一种发声器件制造技术

技术编号:21168171 阅读:19 留言:0更新日期:2019-05-22 09:55
本发明专利技术提供了一种发声器件,其包括振动结构、磁路结构以及容置振动结构和磁路结构的壳体,所述壳体包括盆架和盖接于盆架上端的前盖,振动结构包括音膜,音膜设置于盆架和前盖之间,盆架具有胶合面,音膜的周缘与胶合面胶合固定,音膜包括球顶部和折环部,盆架包括靠近折环部的内侧面和远离折环部的外侧面,内侧面上还开设有第一容纳槽,第一容纳槽自内侧面向远离折环部方向凹陷,第一容纳槽向靠近音膜的方向贯穿胶合面。在本发明专利技术中,当音膜与盆架间的胶水较多时,多出的胶水会溢到内外侧台阶中,这样外溢胶水就不会影响尺寸及外观,内溢胶水也不会溢到音膜折环上,不会造成产品失真不良,同时又提高了音膜与盆架的胶合牢度。

A Sound Producer

The invention provides a sound generator, which comprises a shell with a vibration structure, a magnetic circuit structure, a capacitive vibration structure and a magnetic circuit structure. The shell comprises a basin frame and a front cover connected to the upper end of the basin frame. The vibration structure comprises a sound film, which is arranged between the basin frame and the front cover. The basin frame has a plywood surface, the periphery of the sound film is glued with the plywood surface, and the sound film includes a spherical top and a folding ring. The basin rack includes the inner side near the folding ring part and the outer side far from the folding ring part. The inner side is also provided with a first holding groove, which is depressed from the inner side towards the direction far from the folding ring part, and the first holding groove runs through the plywood face towards the direction near the sound film. In the invention, when there is more glue between the sound film and the basin rack, the excess glue will overflow into the inner and outer steps, so that the overflow glue will not affect the size and appearance, and the overflow glue will not overflow on the sound film folding ring, which will not cause bad distortion of the product, and at the same time improve the gluing fastness of the sound film and the basin rack.

【技术实现步骤摘要】
一种发声器件
本专利技术属于电声
,尤其涉及一种发声器件。
技术介绍
随着科技的快速发展,音频设备的普及率越来越高,人们对音频设备的要求不仅限于视频音频的播放,更对音频设备的可靠性提出了更多要求。在音频设备中,发声器件就是一种常用的电子元器件,主要用于音频信号的播放。相关技术中,发声器件中的音膜与盆架胶合,音膜与盆架间的胶水较少时,会在局部位置断胶而导致二者胶合不牢;音膜与盆架间的胶水较多时,会向两侧边溢出,内溢胶水会溢到音膜折环上,会造成产品失真不良。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种发声器件,旨在解决现有技术中发声器件的音膜与盆架间内溢胶水会溢到音膜折环上,造成产品失真不良的问题。本专利技术的技术方案如下:一种发声器件,其包括振动结构、磁路结构以及容置所述振动结构和磁路结构的壳体,所述壳体包括盆架和盖接于所述盆架上面的前盖,所述振动结构包括音膜,所述音膜设置于所述盆架和所述前盖之间,所述盆架靠近音膜的一端具有胶合面,所述音膜的周缘与所述胶合面胶合固定,所述音膜包括位于中央位置的球顶部以及环绕所述球顶部的折环部,所述盆架包括靠近所述折环部的内侧面和远离所述折环部的外侧面,所述内侧面上开设有第一容纳槽,所述第一容纳槽自所述内侧面向远离所述折环部方向凹陷,所述第一容纳槽向靠近所述音膜的方向贯穿所述胶合面。进一步地,所述外侧面上开设有第二容纳槽,所述第二容纳槽自所述外侧面向靠近所述振动结构方向凹陷,所述第二容纳槽向靠近所述音膜的方向贯穿所述胶合面。进一步地,所述胶合面沿所述盆架的外圈周向设置。进一步地,所述第一容纳槽沿所述内侧面的周向为连续结构或间隔设置结构。进一步地,所述第二容纳槽沿所述外侧面的周向为连续结构或间隔设置结构。进一步地,所述第三容纳槽沿所述胶合面的周向为连续结构或间隔设置结构。进一步地,所述第一容纳槽、第二容纳槽以及所述第三容纳槽为方形槽,所述第一容纳槽自所述内侧面至所述外侧面方向的深度等于或者大于0.05mm,所述第二容纳槽自所述外侧面至所述内侧面方向的深度等于或者大于0.05mm,所述第一容纳槽和所述第二容纳槽自所述胶合面至远离所述音膜方向的深度等于或者大于0.05mm。进一步地,所述音膜还包括由所述折环部向外延伸形成的连接部所述连接部与所述胶合面胶合固定,且所述第一容纳槽和所述第二容纳槽在所述连接部上的正投影完全落在所述连接部上。进一步地,所述第一容纳槽、所述第二容纳槽以及所述第三容纳槽为弧形槽,其在经过所述发声器件的中心线的横截面上为弧面。本专利技术的有益效果在于:本专利技术在盆架的内侧面设置有第一容纳槽,当音膜的周缘与盆架上端的胶合面通过胶水胶合时,多出的胶水会溢到内侧面的第一容纳槽中,内溢胶水不会溢到音膜折环上,不会造成产品失真不良,同时又提高了音膜与盆架的胶合牢度。【附图说明】图1是本专利技术实施例一提供的发声器件整体结构示意图;图2是图1中的分解结构示意图;图3是图1中的俯视结构示意图;图4是图3中的A-A面剖切示意图;图5是图4中B部分的放大结构示意图;图6是图1中的音膜结构示意图;图7是图1中的盆架结构示意图;图8是图1中的盆架另一个角度的结构示意图;图9是本专利技术实施例二提供的发声器件剖视结构示意图;图10是图9中B部分的放大结构示意图。【具体实施方式】下面结合附图和实施方式对本专利技术作进一步说明。如图1至图8所示,是本专利技术实施例一提供的一种发声器件,该发声器件包括振动结构2、磁路结构3以及容置振动结构2和磁路结构3的壳体1,壳体1包括盆架11和盖接于盆架11上面的前盖12,振动结构2包括音膜22,音膜22设置于盆架11和前盖12之间,盆架11靠近音膜22的一端具有胶合面111,音膜22的周缘与胶合面111胶合固定。壳体1还包括设置于盆架11底部的下夹板34,盆架11、前盖12以及下夹板34形成容置腔。磁路结构3包括主磁钢31、极芯32以及边磁钢33,主磁钢31和边磁钢33设置于下夹板34上端,边磁钢33具有两个,且在主磁钢31两端对称设置,极芯32设置于主磁钢31上端。振动结构2还包括音圈23和球顶21,音圈23套设主磁钢31和极芯32,球顶21设置在音膜22远离磁路结构3的一端。当音圈23通电后,音圈23在磁路结构3的磁场力作用下驱动音膜22振动发声。上述实施例中,如图2所示,胶合面111位于盆架11的架体顶部,且沿盆架11的外圈周向设置。具体的,音膜22包括位于中央位置的球顶部223以及与球顶部223环绕球顶部223的折环部222。盆架11的架体包括靠近折环部222的内侧面114和远离折环部222的外侧面115,内侧面114上还开设有第一容纳槽112,第一容纳槽112自内侧面114向远离折环部222方向凹陷,第一容纳槽112向靠近音膜22的方向贯穿胶合面111。外侧面115上开设有第二容纳槽113,第二容纳槽113自外侧面115向靠近振动结构2方向凹陷,第二容纳槽113向靠近音膜22的方向贯穿胶合面111。当音膜22与盆架11间的胶水较多时,多出的胶水会溢到第一容纳槽112和第二容纳槽113中,这样外溢胶水就不会影响尺寸及外观,内溢胶水也不会溢到音膜22的折环部222上,不会造成产品失真不良,同时又提高了音膜22与盆架11的胶合牢度。另外,如图6所示,音膜22还包括由折环部222向外延伸形成的连接部221,连接部221与胶合面111胶合固定,且第一容纳槽112和第二容纳槽113在连接部221上的正投影完全落在连接部221上。优选的,第一容纳槽112和第二容纳槽113为方形槽,第一容纳槽112自内侧面114至外侧面115方向的深度等于或者大于0.05mm,第二容纳槽113自外侧面115至内侧面114方向的深度等于或者大于0.05mm,第一容纳槽和第二容纳槽自胶合面111至远离音膜22方向的深度等于或者大于0.05mm。若第一容纳槽112和第二容纳槽113的尺寸较小时,第一容纳槽112和第二容纳槽113所能容纳的向内侧和外侧溢出的胶水较少,当第一容纳槽112和第二容纳槽113被溢出的胶水充满时,胶水又会进一步向外溢出,同样会出现影响尺寸及外观以及会造成产品失真不良的问题。第一容纳槽112和第二容纳槽113的尺寸也不能太大,若第一容纳槽112和第二容纳槽113的尺寸太大时,胶合面111的尺寸相应缩小,与音膜22的接触面积缩小,难以保证音膜22的稳固性。在其他实施方式中,第一容纳槽112和第二容纳槽113也可以为弧形槽,其在经过发声器件的中心线的横截面上为弧面。优选的,第一容纳槽112沿内侧面114的周向为连续结构,第二容纳槽113沿外侧面115的周向为连续结构。在其他实施方式中,第一容纳槽112和第二容纳槽113也可分别沿内侧面114和外侧面115的周向间隔设置,只要保证胶水不会向内侧和外侧溢出即可。如图9与图10所示,是本专利技术实施例二提供的一种发声器件。该发声器件的胶合面111设有第三容纳槽116,第三容纳槽116自胶合面111向远离音膜22方向凹陷,第三容纳槽116与内侧面114和外侧面115间隔设置。第三容纳槽116可以为方形槽或弧形槽,第三容纳槽116沿胶合面111的周向为连续结构或间隔设置结构。除上述结构外,该实施例二的其他结构均与实施例一相同,在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种发声器件,其包括振动结构、磁路结构以及容置所述振动结构和所述磁路结构的壳体,所述壳体包括盆架和盖接于所述盆架上端的前盖,所述振动结构包括音膜,所述音膜设置于所述盆架和所述前盖之间,所述盆架靠近音膜的一端具有胶合面,所述音膜的周缘与所述胶合面胶合固定,其特征在于,所述音膜包括位于中央位置的球顶部以及环绕所述球顶部的折环部,所述盆架包括靠近所述折环部的内侧面和远离所述折环部的外侧面,所述内侧面上开设有第一容纳槽,所述第一容纳槽自所述内侧面向远离所述折环部方向凹陷,所述第一容纳槽向靠近所述音膜的方向贯穿所述胶合面。

【技术特征摘要】
1.一种发声器件,其包括振动结构、磁路结构以及容置所述振动结构和所述磁路结构的壳体,所述壳体包括盆架和盖接于所述盆架上端的前盖,所述振动结构包括音膜,所述音膜设置于所述盆架和所述前盖之间,所述盆架靠近音膜的一端具有胶合面,所述音膜的周缘与所述胶合面胶合固定,其特征在于,所述音膜包括位于中央位置的球顶部以及环绕所述球顶部的折环部,所述盆架包括靠近所述折环部的内侧面和远离所述折环部的外侧面,所述内侧面上开设有第一容纳槽,所述第一容纳槽自所述内侧面向远离所述折环部方向凹陷,所述第一容纳槽向靠近所述音膜的方向贯穿所述胶合面。2.如权利要求1所述的发声器件,其特征在于,所述外侧面上开设有第二容纳槽,所述第二容纳槽自所述外侧面向靠近所述折环部方向凹陷,所述第二容纳槽向靠近所述音膜的方向贯穿所述胶合面。3.如权利要求2所述的发声器件,其特征在于,所述胶合面设有第三容纳槽,所述第三容纳槽自所述胶合面向远离所述音膜方向凹陷,所述第三容纳槽与所述内侧面和所述外侧面间隔设置。4.如权利要求1至3中任意一项所述的发声器件,其特征在于,所述胶合面沿所述盆架的外圈周向设置。5.如权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员:张古清
申请(专利权)人:瑞声声学科技深圳有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1