光学薄膜转移方法和光学薄膜转移装置制造方法及图纸

本申请涉及光学器件制造领域，提供了一种光学薄膜转移方法和装置，其中，光学薄膜转移方法包括如下步骤：基底准备步骤：在容器的刻蚀槽内置入非金属基底；刻蚀液准备步骤：在刻蚀槽内加入金属刻蚀液；刻蚀步骤：将附有金属基底的光学薄膜置于金属刻蚀液中，脱去金属基底，使光学薄膜漂浮于金属刻蚀液之上；薄膜贴合步骤：排出刻蚀槽内的液体，使光学薄膜下降并贴合在非金属基底上。本申请所提供的技术方案能够降低成本，提高生产良率。

Optical Thin Film Transfer Method and Optical Thin Film Transfer Device

The present application relates to the field of optical device manufacturing and provides an optical thin film transfer method and device, in which the optical thin film transfer method comprises the following steps: a substrate preparation step: a non-metallic substrate is placed in an etching groove of a container; an etching solution preparation step: a metal etching solution is added into the etching groove; and an etching step: an optical thin film with a metal substrate is placed in a metal etching process. In the liquid, the metal substrate is removed, and the optical film floats on the metal etching solution. The film bonding step is to discharge the liquid in the etching tank, so that the optical film falls down and adheres to the non-metal substrate. The technical solutions provided in this application can reduce costs and improve productivity.

【技术实现步骤摘要】
光学薄膜转移方法和光学薄膜转移装置
本申请涉及光学器件制造领域，特别涉及一种光学薄膜转移方法和光学薄膜转移装置。
技术介绍
光学薄膜是由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子
，制造各种光学仪器。光学薄膜器件通常包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等。在光学薄膜器件的制造过程中，往往需要将在金属基底上生长的光学薄膜转移到其他材质的基底上。现有技术的转移方法主要有静电转移法和物理机械剥离法。静电转移法可参考公开号为CN108807257A，名称为《静电吸附夹盘及其制造方法、以及半导体装置的制造方法》的中国专利技术专利，以及公开号为CN108535181A，名称为《剥离力测试系统及剥离力测试方法》的中国专利技术专利。这一方法通常借由静电力(库伦力)来保持光学薄膜，并借由将电极予以除电以去除静电力，实现光学薄膜的物理剥离。物理机械剥离法可见于公开号为CN1088223531A，名称为《柔性六角铁氧体薄膜及其制备方法》的中国专利技术专利，其通常利用纯粹的机械手段对薄膜进行剥离。显然，无论是静电转移法和物理机械剥离法都无法避免对光学薄膜的直接接触，容易因引入的夹具导致污染。而且，剥离不彻底的问题也进一步影响了良率。
技术实现思路
为了解决上述问题或至少部分地解决上述技术问题，在本申请的一个实施方式中，提供了一种光学薄膜转移方法，包括如下步骤：基底准备步骤：在容器的刻蚀槽内置入非金属基底；刻蚀液准备步骤：在刻蚀槽内加入金属刻蚀液；刻蚀步骤：将附有金属基底的光学薄膜置于金属刻蚀液中，脱去金属基底，使光学薄膜漂浮于金属刻蚀液之上；薄膜贴合步骤：排出刻蚀槽内的液体，使光学薄膜下降并贴合在非金属基底上。本申请的实施方式还提供了一种光学薄膜转移装置，包括：容器，容器形成有刻蚀槽，刻蚀槽内盛放有金属刻蚀液，容器内还设置有排出管道，排出管道用于排出刻蚀槽内的液体；刻蚀槽用于在放入光学薄膜时，脱去光学薄膜上所依附的金属基底；刻蚀槽内的液体排出后，能够将光学薄膜贴合在位于刻蚀槽内的非金属基底上。相比于现有技术而言，本实施方式借助于化学方法，对光学薄膜的金属基底进行了剥离。由于剥离过程中，无需通过机械设备接触光学薄膜表面，因此不易发生接触式的污染。而且，由于剥离的进度可通过延长刻蚀液与金属基底的接触时间来控制，因此能够避免剥离不彻底的问题，从而提高产品良率。而且相对于现有技术而言，本申请的实施方式所提供的光学薄膜转移装置，由于无需设置复杂的吸盘、静电发生器等等机械结构，因此能够显著地降低设备成本和维护成本，进而降低生产成本。附图说明为了更清楚地说明本申请实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅用于示意本申请的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图中未提及的技术特征、连接关系乃至方法步骤。图1是本申请第一实施方式的光学薄膜转移装置的立体示意图；图2是本申请第一实施方式的光学薄膜转移方法的流程图；图3是本申请第一实施方式的光学薄膜转移装置的剖面示意图；图4是本申请第二实施方式的光学薄膜转移方法的流程图；图5是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置的立体示意图；图6是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置在流动槽处观察的排出管道和注入管道时的剖面示意图；图7是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置在进行刻蚀步骤时的剖面示意图；图8是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置在排出部分刻蚀液时的剖面示意图；图9是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置在加入部分第一缓冲液时的剖面示意图；图10是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置在加入部分第二缓冲液时的剖面示意图；图11是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置在排出缓冲液过程中光学薄膜开始贴附在非金属基底上时的剖面示意图；图12是本申请第二实施方式的光学薄膜转移装置在排尽缓冲液时的剖面示意图；图13是本申请第三实施方式的光学薄膜转移方法的流程图；图14是本申请第三实施方式的光学薄膜转移装置的立体示意图。附图标记说明1-容器；11-刻蚀槽；12-排出管道；13-注入管道；14-流动槽；15-隔离壁；16-准备槽；17-隔离件；2-非金属基底；3-支撑件；41-金属刻蚀液；42-第一缓冲液；43-第二缓冲液；5-光学薄膜；6-金属基底；7-滑轨。具体实施方式为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。实施方式一本申请提供了一种光学薄膜转移方法。本申请的专利技术人发现，在现有技术中，在采用静电转移法和物理机械剥离法剥离光学薄膜时，常采用真空吸盘、静电吸盘等接触式器械，因此容易污染光学薄膜的表面。而且，此类机械设备还具有成本相对较高，效率相对较低的缺点。为解决上述问题，本申请实施方式提供一种光学薄膜转移方法和转移设备/装置。参见图1所示，光学薄膜转移装置包括：容器1，容器1形成有刻蚀槽11，刻蚀槽11内盛放有金属刻蚀液41，容器1内还设置有排出管道12，排出管道12用于排出刻蚀槽11内的液体；刻蚀槽11用于在放入光学薄膜5时，脱去光学薄膜5上所依附的金属基底6；刻蚀槽11内的液体排出后，能够将光学薄膜5贴合在位于刻蚀槽11内的非金属基底2上。一种利用该光学薄膜转移装置来转移光学薄膜5的转移步骤简单如下：1、在容器1的刻蚀槽11内置入非金属基底2；2、在刻蚀槽11内加入金属刻蚀液41，所加入的金属刻蚀液41可以大体上加满至刻蚀槽11的三分之二至四分之三高度。3、将附有金属基底6的光学薄膜5放入加好的金属刻蚀液41中，金属刻蚀液41与金属基底6发生化学反应并脱去金属基底6，使光学薄膜5成为一层漂浮于金属刻蚀液41之上的膜状物质；4、通过排出管道12排出刻蚀槽11内的金属刻蚀液41，使光学薄膜5下降。在光学薄膜5下降至非金属基底2的表面时，将自然而然地贴合在非金属基底2上。其中，容器1往往可以采用工业上常用的各种槽状容器1，容器1的内胆材质包括且不限于各种塑料、陶瓷或玻璃材料。在本申请中，所指的金属刻蚀液41一般是弱酸性水溶液。常见的金属刻蚀液41可以是磷酸、硝酸和/或醋酸的混合物。这些酸性溶液往往可以于金属材质的基底发生反应，实现金属薄层的刻蚀。排出管道12可以如图1中所示，伸入容器1内并通过外接的泵抽出金属刻蚀液41，也可以在容器1的底部开孔后连接排出管道12，从而从容器1的下方排出液体。据此，本实施方式还提供了一种光学薄膜转移方法，参见图2所示，包括如下步骤：基底准备步骤：在容器1的刻蚀槽11内置入非金属基底2；刻蚀液准备步骤：在刻蚀槽11内加入金属刻蚀液41；刻蚀步骤：将附有金属基底6的光学薄膜5置于金属刻蚀液41中，脱去金属基底6，使光学薄膜5漂浮于金属刻蚀液41之上；薄膜贴合步骤：排出刻蚀槽11内的液体，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学薄膜转移方法，其特征在于，包括如下步骤：基底准备步骤：在容器的刻蚀槽内置入非金属基底；刻蚀液准备步骤：在所述刻蚀槽内加入金属刻蚀液；刻蚀步骤：将附有金属基底的光学薄膜置于金属刻蚀液中，脱去所述金属基底，使所述光学薄膜漂浮于所述金属刻蚀液之上；薄膜贴合步骤：排出所述刻蚀槽内的液体，使所述光学薄膜下降并贴合在所述非金属基底上。

