封装薄膜及其制备方法、封装结构及其制备方法技术

本申请提供一种封装薄膜及其制备方法、封装结构及其制备方法，属于功能性材料及光电技术领域。封装薄膜包括基材、第一石墨烯层和氟化石墨烯层，基材的一表面上为第一石墨烯层，基材的背离第一石墨烯层的表面上为氟化石墨烯层。封装薄膜的制备方法，包括如下步骤：在基材的一表面形成第一石墨烯层；在基材的背离第一石墨烯层的表面形成氟化石墨烯层。封装结构，包括器件和封装薄膜，封装薄膜封装器件。封装结构的制备方法，包括如下步骤：在器材的一表面形成第一石墨烯层；在器材的背离第一石墨烯层的表面形成氟化石墨烯层。此封装结构使用上述封装薄膜，具有优良的阻隔性能，且稳定性好，能够对柔性器件进行封装。

Packaging film and its preparation method, packaging structure and preparation method

【技术实现步骤摘要】
封装薄膜及其制备方法、封装结构及其制备方法
本申请涉及功能性材料及光电
，具体而言，涉及一种封装薄膜及其制备方法、封装结构及其制备方法。
技术介绍
目前使用OLED、量子点技术的显示器件，为保证良好的发光性能，通常需要使用封装材料，隔离水蒸气和氧气，以确保有机发光材料和量子点材料的稳定性。现有技术中的封装薄膜一般采用无机材料薄膜进行阻隔，或无机和有机材料交替的复合结构，无机材料薄膜通常采用氧化硅、氧化铝、氧化钛等无机物，通常无机物通常较脆，无法实现柔性，且为保证其稳定性，通常在上面涂布一层硬化层，达到较好的水氧阻隔效果，但无法满足柔性电子器件的使用。有机材料通常采用丙烯基聚合物、硅基聚合物或环氧树脂基聚合物，单通常厚度较厚，每层为1-10μm，为了达到较好的封装效果，通常的封装结构总厚度较厚，应用在柔性显示器件中，容易影响柔性显示器件的效果。
技术实现思路
本申请的目的在于提供一种封装薄膜及其制备方法、封装结构及其制备方法，能够对柔性器件进行封装。第一方面，本申请实施例提供一种封装薄膜，包括基材、第一石墨烯层和氟化石墨烯层，基材的一表面上为第一石墨烯层，基材的背离第一石墨烯层的表面上为氟化石墨烯层。基材起到支撑的作用，利于对器件进行封装。在基材的一表面上为石墨烯层，另一表面上为氟化石墨烯层，得到的封装薄膜的厚度较小，且水汽和氧气的阻隔性能较好，热稳定好，并能够保证良好的光透过率，能够对柔性器件进行封装。可选的，在另一实施例中，封装薄膜还包括石墨烯改性层，基材的背离氟化石墨烯层的表面上为石墨烯改性层，石墨烯改性层的背离基材的表面上为第一石墨烯层。加入石墨烯改性层，进一步提高封装薄膜的阻隔性能，封装薄膜对水汽和氧气的阻隔性能更佳。可选的，在另一实施例中，第一石墨烯层的厚度为0.5-50nm，石墨烯改性层的厚度为1-20μm，氟化石墨烯层的厚度为0.5-20nm。可选的，第一石墨烯层的厚度为0.5-3nm，石墨烯改性层的厚度为2-5μm，氟化石墨烯层的厚度为1-5nm。得到厚度较薄的封装薄膜，对柔性器件的封装效果更好。第二方面，本申请实施例提供一种封装薄膜的制备方法，包括如下步骤：在基材的一表面形成第一石墨烯层；在基材的背离第一石墨烯层的表面形成氟化石墨烯层。能够得到封装薄膜的厚度较小，且水汽和氧气的阻隔性能较好，热稳定好，并能够保证具有良好的光透过率，此封装薄膜能够对柔性器件进行封装。可选的，在另一实施例中，在基材的背离第一石墨烯层的表面形成氟化石墨烯层，包括：在基材的背离第一石墨烯层的表面形成第二石墨烯层，在第二石墨烯层的表面加入氟化剂形成氟化石墨烯层。可选的，在第二石墨烯层的表面加入氟化剂和催化剂形成氟化石墨烯层。可选的，氟化剂包括SF4、(CH3)4NF、(C4H9)4NF和(CH3)4NHF2中的一种或多种。可选的，催化剂为金属氟化物，可选的，催化剂包括LiF和/或AlF3。通过上述方法得到的氟化石墨烯层，使得到的封装薄膜的阻隔性能更佳。可选的，在另一实施例中，在基材的背离氟化石墨烯层的表面形成石墨烯改性层，在石墨烯改性层的背离基材的表面形成第一石墨烯层。石墨烯改性层的形成，能够进一步提高得到的封装薄膜的阻隔性能。可选的，在另一实施例中，在基材的背离氟化石墨烯层的表面形成石墨烯改性层，包括：制备石墨烯分散液；在石墨烯分散液内加入乳液形成石墨烯复合胶乳；将石墨烯复合乳胶设置在基材的背离氟化石墨烯层的表面，干燥得到石墨烯改性层。使用石墨烯分散液制备石墨烯改性层，从而提高封装薄膜的阻隔性能。可选的，在另一实施例中，在基材的背离氟化石墨烯层的表面形成石墨烯改性层，包括：制备氧化石墨烯分散液；在氧化石墨烯分散液内加入乳液形成氧化石墨烯复合胶乳；将氧化石墨烯复合乳胶设置在基材的背离氟化石墨烯层的表面，干燥得到氧化石墨烯改性层；还原氧化石墨烯改性层得到石墨烯改性层。使用氧化石墨烯分散液制备石墨烯改性层，从而提高封装薄膜的阻隔性能。第三方面，本申请实施例提供一种封装结构，包括器件和封装薄膜，封装薄膜封装器件。使用封装薄膜封装器件，其阻隔性能更佳，其水汽和氧气的阻隔效果更好，且透光率佳。第四方面，本申请实施例提供一种封装结构的制备方法，包括如下步骤：在器材的一表面形成第一石墨烯层；在器材的背离第一石墨烯层的表面形成氟化石墨烯层。对于某些盖板或者其他器件，可以不设置基材进行支撑，直接在盖板的一表面形成石墨烯层，另一表面形成氟化石墨烯层，从而得到阻隔性能好的封装结构。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图也属于本申请的保护范围。图1为本申请实施例提供的封装薄膜的层结构示意图。图标：110-基材；120-石墨烯改性层；130-第一石墨烯层；140-氟化石墨烯层。具体实施方式为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。一种封装薄膜，包括基材110、第一石墨烯层130和氟化石墨烯层140，基材110的一表面上为第一石墨烯层130，基材110的背离第一石墨烯层130的表面上为氟化石墨烯层140。基材110起到支撑的作用，利于对器件进行封装。在基材110的一表面上为石墨烯层，另一表面上为氟化石墨烯层140，得到的封装薄膜的厚度较小，且水汽和氧气的阻隔性能较好，并能够保证良好的光透过率，能够对柔性器件进行封装。其中，基材110可以是玻璃基材或各种柔性衬底，柔性衬底可以是PI(聚酰亚胺)衬底、PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)衬底、PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)衬底、PC(聚碳酸酯)衬底、PP(聚丙烯)衬底、Mylar薄膜衬底、PEEK(聚醚醚酮)衬底、PPA(聚对苯二酰对苯二胺)衬底、PTFE(聚四氟乙烯)衬底、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)衬底、PDMS(聚二甲基硅氧烷)衬底和聚偏氯乙烯(PVDC)衬底中的其中一种。可选的，在另一实施例中，封装薄膜还包括石墨烯改性层120，基材110的背离氟化石墨烯层140的表面上为石墨烯改性层120，石墨烯改性层120的背离基材110的表面上为第一石墨烯层130。加入石墨烯改性层120，进一步提高封装薄膜的阻隔性能，封装薄膜对水汽和氧气的阻隔性能更佳。可选的，在另一实施例中，第一石墨烯层130的厚度为0.5-50nm，石墨烯改性层120的厚度为1-20μm，氟化石墨烯层140的厚度为0.5-20nm。可选的，第一石墨烯层130的厚度为0.5-3nm，石墨烯改性层120的厚度为2-5μm，氟化石墨烯层140的厚度为1-5nm。得到厚度较薄的封装薄膜，对柔性器件的封装效果更好。一种封装结构，包括器件和上述封装薄膜，封装薄膜封装器件。可选的，器件为柔性器件。封装薄膜可以做成各种适合器件或柔性器件的形状，从而对器件或柔性器件进行封装。上述封装薄膜的制备方法，包括如下步骤：(1)、选择一基材本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种封装薄膜，其特征在于，包括基材、第一石墨烯层和氟化石墨烯层，所述基材的一表面上为所述第一石墨烯层，所述基材的背离所述第一石墨烯层的表面上为所述氟化石墨烯层。

