The invention belongs to the field of new flat panel display technology, and specifically relates to a preparation method of OLED display devices, including the following steps: (1) preparing the substrate of OLED display devices; (2) preparing TiNx film anode layer by magnetron sputtering and covering the substrate; (3) preparing organic light-emitting layer on the surface of the anode layer and preparing transparent cathode layer on the surface of the organic light-emitting layer; (4) preparing transparent cathode layer on the surface of the organic light-emitting layer. ) Polymer solution forms polymer nano-spinning pattern by electrospinning, transparent binder is coated on polymer nano-spinning pattern to form composite film scattering layer, and composite film scattering layer is bonded to one side of transparent cathode layer; (5) hydrophobic layer selectively covering the surface of composite film scattering layer is formed on the surface of composite film scattering layer by inkjet printing to select the hydrophobic layer. The selective atomic precipitation method forms an optical coupling rate lifting layer on an area not covered by the hydrophobic layer on the surface of the composite thin film scattering layer. The OLED display device prepared by the invention can significantly improve the optical output efficiency.
【技术实现步骤摘要】
一种OLED显示器件制备方法
本专利技术属于新型平板显示
,具体涉及一种OLED显示器件制备方法。
技术介绍
OLED(OrganicLight-EmittingDiode)即有机发光二极管,其通过电场的驱动使设置在两电极间的有机材料层发光,具有自发光、启动电压低、结构简单、响应速度快、超轻薄、低功耗等特点,被广泛应用于照明及显示领域。现有技术中的OLED显示装置,一般选择透明玻璃或者塑料作为基板材料,在基板上依次设置阳极层、有机发光层和阴极层。对于底部发光型OLED显示器件,有机发光层发出的光经阳极层、基板最后到达空气才能入射到人的眼睛。有机发光层一般为有机小分子材料,其折射率大致为1.6-1.7,阳极层一般为氧化铟锡薄膜,其折射率为1.8,基板为玻璃或塑料,其折射率为1.4-1.5,那么光从阳极层传到基板,以及从基板传到空气中,都是从光密介质到光疏介质的,存在全反射现象,入射角大于临界角的光线由于全反射会从侧面出射或在内部消耗掉,这样从正面发出光的比例就会大大降低,通常只有20%左右的光能出射到OLED器件外,且从侧面射出的光集中在某一波段,会使得正面出射的光谱不全,外量子效率很低。因此如何提高OLED显示器件的光输出效率成为技术人员的研发热点。为此,人们利用在OLED器件的出光面制备周期性分布阵列,利用周期分布阵列的散射和折射特性来提高OLED器件的光耦合效率。一般在OLED器件的出光面制备周期性分布阵列有两种方法。一种是利用化学方法,结合光刻胶,然后经过曝光显影形成上述周期性阵列,但这种方法需要反复使用化学溶液,容易腐蚀OLED器件其他结构。 ...
【技术保护点】
1.一种OLED显示器件制备方法,其特征在于,包括以下制备步骤:(1)制备OLED显示器件基板;(2)以磁控溅射法制备TiNx薄膜阳极层,并将该阳极层覆盖在基板上;(3)在阳极层表面制备有机发光层,在有机发光层表面制备透明阴极层;(4)制备聚合物溶液,聚合物溶液通过静电纺丝形成聚合物的纳米纺丝图案,在聚合物的纳米纺丝图案上涂覆透明粘合剂形成复合薄膜散射层,将复合薄膜散射层贴合在上述步骤制备的透明阴极层一侧;(5)以喷墨打印方式在复合薄膜散射层表面上形成选择性覆盖所述复合薄膜散射层表面的疏水层,以选择性原子沉淀方式在所述复合薄膜散射层表面未被所述疏水层覆盖的区域上形成光耦合率提升层。
【技术特征摘要】
1.一种OLED显示器件制备方法,其特征在于,包括以下制备步骤:(1)制备OLED显示器件基板;(2)以磁控溅射法制备TiNx薄膜阳极层,并将该阳极层覆盖在基板上;(3)在阳极层表面制备有机发光层,在有机发光层表面制备透明阴极层;(4)制备聚合物溶液,聚合物溶液通过静电纺丝形成聚合物的纳米纺丝图案,在聚合物的纳米纺丝图案上涂覆透明粘合剂形成复合薄膜散射层,将复合薄膜散射层贴合在上述步骤制备的透明阴极层一侧;(5)以喷墨打印方式在复合薄膜散射层表面上形成选择性覆盖所述复合薄膜散射层表面的疏水层,以选择性原子沉淀方式在所述复合薄膜散射层表面未被所述疏水层覆盖的区域上形成光耦合率提升层。2.根据权利要求1所述一种OLED显示器件制备方法,其特征在于,步骤(2)所述以磁控溅射法制备TiNx薄膜阳极层的方法为:选用洁净玻璃为衬底,使用磁控溅射系统,直流溅射纯度99.99%的Ti靶,通纯度为99.99%的氮气,制备TiNx薄膜阳极层;所述磁控溅射系统的溅射功率为4kw,氮气流量为8.4-8.6sccm。3.根据权利要求1所述一种OLED显示器件制备方法,其特征在于:步骤(4)所述聚合物为聚丙烯腈,所述聚丙烯腈在聚丙烯腈溶液中的质量分数为8%-13%,所述聚丙烯腈溶液中的溶剂为二甲基亚砜、二甲基甲酰胺或硫氢化钠中的一种。4.根据权利要求1所述一种OLED显示器件制备方法,其特征在于:步骤(4)所述静电纺丝的工作电压为6kV-8kV,工作时间为5min-8min。5.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员:董雄飞,
申请(专利权)人:合肥酷睿网络科技有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽,34
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