The present application discloses a pink display cover and a display device, including: a coating layer and glass on the display module in turn; the coating layer comprises a first silica layer, a first niobium pentoxide layer, a second silica layer, a second niobium pentoxide layer, a third silica layer, a third niobium pentoxide layer, a fourth silica layer, and a fourth niobium pentoxide layer. Stacked together. Because the coating layer has eight layers of overlapping silicon dioxide layer and niobium pentoxide layer, when light passes through the glass and the coating layer with these eight layers, the visual effect of the breathing screen can be pink, which is distinct from the black effect of the traditional breathing screen, and has a high recognition. At the same time, the lighting screen is colorless, with low cost, simple processing and high quality rate. The advantages of mass production.
【技术实现步骤摘要】
一种粉红显示盖板及显示装置
本技术涉及显示
,特别是涉及一种粉红显示盖板及显示装置。
技术介绍
随着电子设备的外观多样化,颜色、样式的风格迥异设计已成为未来显示终端的一大趋势。但是,在手机或智能家居的应用上,在息屏状态下显示装置的显示区域均为黑色,在炫彩的机壳和环境下,搭配黑色的屏幕总是显得突兀,不美观。目前,在现有技术中,还未出现显示装置的显示盖板在息屏状态下显示粉红色的视觉效果,且在点亮屏幕时无色,不影响显示内容。
技术实现思路
有鉴于此,本技术的目的在于提供一种粉红显示盖板及显示装置,可以实现息屏呈现粉红色的视觉效果,同时点亮屏幕无色。其具体方案如下:一种粉红显示盖板,包括:依次位于显示模块上的镀膜层和玻璃;其中,所述镀膜层由第一二氧化硅层、第一五氧化二铌层、第二二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第三二氧化硅层、第三五氧化二铌层、第四二氧化硅层、第四五氧化二铌层堆叠而成。优选地,在本技术实施例提供的上述粉红显示盖板中,所述第一二氧化硅层与所述玻璃直接接触。优选地,在本技术实施例提供的上述粉红显示盖板中,所述第一二氧化硅层的厚度范围为80nm至120nm。优选地,在本技术实施例提供的上述粉红显示盖板中,所述第一五氧化二铌层的厚度范围为10nm至30nm。优选地,在本技术实施例提供的上述粉红显示盖板中,所述第二二氧化硅层的厚度范围为10nm至30nm。优选地,在本技术实施例提供的上述粉红显示盖板中,所述第二五氧化二铌层的厚度范围为50nm至80nm。优选地,在本技术实施例提供的上述粉红显示盖板中,所述第三二氧化硅层的厚度范围为100nm至200nm。优选地,在 ...
【技术保护点】
1.一种粉红显示盖板,其特征在于,包括:依次位于显示模块上的镀膜层和玻璃;其中,所述镀膜层由第一二氧化硅层、第一五氧化二铌层、第二二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第三二氧化硅层、第三五氧化二铌层、第四二氧化硅层、第四五氧化二铌层堆叠而成。
【技术特征摘要】
1.一种粉红显示盖板,其特征在于,包括:依次位于显示模块上的镀膜层和玻璃;其中,所述镀膜层由第一二氧化硅层、第一五氧化二铌层、第二二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第三二氧化硅层、第三五氧化二铌层、第四二氧化硅层、第四五氧化二铌层堆叠而成。2.根据权利要求1所述的粉红显示盖板,其特征在于,所述第一二氧化硅层与所述玻璃直接接触。3.根据权利要求2所述的粉红显示盖板,其特征在于,所述第一二氧化硅层的厚度范围为80nm至120nm。4.根据权利要求2所述的粉红显示盖板,其特征在于,所述第一五氧化二铌层的厚度范围为10nm至30nm。5.根据权利要求2所述的粉红显示盖板,其特征在于,所述第二二氧化硅层的厚度范围为...
【专利技术属性】
技术研发人员:裴立志,周伟杰,
申请(专利权)人:信利光电股份有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
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