触摸面板的制造方法技术

本发明专利技术提供一种触摸面板的制造方法，其包括：准备触摸面板用基板的工序，该触摸面板用基板具有在基板上配置有电极及配线的结构；在触摸面板用基板的配置有配线的一侧的表面上设置感光性层的工序；对感光性层进行图案曝光的工序；对感光性层进行显影而形成保护层的工序，该保护层具有使配线的一部分露出的开口部；设置横跨在保护层上和露出于开口部的配线上的着色层的工序；以及对着色层进行图案曝光并进行显影而在保护层上形成着色图案，并且使配线露出于开口部的工序，在设置着色层的工序之前，具有使特定唑类化合物与配线接触的工序。

Manufacturing Method of Touch Panel

The invention provides a method for manufacturing a touch panel, which includes: preparation of a base plate for a touch panel, which has a structure with electrodes and wiring on the base plate; installation of a photosensitive layer on the surface of one side of the base plate for a touch panel; pattern exposure of the photosensitive layer; and development of the photosensitive layer. The process of forming a protective layer, which has an opening to expose a part of the wiring, a process of setting a coloring layer across the protective layer and the wiring exposed at the opening, and a process of exposing and developing the pattern of the coloring layer to form a coloring pattern on the protective layer and exposing the wiring to the opening, prior to the process of setting the coloring layer, has the following procedures: The process of contacting a particular azole compound with a wiring.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】触摸面板的制造方法
本专利技术涉及一种触摸面板的制造方法。
技术介绍
以往，已知有用于对经曝光的感光性层进行显影的显影液。例如，作为大幅改善感光性聚酰亚胺的分辨特性及残膜特性的显影液，已知有如下显影液：25℃下的水溶液中的碱解离指数pKb为5～8，并且包括选自包括取代或未取代的N-取代咪唑、取代或未取代的N-取代吗啉、取代或未取代的N-取代吡咯啉、取代或未取代的N-(2-氰基乙基)哌嗪、取代或未取代的2-(N,N-二取代氨基)丙腈、取代或未取代的N,N-二取代氨基炔丙胺的组中的至少一种叔胺化合物的水溶液(例如，参考日本专利第3677191号公报)。并且，作为不腐蚀铝等金属便能够进行显影的抗蚀剂显影液，已知有包含选自包括三唑、咪唑、噻唑、噻二唑及它们的衍生物的组中的至少一种化合物的抗蚀剂显影液(例如，参考日本特开2005-208329号公报)。并且，已知有一种相对于有机溶剂和负型显影液的总质量含有0.015质量％～0.4质量％的芳香族化合物(例如咪唑)的负型显影液，该负型显影液含有极性通过酸的作用而增大的树脂，并通过活化光线或放射线的照射进行负型显影，且用于通过淋洗形成负型图案的抗蚀剂图案形成方法，能够形成没有由于显影后的残渣等引起的表面缺陷、LWR(LineWidthRoughness：线宽粗糙度)等问题的抗蚀剂图案(例如，参考日本特开2014-211478号公报)。并且，已知有使干膜抗蚀剂溶胀而将其剥离的剥离液。例如，作为抗蚀剂剥离性良好且对铜配线的损伤低的抗蚀剂剥离液，已知有含有单乙醇胺0.5质量％～20质量％、季铵氢氧化物0.2质量％～10质量％、乙二醇类0.01质量％～10质量％及唑类0.01质量％～0.5质量％的抗蚀剂剥离液(例如，参考日本特开2015-046575号公报)。
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题通常，在触摸面板的制造方法中，以覆盖配置于基板上的触摸面板用配线的方式形成感光性层之后，对所形成的感光性层进行图案曝光，并对经图案曝光的感光性层进行显影，从而在基板上形成硬化膜(即保护层)。保护层上形成有露出触摸面板用配线的一部分的开口部(所谓焊盘部)。本专利技术人等确认到，若触摸面板用配线露出于该保护层的开口部(焊盘部)，则可发生在工序中进行后烘烤等热处理时，触摸面板用配线变色的问题。触摸面板具备显示图像的图像显示区域及配置于该图像显示区域的周围的图像非显示区域(还称为“框部”。)。在触摸面板中，为了隐藏设置于该框部的触摸面板用配线的配线图案等，有时会在保护层上设置含有黑色颜料等的着色图案。但是，通过本专利技术人等的研究发现，在保护层上设置含有着色剂的着色层，对已设置的着色层进行图案曝光并进行显影，从而在保护层上形成着色图案时，可在保护层的开口部(焊盘部)中产生着色层的显影残渣。保护层的开口部(焊盘部)中的触摸面板用配线的变色及着色层的显影残渣的产生例如会导致与IC(IntegratedCircuit：集成电路)控制器的连接不良，因此不优选。至今为止，还没有关于可在具备着色图案的触摸面板的保护层的开口部(焊盘部)中产生的、触摸面板用配线的变色及着色层的显影残渣的问题的报告。本专利技术的一实施方式所要解决的课题在于，提供一种触摸面板的制造方法，所述触摸面板在具有触摸面板用配线的基板上具备保护层及设置于该保护层上的着色图案，该保护层具有使触摸面板用配线的一部分露出的开口部，该方法可以抑制露出于开口部的触摸面板用配线的变色和开口部中的着色层的显影残渣的产生。用于解决技术课题的手段用于解决上述课题的方法包括以下方式。＜1＞一种触摸面板的制造方法，其包括：准备触摸面板用基板的工序，该触摸面板用基板具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用配线的结构；在触摸面板用基板的配置有触摸面板用配线的一侧的表面上设置含有自由基聚合性单体及自由基聚合引发剂的感光性层的工序；对感光性层进行图案曝光的工序；通过使用显影液对经图案曝光的感光性层进行显影而形成保护层的工序，该保护层具有使触摸面板用配线的一部分露出的开口部；设置含有着色剂、自由基聚合性单体及自由基聚合引发剂的着色层的工序，该着色层横跨在保护层上和露出于开口部的触摸面板用配线上；以及通过对着色层进行图案曝光并进行显影，从而在保护层上形成着色图案，并且使触摸面板用配线露出于开口部的工序，在设置着色层的工序之前，具有使选自包括咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物的组中的至少一种唑类化合物与触摸面板用配线接触的工序。＜2＞根据＜1＞所述的触摸面板的制造方法，其包括：准备触摸面板用基板的工序，该触摸面板用基板具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用配线的结构；在触摸面板用基板的配置有触摸面板用配线的一侧的表面上设置含有自由基聚合性单体及自由基聚合引发剂的感光性层的工序；对感光性层进行图案曝光的工序；通过使用显影液对经图案曝光的感光性层进行显影而形成保护层的工序，该显影液含有选自包括咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物的组中的至少一种唑类化合物，该保护层具有使触摸面板用配线的一部分露出的开口部；设置含有着色剂、自由基聚合性单体及自由基聚合引发剂的着色层的工序，该着色层横跨在保护层上和露出于开口部的触摸面板用配线上；以及通过对着色层进行图案曝光并进行显影，从而在保护层上形成着色图案，并且使触摸面板用配线露出于开口部的工序。＜3＞根据＜2＞所述的触摸面板的制造方法，其中，选自包括咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物的组中的至少一种唑类化合物的共轭酸的pKa为4.00以下。＜4＞根据＜2＞或＜3＞所述的触摸面板的制造方法，其中，显影液含有选自包括三唑化合物及四唑化合物的组中的至少一种唑类化合物。＜5＞根据＜2＞至＜4＞中任一项所述的触摸面板的制造方法，其中，显影液含有选自1,2,3-苯并三唑及5-氨基-1H-四唑中的至少一种唑类化合物。＜6＞根据＜2＞至＜5＞中任一项所述的触摸面板的制造方法，其中，相对于显影液的总质量，显影液中的选自包括咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物的组中的至少一种唑类化合物的含量为0.01质量％以上且2.0质量％以下。＜7＞根据＜2＞至＜6＞中任一项所述的触摸面板的制造方法，其中，感光性层的厚度为20μm以下。＜8＞根据＜1＞所述的触摸面板的制造方法，其中，准备触摸面板用基板的工序包括：准备在基板上至少配置有金属膜的配线形成用基板的工序；在配线形成用基板的配置有金属膜的一侧的表面上设置光阻剂层的工序；通过对光阻剂层进行图案曝光并进行显影，使光阻剂层图案化的工序；对未配置有经图案化的光阻剂层的基板上的金属膜进行蚀刻的工序；及蚀刻金属膜之后，使用剥离液剥离经图案化的光阻剂层，从而使经图案化的金属膜露出的工序，该剥离液含有选自包括咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物的组中的至少一种唑类化合物。＜9＞根据＜8＞所述的触摸面板的制造方法，其中，选自包括咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物的组中的至少一种唑类化合物的共轭酸的pKa为4.00以下。＜10＞根据＜8＞或＜9＞所述的触摸面板的制造方法，其中，剥离液含有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触摸面板的制造方法，其包括：准备触摸面板用基板的工序，该触摸面板用基板具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用配线的结构；设置感光性层的工序，在所述触摸面板用基板的配置有所述触摸面板用配线的一侧的表面上设置感光性层，该感光性层含有自由基聚合性单体及自由基聚合引发剂；对所述感光性层进行图案曝光的工序；通过使用显影液对经图案曝光的所述感光性层进行显影而形成保护层的工序，该保护层具有使所述触摸面板用配线的一部分露出的开口部；设置含有着色剂、自由基聚合性单体及自由基聚合引发剂的着色层的工序，该着色层横跨在所述保护层上和露出于所述开口部的所述触摸面板用配线上；以及通过对所述着色层进行图案曝光并进行显影，从而在所述保护层上形成着色图案，并且使所述触摸面板用配线露出于所述开口部的工序，在设置所述着色层的工序之前，具有使选自包括咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物的组中的至少一种唑类化合物与所述触摸面板用配线接触的工序。