【技术特征摘要】
1.一种光学薄膜转移方法，其特征在于，包括如下步骤：基底准备步骤：在容器的刻蚀槽内置入非金属基底；刻蚀液准备步骤：在所述刻蚀槽内加入金属刻蚀液；刻蚀步骤：将附有金属基底的光学薄膜置于金属刻蚀液中，脱去所述金属基底，使所述光学薄膜漂浮于所述金属刻蚀液之上；薄膜贴合步骤：排出所述刻蚀槽内的液体，使所述光学薄膜下降并贴合在所述非金属基底上。2.根据权利要求1所述的光学薄膜转移方法，其特征在于，在所述刻蚀步骤之后，所述薄膜贴合步骤之前，还包括缓冲步骤：向所述刻蚀槽内加入缓冲液，并排出所述金属刻蚀液，所述缓冲液和所述金属刻蚀液互不相溶且所述缓冲液的密度小于所述金属刻蚀液。3.根据权利要求2所述的光学薄膜转移方法，其特征在于，所述缓冲步骤包括如下子步骤：加液步骤：向所述刻蚀槽内加入缓冲液；排液步骤：排出刻蚀槽内的至少部分液体；循环所述加液步骤和排液步骤。4.根据权利要求3所述的光学薄膜转移方法，其特征在于，在所述缓冲步骤中，至少有两次加液步骤中所加入的缓冲液为不同的缓冲液；其中，前一次加液步骤所加入的缓冲液的密度大于后一次加液步骤所加入的缓冲液的密度。5.根据权利要求2至4中任意一项所述的光学薄膜转移方法，其特征在于，所述基底准备步骤位于所述缓冲步骤之后。6.一种光学薄膜转移装置，其特征在于，包括：容器，所述容器...

【专利技术属性】
技术研发人员：牛小龙，徐相英，姜晓飞，
申请(专利权)人：歌尔股份有限公司，
类型：发明
国别省市：山东,37