制造蒸镀掩模的金属板及其检查方法和制造方法、蒸镀掩模及其制造方法和蒸镀掩模装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及制造蒸镀掩模的金属板及其检查方法和制造方法、蒸镀掩模及其制造方法和蒸镀掩模装置。金属板具备具有金属板的长度方向和与长度方向垂直的宽度方向的表面。在使光入射到表面时观测到的反射光之中，在与表面垂直的至少一个平面内以45°±0.2°的角度从表面射出的反射光的表面反射率为8％以上且25％以下。

Metal plate for manufacturing evaporation mask and its inspection method and manufacturing method, evaporation mask and its manufacturing method and evaporation mask device

The invention relates to a metal plate for manufacturing evaporation mask and its inspection method and manufacturing method, evaporation mask and its manufacturing method and evaporation mask device. The sheet metal has a surface with a length direction of the sheet metal and a width direction perpendicular to the length direction. In the reflected light observed when the light is incident on the surface, the surface reflection rate of the reflected light emitted from the surface is more than 8% and less than 25% at an angle of 45 +0.2 in at least one plane perpendicular to the surface.

【技术实现步骤摘要】
制造蒸镀掩模的金属板及其检查方法和制造方法、蒸镀掩模及其制造方法和蒸镀掩模装置
本申请的实施方式涉及用于制造蒸镀掩模的金属板、金属板的检查方法和金属板的制造方法。另外，本申请的实施方式涉及蒸镀掩模、蒸镀掩模装置和蒸镀掩模的制造方法。
技术介绍
近年来，对于在智能手机、平板电脑等可携带的设备中使用的显示装置，要求高精细，例如要求像素密度为500ppi以上。另外，对于可携带的设备而言，对应于超高清(UHD)的需求也在不断提高，这种情况下，显示装置的像素密度例如优选为800ppi以上。由于响应性好、耗电量低，有机EL显示装置受到关注。作为形成有机EL显示装置的像素的方法，已知下述方法：使用包含以所期望的图案排列的贯通孔的蒸镀掩模，以所期望的图案形成像素。具体而言，首先使蒸镀掩模与有机EL显示装置用的基板密合，接着将密合的蒸镀掩模和基板一起投入蒸镀装置，进行有机材料等的蒸镀。作为蒸镀掩模的制造方法，已知通过使用光刻技术的蚀刻在金属板形成贯通孔的方法。例如，首先在金属板的第一面上形成第一抗蚀图案，并且在金属板的第二面上形成第二抗蚀图案。接着，对金属板的第二面中的未被第二抗蚀图案覆盖的区域进行蚀刻，在金属板的第二面形成第二凹部。然后，对金属板的第一面中的未被第一抗蚀图案覆盖的区域进行蚀刻，在金属板的第一面形成第一凹部。此时，按照第一凹部与第二凹部相通的方式进行蚀刻，由此可以形成贯通金属板的贯通孔。除此以外，作为蒸镀掩模的制造方法，已知利用镀覆处理制造蒸镀掩模的方法。例如，首先准备具有导电性的基材。接着，在基材上隔开规定的间隙而形成抗蚀图案。该抗蚀图案设置于应当形成蒸镀掩模的贯通孔的位置。然后，向抗蚀图案的间隙供给镀液，通过电解镀覆处理使金属层析出在基材上。然后，将金属层从基材分离，由此可以得到形成有多个贯通孔的蒸镀掩模。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利第5382259号公报专利文献2：日本特开2001-234385号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题随着有机EL显示装置的像素密度提高，蒸镀掩模的贯通孔的尺寸、排列间距变小。另外，在通过使用光刻技术的蚀刻在金属板形成贯通孔的情况下，设置于金属板的第一面或第二面的抗蚀图案的宽度也变窄。抗蚀图案的宽度变窄意味着抗蚀图案与金属板之间的密合面积变小。因此，要求用于形成抗蚀图案的抗蚀膜具有对于金属板的高密合力。本申请的实施方式是考虑到这样的课题而进行的，其目的在于提供一种能够在金属板的表面稳定地设置窄幅的抗蚀图案的金属板。另外，本申请的实施方式涉及金属板的检查方法和制造方法以及蒸镀掩模、蒸镀掩模装置和蒸镀掩模的制造方法。用于解决课题的手段本申请的一个实施方式为一种金属板，其为用于制造蒸镀掩模的金属板，其中，上述金属板具备具有上述金属板的长度方向和与上述长度方向垂直的宽度方向的表面，在与上述表面垂直的至少一个平面内以45°±0.2°的入射角度使光入射到上述表面时所测定的、上述光的基于规则反射的表面反射率为8％以上且25％以下。本申请的一个实施方式的金属板中，上述表面反射率可以为8％以上且20％以下。本申请的一个实施方式的金属板中，将在与上述表面和上述长度方向垂直的第一平面内以45°±0.2°的入射角度使上述光入射到上述表面时所测定的、上述光的基于规则反射的上述表面反射率称为第一反射率，将在与上述表面和上述宽度方向垂直的第二平面内以45°±0.2°的入射角度使上述光入射到上述表面时所测定的、上述光的基于规则反射的上述表面反射率称为第二反射率，上述第一反射率和上述第二反射率的平均值可以为8％以上且25％以下。本申请的一个实施方式的金属板中，上述第一反射率和上述第二反射率的平均值可以为8％以上且20％以下。本申请的一个实施方式的金属板包括在从上述宽度方向的一端到另一端排列的第一区域、第二区域和第三区域，上述第一区域、第二区域和第三区域各自在上述宽度方向上具有相同的长度，上述第一反射率和上述第二反射率可以分别作为在第一区域、第二区域和第三区域所测定的反射率的平均值获得。本申请的一个实施方式的金属板中，上述第一反射率除以上述第二反射率而得到的值可以为0.70以上1.30以下。本申请的一个实施方式的金属板的厚度可以为100μm以下。本申请的一个实施方式的金属板可以由含镍的铁合金构成。本申请的一个实施方式的金属板的上述表面可以具有在上述长度方向上延伸的两个以上的轧制条纹。另外，金属板的上述表面可以具有在与上述长度方向垂直的方向上延伸的两个以上的油坑。本申请的一个实施方式的金属板可以用于下述目的：将贴附于上述金属板的上述表面的抗蚀膜曝光和显影而形成第一抗蚀图案，对上述金属板的上述表面中的未被上述第一抗蚀图案覆盖的区域进行蚀刻，制造上述蒸镀掩模。例如，金属板可以用于下述目的：将在1000Pa以下的环境下贴附于上述金属板的上述表面的抗蚀膜曝光和显影而形成第一抗蚀图案，对上述金属板的上述表面中的未被上述第一抗蚀图案覆盖的区域进行蚀刻，制造上述蒸镀掩模。本申请的一个实施方式的金属板中，上述表面反射率可以作为相对于使上述光直接入射到检测器时所测定的强度的比例而算出。本申请的一个实施方式的金属板中，上述表面反射率可以为基于下述反射光的第一面反射率，上述反射光是使光入射到上述金属板的表面中的构成蒸镀掩模的有机EL基板侧的面的第一面时被观测到的。本申请的一个实施方式为一种金属板的检查方法，其为用于制造蒸镀掩模的金属板的检查方法，上述金属板具备具有上述金属板的长度方向和与上述长度方向垂直的宽度方向的表面，上述检查方法具备下述工序：测定工序，对使光入射到上述表面时测定观测的反射光的表面反射率进行测定；和判定工序，在上述反射光之中在与上述表面垂直的至少一个平面内以45°±0.2°的角度从上述表面射出的上述反射光的上述表面反射率为8％以上且25％以下的情况下，判定上述金属板为合格品。本申请的一个实施方式为一种金属板的制造方法，其为用于制造蒸镀掩模的金属板的制造方法，上述制造方法具备利用轧制法或镀覆法而得到上述金属板的制作工序，上述金属板具备具有上述金属板的长度方向和与上述长度方向垂直的宽度方向的表面，在使光入射到上述表面时观测到的反射光之中，在与上述表面垂直的至少一个平面内以45°±0.2°的角度从上述表面射出的上述反射光的表面反射率为8％以上且25％以下。本申请的一个实施方式的金属板的制造方法可以具备下述筛选工序：筛选上述表面反射率为8％以上且25％以下的上述金属板。本申请的一个实施方式为一种蒸镀掩模，该蒸镀掩模具备：金属板；和形成于上述金属板的两个以上的贯通孔，在使光入射到上述金属板的表面时观测到的反射光之中，在与上述表面垂直的至少一个平面内以45°±0.2°的角度从上述表面射出的上述反射光的表面反射率为8％以上且25％以下。本申请的一个实施方式为一种蒸镀掩模装置，该蒸镀掩模装置具备：蒸镀掩模，其具备金属板和形成于上述金属板的两个以上的贯通孔；和框架，其对上述蒸镀掩模进行支撑，在使光入射到上述金属板的表面时观测到的反射光之中，在与上述表面垂直的至少一个平面内以45°±0.2°的角度从上述表面射出的上述反射光的表面反射率为8％以上且25％以下。本申请的一个实施方式为一种蒸镀掩模的制造方法，其为本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种金属板，其为用于制造蒸镀掩模的金属板，其中，所述金属板具备具有所述金属板的长度方向和与所述长度方向垂直的宽度方向的表面，在与所述表面垂直的至少一个平面内以45°±0.2°的入射角度使光入射到所述表面时所测定的、所述光的基于规则反射的表面反射率为8％以上且25％以下。

【技术特征摘要】
2017.11.14 JP 2017-219369;2017.12.26 JP 2017-249741.一种金属板，其为用于制造蒸镀掩模的金属板，其中，所述金属板具备具有所述金属板的长度方向和与所述长度方向垂直的宽度方向的表面，在与所述表面垂直的至少一个平面内以45°±0.2°的入射角度使光入射到所述表面时所测定的、所述光的基于规则反射的表面反射率为8％以上且25％以下。2.如权利要求1所述的金属板，其中，所述表面反射率为8％以上且20％以下。3.如权利要求1所述的金属板，其中，将在与所述表面和所述长度方向垂直的第一平面内以45°±0.2°的入射角度使所述光入射到所述表面时所测定的、所述光的基于规则反射的所述表面反射率称为第一反射率，将在与所述表面和所述宽度方向垂直的第二平面内以45°±0.2°的入射角度使所述光入射到所述表面时所测定的、所述光的基于规则反射的所述表面反射率称为第二反射率，所述第一反射率和所述第二反射率的平均值为8％以上且25％以下。4.如权利要求3所述的金属板，其中，所述第一反射率和所述第二反射率的平均值为8％以上且20％以下。5.如权利要求3所述的金属板，其中，所述金属板包括在从所述宽度方向的一端到另一端排列的第一区域、第二区域和第三区域，所述第一区域、第二区域和第三区域各自在所述宽度方向上具有相同的长度，所述第一反射率和所述第二反射率分别作为在第一区域、第二区域和第三区域所测定的反射率的平均值获得。6.如权利要求3所述的金属板，其中，所述第一反射率除以所述第二反射率而得到的值为0.70以上1.30以下。7.如权利要求1～6中任一项所述的金属板，其中，所述金属板的厚度为100μm以下。8.如权利要求1～6中任一项所述的金属板，其中，所述金属板由含镍的铁合金构成。9.如权利要求1～6中任一项所述的金属板，其中，所述金属板的所述表面具有在所述长度方向上延伸的两个以上的轧制条纹，或者，金属板的所述表面存在具有与所述长度方向垂直的方向的两个以上的油坑。10.如权利要求1～6中任一项所述的金属板，其中，所述金属板用于下述目的：将贴附于所述金属板的所述表面的抗蚀膜曝光和显影而形成第一抗蚀图案，对所述金属板的所述表面中的未被所述第一抗蚀图案覆盖的区域进行蚀刻，制造所述蒸镀掩模。11.如权利要求10所述的金属板，其中，所述金属板用于下述目的：将在1000Pa以下的环境下贴附于所述金属板的所述表面的抗蚀膜曝光和显影而形成第一抗蚀图案，对所述金属板的所述表面中的未被所述第一抗蚀图案覆盖的区域进行蚀刻，制造所述蒸镀掩模。12.如权利要求1～6中任一项所述的金属板，其中，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：池永知加雄，冈本英介，牛草昌人，初田千秋，冈宏树，松浦幸代，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP