用作沉积掩模的合金金属箔、沉积掩模及其制造方法以及利用该沉积掩模的有机发光元件的制造方法技术

本发明专利技术涉及一种在金属箔形成多个微细的通孔的沉积掩模、用于该沉积掩模的金属箔及其制造方法以及利用所述沉积掩模制造有机EL元件的方法，提供一种用作沉积掩模的Fe‑Ni合金金属箔，其包括：Ni：34～46重量％、余量的Fe及不可避免的杂质，所述金属箔在至少一面上包括图案形成区域和未涂覆区域，相比所述未涂覆区域，所述图案形成区域的厚度薄、表面粗糙度值小，所述未涂覆区域位于金属箔的边缘并包围图案形成区域。

Alloy metal foil, deposit mask and its manufacturing method as well as the manufacturing method of organic light emitting elements using the deposit mask

The present invention relates to a deposition mask for forming multiple fine holes in a metal foil, a metal foil for the deposition mask and its manufacturing method, and a method for manufacturing organic EL elements using the deposition mask. It provides an Fe Ni alloy foil for the deposition mask, which includes: Ni: 34-46 weight%, residual Fe and inevitable impurities, and the metal foil is at least at least one. One side includes a pattern forming area and an uncoated area. Compared with the uncoated area, the thickness of the pattern forming area is thin and the surface roughness value is small. The uncoated area is located at the edge of the metal foil and surrounds the pattern forming area.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用作沉积掩模的合金金属箔、沉积掩模及其制造方法以及利用该沉积掩模的有机发光元件的制造方法
本专利技术涉及一种在金属箔形成多个微细的通孔的沉积掩模、用于该沉积掩模的金属箔及其制作方法。另外，涉及一种利用所述沉积掩模制造有机电致发光(EL)元件的方法。
技术介绍
近年来，随着智能设备的大众化，对虚拟现实(VR)设备的要求逐渐提高，同时，响应速度快、视角广、对比度优异且电力消耗低的有机EL显示器装置受到瞩目。尤其，VR的分辨率越高，提供更大的现实感，因此未来更加需要提高VR设备的画质。为了制造高画质的有机EL显示器，需要显示器装置的像素的微细化。作为形成这种有机EL显示器装置的像素的方法，众所周知的有使用以所要形成的图案的排列形成通孔的沉积掩模来形成所需图案的像素的方法。具体地，将包括通孔的排列的沉积掩模紧贴于有机EL显示器基板，以形成通过真空沉积方式沉积的有机材料的像素。一般来说，在金属箔涂覆光致抗蚀剂膜，并使用光刻技术形成光致抗蚀剂图案，然后通过湿式或干式蚀刻在金属箔形成贯穿的孔(通孔)，从而可以制造沉积掩模。但是，由于需要显示器装置的像素微细化，作为沉积掩模的原材料的金属箔的粗糙度凸显为更重要的特性。在粗糙度高的金属箔上形成图案时，图案的形状变得不精确、均匀度降低，因此可能不适合用于高分辨率的沉积掩模。此外，在需要像素微细化的情况下，利用约50μm至100μm程度的较厚的金属箔来形成高分辨率的图案的方面上，存在技术困难。例如，在厚度较厚的金属箔上形成通孔图案时，由于厚度较厚，在蚀刻过程中发生相邻图案之间的干涉，从而可能无法形成精确的图案。作为解决如上所述的问题的方案，可以利用以较薄的厚度制造的方法。但是当厚度薄至20μm以下的程度而过于薄时，强度降低，并且在制造沉积掩模时，可能会发生基板变形以及伴随操作困难的问题。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本专利技术的各实施例是为了解决上述的问题而提出的，尤其，可以提供一种在蚀刻金属箔时能够精确地形成微细图案以制造沉积掩模的金属箔及包括微细的图案的沉积掩模。另外，可以提供一种在以这种金属箔为基础制造具有多个通孔的沉积掩模时能够保持沉积掩模的强度的金属箔及沉积掩模。(二)技术方案本专利技术的一个方面，提供一种用作沉积掩模的Fe-Ni合金金属箔，根据一个实施例的金属箔包括：Ni：34～46重量％、余量的Fe及不可避免的杂质，所述金属箔在至少一面上包括图案形成区域和未涂覆区域，相比所述未涂覆区域，所述图案形成区域的厚度薄、表面粗糙度值小，所述未涂覆区域位于所述金属箔的边缘并包围图案形成区域。所述图案形成区域的厚度可以为未涂覆区域的厚度的25％至88％，所述图案形成区域的厚度可以具有5μm至15μm的范围。所述Fe-Ni合金金属箔通过电铸而制造，所述图案形成区域的粗糙度值小于所述未涂覆区域的粗糙度。例如，所述图案形成区域的表面粗糙度值可以为未涂覆区域的表面粗糙度值的30％以上且80％以下。本专利技术的另一方面，提供一种用作沉积掩模的Fe-Ni合金金属箔的制造方法，其特征在于，对所述Fe-Ni合金金属箔的一面中除了边缘以外的图案形成区域实施化学研磨，以使所述图案形成区域的厚度变薄，所述Fe-Ni合金金属箔包括：Ni：34～46重量％、余量的Fe及不可避免的杂质。还可以包括以下步骤：对所述Fe-Ni合金金属箔的相反面的整个区域实施化学研磨，以形成薄的厚度。本专利技术的又一方面，提供一种沉积掩模，其在Fe-Ni合金金属箔形成预定图案的通孔，所述Fe-Ni合金金属箔包括：Ni：34～46重量％、余量的Fe及不可避免的杂质，所述沉积掩模在一面上包括图案形成区域和未涂覆区域，在所述图案形成区域形成有所述预定图案的通孔，并且相比所述图案形成区域，所述未涂覆区域的厚度较厚且不包括通孔。所述图案形成区域的厚度可以为未涂覆区域的厚度的25％至88％。例如，所述图案形成区域的厚度可以具有5μm至15μm的范围。所述通孔的内部壁面倾斜，以使得间距从包括图案形成区域和未涂覆区域的一面朝向相反面变宽。所述Fe-Ni合金金属箔通过电铸而制造，所述图案形成区域的粗糙度值可以小于所述未涂覆区域的粗糙度值。所述图案形成区域的表面粗糙度值可以为未涂覆区域的表面粗糙度值的30％以上且80％以下。所述通孔的内部壁面可以在平行于所述沉积掩模表面的方向上包括多个条纹。所述沉积掩模的包括图案形成区域和未涂覆区域的一面的相反面的表面粗糙度值小于所述未涂覆区域的表面粗糙度值。本专利技术的又一方面，提供一种制造沉积掩模的方法，在所述制造的用作掩模的Fe-Ni合金金属箔的所述内部区域内形成光致抗蚀剂图案之后执行蚀刻，以形成通孔。在所述合金箔的相反面可以形成与所述光致抗蚀剂图案对应的光致抗蚀剂图案并执行蚀刻，以形成所述通孔。另外，本专利技术的另一方面，提供一种有机电致发光(EL)元件的制造方法，包括以下步骤：在有机EL显示器基板上层叠所述提供的沉积掩模，并对沉积对象有机物执行真空沉积，以转印掩模图案。(三)有益效果根据本专利技术的实施例，通过控制作为沉积掩模的原材料的金属箔的粗糙度，可以提供一种具有图案的超精确微细化和图案之间的高均匀度的金属箔及沉积掩模。另外，根据本专利技术的一个实施例的作为沉积掩模原材料的金属箔和沉积掩模的制造方法，可以提供一种保持强度的同时伴随所述特征的沉积掩模。附图说明图1是示出制造沉积掩模的工艺图的例示图。图2是概略地示出基于化学研磨的时间的金属箔的表面粗糙度的变化的图表。图3是基于化学研磨的时间的金属箔表面的三维轮廓(3-Dprofile)的平面图图像。图4是基于化学研磨的时间的金属箔表面的3-D轮廓的立体图图像。图5是以化学研磨前后的金属箔为对象，通过蚀刻形成图案时，拍摄形成在金属箔的通孔的光学图像。最佳实施方式近年来，随着像素的微细化的需求，在利用约50μm至100μm程度的较厚的金属箔作为沉积掩模时，由于在形成通孔图案时金属箔的厚度厚，在蚀刻过程中发生相邻图案之间的干涉，因此无法形成精确的图案等，在得到高分辨率的图案的方面上存在技术性困难，另外，在使用20μm以下程度的厚度薄的金属箔时，强度降低，由此在制造沉积掩模时发生基板变形等，在操作和处理中伴随着困难。因此，本专利技术的目的在于，提供一种利用厚度厚的金属箔的同时能够形成精确的图案的沉积掩模的制造方法及其掩模。下面，通过附图对本专利技术进行详细说明。本专利技术中，将Fe-Ni合金作为沉积掩模来使用。在所述Fe-Ni合金中，只要是包含34～46重量％的Ni，且余量为铁和不可避免的杂质，则可以不做特别限定。作为所述Fe-Ni金属箔不仅可以使用通过轧制法(Rolling)得到的金属箔，而且还可以使用通过电铸法(Electroforming)得到的金属箔。所述轧制法是将Fe和Ni铸造成钢锭(Ingot)之后反复实施轧制和退火从而制造金属箔的方法，通过这种轧制法制造的Fe-Ni系合金金属箔的伸长率高、表面平滑，因此具有不易发生裂纹的优点。但是，由于制造时的机械性限制，难以制造宽度为1m以上的金属箔，并且在超薄(50μm以下)的情况下，存在需要过高的制造成本的缺点。另外，即使接受这种制造成本方面的不利因素而通过轧制法制造金属箔，由于组织的平均晶粒尺寸粗大而机械物理性质变差。另一方面，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用作沉积掩模的Fe‑Ni合金金属箔，其包括34～46重量％的Ni、余量的Fe及不可避免的杂质，所述金属箔在至少一个面上包括图案形成区域和未涂覆区域，相比所述未涂覆区域，所述图案形成区域的厚度薄、表面粗糙度值小，所述未涂覆区域位于所述金属箔的边缘并包围图案形成区域。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.10.06 KR 10-2016-01292651.一种用作沉积掩模的Fe-Ni合金金属箔，其包括34～46重量％的Ni、余量的Fe及不可避免的杂质，所述金属箔在至少一个面上包括图案形成区域和未涂覆区域，相比所述未涂覆区域，所述图案形成区域的厚度薄、表面粗糙度值小，所述未涂覆区域位于所述金属箔的边缘并包围图案形成区域。2.根据权利要求1所述的用作沉积掩模的Fe-Ni合金金属箔，其中，所述图案形成区域的厚度为未涂覆区域的厚度的25％至88％。3.根据权利要求1所述的用作沉积掩模的Fe-Ni合金金属箔，其中，所述图案形成区域的厚度具有5μm至20μm的范围。4.根据权利要求1至3中任一项所述的用作沉积掩模的Fe-Ni合金金属箔，其中，所述Fe-Ni合金金属箔通过电铸而制造，所述图案形成区域的粗糙度值小于所述未涂覆区域的粗糙度值。5.根据权利要求4所述的用作沉积掩模的Fe-Ni合金金属箔，其中，所述图案形成区域的表面粗糙度值为未涂覆区域的表面粗糙度值的30％以上且80％以下。6.一种用作沉积掩模的Fe-Ni合金金属箔的制造方法，其特征在于，对所述Fe-Ni合金金属箔的一面中除了边缘以外的图案形成区域实施化学研磨，以使所述图案形成区域的厚度变薄，其中，所述Fe-Ni合金金属箔包括：Ni：34～46重量％、余量的Fe及不可避免的杂质。7.根据权利要求6所述的用作沉积掩模的Fe-Ni合金金属箔的制造方法，还包括以下步骤：对所述金属箔的相反面的整个区域实施化学研磨，以形成薄的厚度。8.一种沉积掩模，其在Fe-Ni合金金属箔形成预定图案的通孔，所述Fe-Ni合金金属箔包括：Ni：34～46重量％、余量的Fe及不可...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑官颢，梁洪硕，李载坤，金县泰，金基洙，
申请(专利权)人：POSCO公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR