六元杂环化合物时，R1选自由以下组...

【专利技术属性】
技术研发人员：查宝，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44