This paper provides an electromagnetic cooking device and its control method. The electromagnetic cooking device comprises a chamber in which a liquid is placed and a plurality of radio frequency feeds configured to introduce electromagnetic radiation into the chamber to heat the liquid. A controller is provided, which is configured to analyze the forward and reverse power at multiple RF feeders to calculate efficiency, determine and monitor the coefficient of change of efficiency, detect the heating state of liquid based on the change of coefficient of change, and adjust the power level of electromagnetic radiation in response to the detection of heating state.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有自动沸腾检测的电磁烹饪装置和控制电磁烹饪装置中的烹饪的方法
技术介绍
本装置总体上涉及一种用于电磁烹饪的方法和装置,更具体地,涉及一种用于确定和控制微波炉内的谐振模式的方法和装置。传统的微波炉通过介电加热的过程烹饪食物,其中高频交变电磁场分布在整个封闭腔室中。射频频谱的子带(在2.45GHz或其附近的微波频率)主要通过吸收水中的能量而引起介电加热。为了在常规微波中产生微波频率辐射,施加到高压变压器的电压产生高压功率,其施加到产生微波频率辐射的磁控管。然后,微波通过波导传输到包含食物的封闭腔室。在具有单个非相干源(例如磁控管)的封闭腔室中烹饪食物可能导致食物的非均匀加热。为了更均匀地加热食物,微波炉除其它之外还包括机械解决方案,例如微波搅拌器和用于旋转食物的转盘。普通的基于磁控管的微波源不是窄带的并且不可调谐(即以随时间变化且不可选择的频率发射微波)。作为这种普通的基于磁控管的微波源的替代物,可调谐并相干的固态源可以包括在微波炉中。
技术实现思路
根据本专利技术的一个方面,提供了一种电磁烹饪装置。该电磁烹饪装置包括其中放置液体的腔室和被配置为将电磁辐射引入腔室以加热液体的多个射频馈源。提供控制器,其被配置为:分析多个射频馈源处的正向功率和反向功率以计算效率;确定并监视效率的变化系数;基于变化系数的改变来检测液体的加热状态;并响应于加热状态的检测来调节电磁辐射的功率电平。根据本专利技术的另一方面,提供了一种控制电磁烹饪装置中的烹饪的方法。该电磁烹饪装置具有其中放置液体的腔室和被配置为将电磁辐射引入腔室以加热液体的多个射频馈源。该方法包括以下步骤:分析多个射频馈源处的 ...
【技术保护点】
1.一种电磁烹饪装置,所述电磁烹饪装置包括:放置液体的腔室;多个射频馈源,所述多个射频馈源被配置为将电磁辐射引入所述腔室中以加热所述液体;以及控制器,所述控制器被配置为:分析所述多个射频馈源处的正向功率和反向功率以计算效率;确定并监视所述效率的变化系数;基于所述变化系数的改变来检测所述液体的加热状态;并且响应于所述加热状态的检测来调节所述电磁辐射的功率电平。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种电磁烹饪装置,所述电磁烹饪装置包括:放置液体的腔室;多个射频馈源,所述多个射频馈源被配置为将电磁辐射引入所述腔室中以加热所述液体;以及控制器,所述控制器被配置为:分析所述多个射频馈源处的正向功率和反向功率以计算效率;确定并监视所述效率的变化系数;基于所述变化系数的改变来检测所述液体的加热状态;并且响应于所述加热状态的检测来调节所述电磁辐射的功率电平。2.根据权利要求1所述的电磁烹饪装置,其中,所述变化系数基于预定时间段内所述效率的标准偏差和平均值。3.根据权利要求2所述的电磁烹饪装置,其中,所述变化系数是通过计算所述标准偏差与所述平均值之间的商来确定的。4.根据权利要求1至3中任一项所述的电磁烹饪装置,其中,所述加热状态包括强沸腾状态或弱沸腾状态。5.根据权利要求4所述的电磁烹饪装置,其中,通过将所述变化系数与阈值进行比较来检测所述加热状态,所述阈值是利用在所述液体的初始加热时段内确定的变化系数来预先确定或定义的。6.根据权利要求4所述的电磁烹饪装置,其中,通过将所述变化系数与掩模进行比较来检测所述加热状态,所述掩模包括上升函数,所述上升函数是利用在所述液体的初始加热时段内确定的变化系数来预先确定或定义的。7.根据权利要求1至6中任一项所述的电磁烹饪装置,其中,所述控制器通过增大所述功率电平、减小所述功率电平或停止加热所述液体来调节所述功率电平。8.一种控制电磁烹饪装置中的烹饪的方法,所述电磁烹饪装置具有放置液体的腔室和被配置为将电磁辐射引入所述腔室中以加热所述液体的多个射频馈源,所述方法包括以下步骤:分析所述多个射频馈源处的正向功率和反向功率以计算效率;确定所述效率的变化系数;基于所述变化系数的改变来检测所述液体的加热状态;以及响应于所述加热状态的检测来调节所述电磁辐射的功率电平。9.根据权利要求8所述的方法,其中,所述变化系数是通过计算在预定时间段内所述效率的标准偏差与平均值之间的商来确定的。10.根据权利要求8和9中任一项所述的方法,该方法还包括在检测到所述加热状态后输出通知的步骤。11.根据权利要求8至10中任一项所述的方法,其中,所述加热状态包括强沸腾状态或弱...
【专利技术属性】
技术研发人员:D·古阿塔,V·诺切拉,
申请(专利权)人:松下电器产业株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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