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.09.29 JP 2016-192276;2016.12.26 JP 2016-250601.一种触摸面板的制造方法，其包括：准备触摸面板用基板的工序，该触摸面板用基板具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用配线的结构；设置感光性层的工序，在所述触摸面板用基板的配置有所述触摸面板用配线的一侧的表面上设置感光性层，该感光性层含有自由基聚合性单体及自由基聚合引发剂；对所述感光性层进行图案曝光的工序；通过使用显影液对经图案曝光的所述感光性层进行显影而形成保护层的工序，该保护层具有使所述触摸面板用配线的一部分露出的开口部；设置含有着色剂、自由基聚合性单体及自由基聚合引发剂的着色层的工序，该着色层横跨在所述保护层上和露出于所述开口部的所述触摸面板用配线上；以及通过对所述着色层进行图案曝光并进行显影，从而在所述保护层上形成着色图案，并且使所述触摸面板用配线露出于所述开口部的工序，在设置所述着色层的工序之前，具有使选自包括咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物的组中的至少一种唑类化合物与所述触摸面板用配线接触的工序。2.根据权利要求1所述的触摸面板的制造方法，其包括：准备触摸面板用基板的工序，该触摸面板用基板具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用配线的结构；设置感光性层的工序，在所述触摸面板用基板的配置有所述触摸面板用配线的一侧的表面上设置感光性层，该感光性层含有自由基聚合性单体及自由基聚合引发剂；对所述感光性层进行图案曝光的工序；通过使用显影液对经图案曝光的所述感光性层进行显影而形成保护层的工序，该显影液含有：选自包括咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物的组中的至少一种唑类化合物，该保护层具有使所述触摸面板用配线的一部分露出的开口部；设置含有着色剂、自由基聚合性单体及自由基聚合引发剂的着色层的工序，该着色层横跨在所述保护层上和露出于所述开口部的所述触摸面板用配线上；以及通过对所述着色层进行图案曝光并进行显影，从而在所述保护层上形成着色图案，并且使所述触摸面板用配线露出于所述开口部的工序。3.根据权利要求2所述的触摸面板的制造方法，其中，所述选自包括咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物的组中的至少一种唑类化合物的共轭酸的pKa为4.00以下。4.根据权利要求2或3所述的触摸面板的制造方法，其中，所述显影液含有：选自包括三唑化合物及四唑化合物的组中的至少一种唑类化合物。5.根据权利要求2至4中任一项所述的触摸面板的制造方法，其中，所述显影液含有：选自1,2,3-苯并三唑及5-氨基-1H-四唑中的至少一种唑类化合物。6.根据权利要求2至5中任一项所述的触摸面板的制造方法，其中，相对于所述显影液的总质量，所述显影液中的选自包括咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物的组中的至少一种唑类化合物的含量为0.01质量％以上且2.0质量％以下。7.根据权利要求2至6中任一项所述的触摸面板的制造方法，其中，所述感光性层的厚度为20μm以下。8.根据权利要求1所述的触摸面板的制造方法，其中，所述准备触摸面板用基板的工序包括：准备在基板上至少配置有金属膜的配线形成用基板的工序；在所述配线形成用基板的配置有所述金属膜的一侧的表面上设置光阻剂层的工序；通过对所述光阻剂层进行图案曝光并进行显影，使所述光阻剂层图案化的工序；对未配置有所述经图案化的光阻剂层的基板上的所述金属膜进行蚀刻的工序；及蚀刻所述金属膜之后，使用剥离液剥离所述经图案化的光阻剂层，从而使经图案化的金属膜露出的工序，该剥离液含有：选自包括咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物的组中的至少一种唑类化合物。9.根据权利要求8所述的触摸面板的制造方法，其中，所述选自包括咪唑化合物、三唑化合物、四唑化合物、噻唑化合物及噻二唑化合物的组中的至少一种唑类化合物的共轭酸的pKa为4.00以下。10.根据权利要求8或9所述的触摸面板的制造方法，其中，所述剥离液含有：选自包括咪唑化合物、三唑化合物及四唑化合物的组中的至少一种唑类化合物。11.根据权利要求8至10中任一项所述的触摸面板的制造方法，其中，所述剥离液...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村秀之，霜山达也，丰冈健太郎，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP