一种去除二氧化硅稀浆料中颗粒性杂质的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种去除二氧化硅稀浆料中颗粒性杂质的装置，包括机体，机体一侧的侧壁上安装有入料斗，机体的顶壁上安装有气缸，气缸的输出端贯穿机体的顶壁并安装有压板，压板的侧壁与机体的内侧壁紧密贴合，压板的底壁对称设有两个封闭装置，机体的内底壁上同样开设有封闭装置，机体靠近底端的内侧壁上安装有滑槽板，滑槽板的侧壁上滑动连接有支撑板和过滤器，且过滤器位于支撑板的顶壁上。本装置通可对稀浆料中的二氧化硅和污水进行分离，并过滤掉稀浆料中的大颗粒杂质，并通过气缸对压板的作用，可对机体的内部机型加压，从而加快分离速度，整个装置只需使用气缸进行驱动，大大的降低了生产能耗，有利于降低生产成本。

A device for removing particulate impurities in silica slurry

The utility model discloses a device for removing particulate impurities in silica slurry, including a body, a hopper is installed on the side wall of one side of the body, a cylinder is installed on the top wall of the body, the output end of the cylinder runs through the top wall of the body and a pressure plate is installed, the side wall of the pressure plate is closely connected with the inner side wall of the body, and the bottom wall of the pressure plate is symmetrically provided with two closing devices, the body. A closure device is also provided on the inner bottom wall. A sliding groove plate is installed on the inner wall near the bottom of the body. The side wall of the sliding groove plate is sliding connected with a support plate and a filter, and the filter is located on the top wall of the support plate. The device can separate the silica and sewage in the slurry, filter out the large impurities in the slurry, and press the internal model of the body through the action of the cylinder on the pressure plate, thus speeding up the separation speed. The whole device only needs to be driven by the cylinder, which greatly reduces the production energy consumption and is conducive to reducing the production cost.

【技术实现步骤摘要】
一种去除二氧化硅稀浆料中颗粒性杂质的装置
本技术涉及白炭黑生产
，尤其涉及一种去除二氧化硅稀浆料中颗粒性杂质的装置。
技术介绍
二氧化硅是生产白炭黑的主要原料，目前国内大部分生产厂家都是采用传统的沉淀法制备，以硅酸钠溶液和硫酸为原料，在一定的温度下调节pH值，得到二氧化硅沉淀，然后从反应器出来的稀浆料经过压滤机过滤洗涤，除去硫酸钠和杂质，随后把得到的滤饼搅拌成稀浆料，最后干燥得到二氧化硅产品。但现有的过滤设备通常结构复杂、操作不便，运行能耗大，生产成本较高，同时对二氧化硅的分离不够彻底，因此需要针对上述问题进行改进。
技术实现思路
为解决现有技术中存在的问题，本技术提出了一种去除二氧化硅稀浆料中颗粒性杂质的装置，包括机体，所述机体一侧的侧壁上安装有入料斗，所述机体的顶壁上安装有气缸，所述气缸的输出端贯穿机体的顶壁并安装有压板，所述压板的侧壁与机体的内侧壁紧密贴合，所述压板的底壁对称设有两个封闭装置，所述机体的内底壁上同样开设有封闭装置，所述机体靠近底端的内侧壁上安装有滑槽板，所述滑槽板的侧壁上滑动连接有支撑板和过滤器，且过滤器位于支撑板的顶壁上，所述支撑板的一端贯穿机体的侧壁并安装有盖板，所述机体的底端开设有排液腔。优选地，每个所述封闭装置均包括通道，位于压板底壁上的所述通道贯穿压板的底壁并延伸至压板的顶壁，位于机体内底壁上的所述通道与排液腔相互连通。优选地，每个所述通道的底端均开设有矩形槽，所述矩形槽一侧的侧壁上转动有转轴，所述转轴的侧壁上安装有阀板，所述阀板的顶壁上安装有弹簧，所述弹簧远离阀板的一端安装在通道的侧壁上。优选地，所述机体的外侧壁上开设有与盖板相匹配的安装槽，所述安装槽内安装有密封垫，所述盖板的侧壁上对称螺纹连接有四个螺栓，四个所述螺栓贯穿盖板的侧壁并螺纹连接在安装槽的侧壁上。优选地，所述支撑板的底壁上均匀开设有多个圆孔。优选地，所述机体的顶壁上对称开设有两个进气孔。优选地，所述过滤器为20目的不锈钢滤网。相比于现有技术，本技术的有益效果在于：1、通过对机体的内部进行加压处理，可加速稀浆料中的二氧化硅与污水、杂质的分离，然后可将二氧化硅与颗粒性杂质分别排出设备。2、压板向上移动的过程中位于机体底壁上的阀板在其顶壁上的弹簧的弹力作用下可对通道的底端进行封闭，导致压板和机体形成的空间内的压力上升，此时位于压板底壁上的阀板在压力作用下离开其上侧的通道，使得压力恢复正常，上述操作的目的在于避免压板向上移动过程中产生的压力将排液腔中的污水吸入机体内。综上所述，本装置通可对稀浆料中的二氧化硅和污水、杂质进行分离，并通过气缸对压板的作用，可对机体的内部机型加压，从而加快分离速度，整个装置只需使用气缸进行驱动，大大的降低了生产能耗，有利于降低生产成本。附图说明图1为本技术的整体结构示意图；图2为本技术的结构右视图；图3为图1中A处的局部放大图。图中：1机体、2气缸、3压板、4支撑板、5过滤器、6滑槽板、7盖板、8螺栓、9入料斗、10排液腔、11通道、12阀板、13转轴、14弹簧。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。参照图1-3，一种去除二氧化硅稀浆料中颗粒性杂质的装置，包括机体1，机体1的顶壁上对称开设有两个进气孔，机体1一侧的侧壁上安装有入料斗9，稀浆料从入料斗9进入机体1的内部，机体1的顶壁上安装有气缸2，气缸2的输出端贯穿机体1的顶壁并安装有压板3，压板3的侧壁与机体1的内侧壁紧密贴合，压板3的底壁对称设有两个封闭装置，气缸2运行时推动压板3在机体1的内部上下移动。机体1的内底壁上同样开设有封闭装置，机体1靠近底端的内侧壁上安装有滑槽板6，滑槽板6的侧壁上滑动连接有支撑板4和过滤器5，且过滤器5位于支撑板4的顶壁上。其中，过滤器5为20目的不锈钢滤网，可连续过滤掉稀浆料中的大颗粒杂质。支撑板4的一端贯穿机体1的侧壁并安装有盖板7，机体1的外侧壁上开设有与盖板7相匹配的安装槽，安装槽内安装有密封垫，盖板7的侧壁上对称螺纹连接有四个螺栓8，四个螺栓8贯穿盖板7的侧壁并螺纹连接在安装槽的侧壁上，拧开螺栓8，即可将支撑板4、过滤器5以及过滤器5上的二氧化硅移出机体1。机体1的底端开设有排液腔10，支撑板4的底壁上均匀开设有多个圆孔，分离后的污水通过圆孔流至机体1的底部，随后流入排液腔10内，最终得以排出机体1。每个封闭装置均包括通道11，位于压板3底壁上的通道11贯穿压板3的底壁并延伸至压板3的顶壁，位于机体1内底壁上的通道11与排液腔10相互连通，每个通道11的底端均开设有矩形槽，矩形槽一侧的侧壁上转动有转轴13，转轴13的侧壁上安装有阀板12，阀板12的顶壁上安装有弹簧14，弹簧14远离阀板12的一端安装在通道11的侧壁上，压板3向下移动然后经过入料斗9并继续向下移动时，压板3下侧空间的压力逐渐升高，此时可对机体1内部的稀浆料进行加压，加快二氧化硅与污水分离的速度。压板3向上移动的过程中位于机体1底壁上的阀板12在其顶壁上的弹簧14的弹力作用下可对通道11的底端进行封闭，导致压板3和机体1形成的空间内的压力上升，此时位于压板3底壁上的阀板12在压力作用下离开其上侧的通道11，使得压力恢复正常。上述操作的目的在于避免压板3向上移动过程中产生的压力将排液腔10中的污水吸入机体1内。本技术中，稀浆料从入料斗9进入机体1的内部，过滤器5可对稀浆料中的二氧化硅与污水进行分离，二氧化硅被隔离在过滤器5的上部，而污水则通过支撑板4上的圆孔流入排液腔10内，气缸2驱动压板3上下移动，压板3与机体1的内侧壁紧密贴合，当压板3经过入料斗9并继续向下移动时，压板3下侧空间的压力逐渐升高，此时可对机体1内部的稀浆料进行加压，加快二氧化硅与污水分离的速度，同时将污水从排液腔10排出设备，拧开盖板7上的螺栓8，即可将支撑板4、过滤器5以及过滤器5上的二氧化硅移出设备。以上所述，仅为本技术较佳的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的技术范围内，根据本技术的技术方案及其技术构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种去除二氧化硅稀浆料中颗粒性杂质的装置，包括机体(1)，其特征在于，所述机体(1)一侧的侧壁上安装有入料斗(9)，所述机体(1)的顶壁上安装有气缸(2)，所述气缸(2)的输出端贯穿机体(1)的顶壁并安装有压板(3)，所述压板(3)的侧壁与机体(1)的内侧壁紧密贴合，所述压板(3)的底壁对称设有两个封闭装置，所述机体(1)的内底壁上同样开设有封闭装置，所述机体(1)靠近底端的内侧壁上安装有滑槽板(6)，所述滑槽板(6)的侧壁上滑动连接有支撑板(4)和过滤器(5)，且过滤器(5)位于支撑板(4)的顶壁上，所述支撑板(4)的一端贯穿机体(1)的侧壁并安装有盖板(7)，所述机体(1)的底端开设有排液腔(10)。

【技术特征摘要】
1.一种去除二氧化硅稀浆料中颗粒性杂质的装置，包括机体(1)，其特征在于，所述机体(1)一侧的侧壁上安装有入料斗(9)，所述机体(1)的顶壁上安装有气缸(2)，所述气缸(2)的输出端贯穿机体(1)的顶壁并安装有压板(3)，所述压板(3)的侧壁与机体(1)的内侧壁紧密贴合，所述压板(3)的底壁对称设有两个封闭装置，所述机体(1)的内底壁上同样开设有封闭装置，所述机体(1)靠近底端的内侧壁上安装有滑槽板(6)，所述滑槽板(6)的侧壁上滑动连接有支撑板(4)和过滤器(5)，且过滤器(5)位于支撑板(4)的顶壁上，所述支撑板(4)的一端贯穿机体(1)的侧壁并安装有盖板(7)，所述机体(1)的底端开设有排液腔(10)。2.根据权利要求1所述的一种去除二氧化硅稀浆料中颗粒性杂质的装置，其特征在于，每个所述封闭装置均包括通道(11)，位于压板(3)底壁上的所述通道(11)贯穿压板(3)的底壁并延伸至压板(3)的顶壁，位于机体(1)内底壁上的所述通道(11)与排液腔(10)相互连通。3.根据权利要求2所述的一种去除二氧化...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴晓林，陈京国，陈景军，
申请(专利权)人：山东联科卡尔迪克白炭黑有限公司，
类型：新型
国别省市：山东,37