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SIRT1抑制剂用于预防和治疗放射引起的口腔损伤制造技术

技术编号:21100288 阅读:80 留言:0更新日期:2019-05-16 01:02
本发明专利技术属于生物医药技术领域,具体而言,涉及SIRT1抑制剂在预防和治疗放射引起的口腔损伤中的应用。本发明专利技术提供了SIRT1抑制剂在制备药物中的用途,所述药物用于预防或治疗放射引起的口腔损伤。并由此提供了用于预防或治疗放射引起的口腔损伤的药物组合物以及相应的制剂。利用SIRT1抑制剂对于放射引起的口腔损伤表现出良好的预防和治疗效果。

SIRT1 inhibitor for prevention and treatment of radiation-induced oral injury

The invention belongs to the field of biomedical technology, in particular to the application of SIRT1 inhibitor in preventing and treating oral injury caused by radiation. The invention provides the use of SIRT1 inhibitors in the preparation of medicines for preventing or treating radiation-induced oral injury. Thereby, pharmaceutical compositions and corresponding preparations for preventing or treating radiation-induced oral injury are provided. SIRT1 inhibitors have shown good preventive and therapeutic effects on radiation-induced oral injury.

【技术实现步骤摘要】
SIRT1抑制剂用于预防和治疗放射引起的口腔损伤
本专利技术属于生物医药
,具体而言,涉及SIRT1抑制剂在预防和治疗放射引起的口腔损伤中的应用。
技术介绍
在医学领域,放射性诊断和治疗应用广泛,临床对肿瘤患者进行放疗已经成为肿瘤治疗的常用手段。放射性口腔黏膜炎是头颈部肿瘤放射治疗过程中常见的严重并发症之一,会导致口腔粘膜红肿,随后出现毛细血管反应性扩张,局部充血、红斑、糜烂、溃疡、假膜覆盖,严重者合并粘膜广泛萎缩和局部感染。常见有口腔粘膜不适、口干,甚至持续难忍的疼痛感。放射线除直接损伤口腔黏膜外,同时还会使放射野内的微血管发生肿胀,管壁增厚,管腔变窄或闭塞,出现受损部位供血不足,发生口腔黏膜炎。目前,尚未找到治疗放射性口腔黏膜炎的特效药,大部分的治疗方法都还未能将放射性口腔黏膜炎彻底根治。现阶段对于放射性口腔黏膜炎临床上多采用局部消炎、杀菌和止痛剂来治疗和缓解,但是单纯的抗菌消炎对粘膜的修复起不到积极的作用,而辐射引起机体免疫力降低,常因合并其他感染而加重症状,影响创面愈合。所以,放射性口腔黏膜炎的防治药物的研发是目前亟需解决的问题。
技术实现思路
本专利技术旨在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本专利技术的一个目的在于提出SIRT1抑制剂在预防和治疗放射引起的放射性口腔黏膜炎中的应用。由此,采用SIRT1抑制剂可以有效对放射引起的口腔上皮损伤进行预防或治疗。因此,本专利技术可以有效解决头颈部放疗导致的放射性口腔黏膜炎缺乏理想防治药物和有效治疗方法的问题。为此,根据本专利技术的一个方面,本专利技术提出了SIRT1抑制剂在制备药物中的用途,所述药物用于预防或治疗放射引起的口腔损伤。由此,通过采用SIRT1抑制剂可以对放射引起的口腔上皮损伤进行预防或治疗,减少辐射引起的上皮细胞死亡。因此,本专利技术提出的SIRT1抑制剂在制备药物中的用途可以有效解决放射性口腔黏膜炎缺乏理想药物和有效治疗方法的问题,具有广阔的市场应用前景。在本专利技术的一些实施例中,所述口腔损伤为放射性口腔黏膜炎。由此,可以有效降低由于辐射引发的各种口腔损伤几率,进而预防和治疗辐射后动物的口腔黏膜炎。在本专利技术的一些实施例中,所述口腔损伤为采用8~20Gy强度的射线照射引起的口腔损伤。在本专利技术的一些实施例中,所述SIRT1抑制剂选自烟酰胺、EX527、Sirtinol、Salermide中的至少一种。根据本专利技术的第二个方面,本专利技术还提出了一种用于预防或治疗放射引起的口腔损伤的药物组合物,所述药物组合物包含SIRT1抑制剂。由此,通过采用本专利技术上述实施例的用于预防或治疗放射引起的口腔损伤的药物组合物,可以在辐射24小时后给药,并能够从根本上保护并治疗放射引起的口腔上皮损伤,减少辐射引起的上皮细胞死亡,具有广阔的市场应用前景。另外,根据本专利技术上述实施例的用于预防或治疗放射引起的口腔损伤的药物组合物还可以具有如下附加的技术特征:在本专利技术的一些实施例中,所述口腔损伤为放射性口腔黏膜炎。由此,可以有效降低由于辐射引发的各种口腔并发症。在本专利技术的一些实施例中,所述SIRT1抑制剂选自烟酰胺、EX527、Sirtinol、Salermide中的至少一种。在本专利技术的一些实施例中,用于预防或治疗放射引起的口腔损伤的药物组合物进一步包含药学上可接受的赋形剂。由此,本专利技术用于预防或治疗放射引起的口腔损伤的药物组合物能够被制备成任何便于给药的药物剂型。在本专利技术的一些实施例中,所述赋形剂为选自粘合剂、填料、涂膜聚合物、增塑剂、助流剂、崩解剂和润滑剂的至少一种。根据本专利技术的第三方面,本专利技术提供了一种制剂,所述制剂由包括本专利技术第二方面所述的药物组合物制备而成。在本专利技术的一些实施例中,所述制剂为注射液、片剂、胶囊剂、颗粒剂、药膜、雾化剂、灌肠剂、混悬剂、软膏剂、滴剂、贴剂或乳剂。由此,本专利技术用于预防或治疗放射引起的口腔损伤的药物组合物能够被制备成任何便于给药的药物剂型。例如,根据本专利技术的一些实施例,本专利技术提供了一种注射剂,所述注射剂中包含有SIRT1抑制剂以及生理盐水。根据本专利技术的实施例,所述注射剂包含有烟酰胺和生理盐水。附图说明图1是根据本专利技术一个实施例提供的研究SIRT1抑制剂抗辐射效果的技术路线图。图2是根据本专利技术一个实施例提供的采用X射线照射后,对照组及给予烟酰胺(10mM)处理的给药组在显微镜下的形貌对比图。图3是根据本专利技术一个实施例提供的采用X射线照射,培养10天后给予烟酰胺处理的给药组(照射后24小时给药)与对照组类器官大小的对比图。图4是根据本专利技术一个实施例提供的采用X射线照射后,对照组及给予EX527(10μM)处理的给药组在显微镜下的形貌对比图。图5是根据本专利技术一个实施例提供的采用X射线照射,培养10天后给予EX527处理的给药组(照射24小时后给药)与对照组类器官大小的对比图。图6是根据本专利技术一个实施例提供的采用X射线照射,培养10天后给予Sirtinol处理的给药组(照射24小时后给药)与对照组类器官大小的对比图。图7是根据本专利技术一个实施例提供的采用X射线照射,培养10天后给予Salermide处理的给药组(照射24小时后给药)与对照组类器官大小的对比图。图8是根据本专利技术一个实施例提供的采用X射线照射,培养10天后给予SIRT2抑制剂处理的给药组(照射24小时后给药)与对照组类器官大小的对比图。图9是根据本专利技术一个实施例提供的采用X射线单次照射,10天后对照组与治疗组(烟酰胺腹腔注射)的舌上皮炎症部位纵截面HE切片在显微镜下的形貌对比图。图10是根据本专利技术一个实施例提供的采用X射线单次照射,10天后对照组与治疗组(烟酰胺腹腔注射)的舌上皮炎症部位纵截面厚度对比图。图11是根据本专利技术一个实施例提供的采用X射线单次照射,10天后对照组与治疗组(烟酰胺腹腔注射)的舌上皮炎症部位甲苯胺蓝(TB)染色形貌对比图,黑框标注为炎症部位(炎症部位即照射后舌根部上皮区域产生溃疡的部位)。图12是根据本专利技术一个实施例提供的采用X射线单次照射,10天后对照组与治疗组(烟酰胺腹腔注射)的舌上皮炎症部位面积大小对比图。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本专利技术,而不能理解为对本专利技术的限制。在放射性治疗恶性肿瘤的过程中,放射线可以损伤肿瘤细胞的DNA,使肿瘤细胞不能继续分裂和增殖。但射线在杀伤肿瘤细胞的同时,射野内的正常组织细胞也不能幸免。人类口咽黏膜的表层是更新速度较快的复层扁平上皮,尤其是软腭、舌腹、舌侧缘及口腔底部等上皮细胞分化增殖速率快,对放射线的敏感性强,故极易出现放射性黏膜损伤。同时,由于放射治疗时腮腺、液腺等口腔分泌腺体均在照射范围内,使其功能受到抑制,引起唾液分泌明显减少,黏液成分增加,pH值下降,口腔自洁能力下降。易诱发细菌、真菌、厌氧菌等微生物的繁殖,在加上射线可导致放射性龋齿,出现牙痛、口臭、咀嚼困难等,加重口腔黏膜反应。而除了直接杀伤作用,放射线还可以使得射野内的微血管关闭发生肿胀、变窄或堵塞,使局部黏膜水肿,导致受损部位供血不良,进一步促进了口腔黏膜炎的发生。为此,本专利技术提供了一种包括SIR本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.SIRT1抑制剂在制备药物中的用途,所述药物用于预防或治疗放射引起的口腔损伤。

【技术特征摘要】
1.SIRT1抑制剂在制备药物中的用途,所述药物用于预防或治疗放射引起的口腔损伤。2.根据权利要求1所述的用途,其特征在于,所述口腔损伤为放射性口腔黏膜炎。3.根据权利要求1所述的用途,其特征在于,所述口腔损伤为采用8~20Gy强度的射线照射引起的口腔损伤。4.根据权利要求1所述的用途,其特征在于,所述SIRT1抑制剂选自烟酰胺、EX527、Sirtinol、Salermide中的至少一种。5.一种用于预防或治疗放射引起的口腔损伤的药物组合物,其特征在于,所述药物组合物包含SIRT1抑制剂。6.根据权利要求5所述的药物组合物,其特征在于,所述口腔损伤为...

【专利技术属性】
技术研发人员:华国强郭强徐小雅高建军周轶
申请(专利权)人:复旦大学
类型:发明
国别省市:上海,31

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