【技术特征摘要】
1.一种封装薄膜，其特征在于，包括基材、第一石墨烯层和氟化石墨烯层，所述基材的一表面上为所述第一石墨烯层，所述基材的背离所述第一石墨烯层的表面上为所述氟化石墨烯层。2.根据权利要求1所述的封装薄膜，其特征在于，所述封装薄膜还包括石墨烯改性层，所述基材的背离所述氟化石墨烯层的表面上为石墨烯改性层，所述石墨烯改性层的背离所述基材的表面上为所述第一石墨烯层。3.根据权利要求2所述的封装薄膜，其特征在于，所述第一石墨烯层的厚度为0.5-50nm，所述石墨烯改性层的厚度为1-20μm，所述氟化石墨烯层的厚度为0.5-20nm；可选的，所述第一石墨烯层的厚度为0.5-3nm，所述石墨烯改性层的厚度为2-5μm，所述氟化石墨烯层的厚度为1-5nm。4.权利要求1-3任一项所述的封装薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：在基材的一表面形成第一石墨烯层；在基材的背离所述第一石墨烯层的表面形成氟化石墨烯层。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在基材的背离所述第一石墨烯层的表面形成氟化石墨烯层，包括：在所述基材的背离所述第一石墨烯层的表面形成第二石墨烯层，在所述第二石墨烯层的表面加入氟化剂形成氟化石墨烯层；可选的，在所述第二石墨烯层的表面加入氟化剂和催化剂形成氟化石墨烯层；可选的，所述氟化剂包括SF4、(CH3)4N...

【专利技术属性】
技术研发人员：谷文翠，卢珂鑫，李伟伟，刘兆平，
申请(专利权)人：宁波石墨烯创新中心有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33