显影装置、处理盒和图像形成装置制造方法及图纸

本公开内容涉及显影装置、处理盒和图像形成装置。接触压合部的上游部分中的树脂层的第一厚度和接触压合部的下游部分中的树脂层的第二厚度之间的关系被设置为使得第二厚度小于第一厚度，在所述接触压合部中，覆盖调节刮刀的支撑构件的树脂层与显影辊接触。朝向支撑构件的具有与调色剂带电极性相同的极性的电位差创建在支撑构件和显影辊之间。

Development device, processing box and image forming device

The present disclosure relates to a developing device, a processing box and an image forming device. The relationship between the first thickness of the resin layer in the upstream part of the contact pressing part and the second thickness of the resin layer in the downstream part of the contact pressing part is set so that the second thickness is less than the first thickness. In the contact pressing part, the resin layer covering the support member of the adjusting scraper contacts the development roll. The potential difference with the same polarity as the toner band electrode towards the support member is created between the support member and the development roll.

【技术实现步骤摘要】
显影装置、处理盒和图像形成装置
本专利技术涉及一种在记录介质上形成图像的电子照相图像形成装置。
技术介绍
作为合并在电子照相图像形成装置(诸如打印机和传真)中的显影装置，包括显影剂运载构件和调节构件的配置是已知的，显影剂运载构件使用显影剂使形成在图像承载构件的表面上的静电潜像显影，调节构件调节显影剂运载构件的表面上的显影剂层的量。为了在这样的显影装置中获得稳定的图像输出，调节构件需要在显影剂运载构件上均匀地形成显影剂层的同时使显影剂带电以获得均匀的层厚度和稳定的带电量。为了实现此，一般来说，如日本专利申请公开No.6-289703中所公开的，显影偏压电压被施加于显影剂运载构件以执行显影，并且调节偏压电压被施加于调节构件以适当地使显影剂带电。然而，由于长期使用等，显影剂可能粘附和融合到调节构件。在这种情况下，显影剂的流动可能受阻，稳定的层厚度可能不能形成，并且低浓度部分或竖条可能出现在图像中。为了解决这样的问题，日本专利申请公开No.2003-307991公开了如下配置：在该配置中，在显影操作期间，在显影剂运载构件和调节构件之间创建朝向调节构件具有与显影剂的带电极性相同极性的电位差(在下文中，刮刀偏压)。通过形成这样的电位差，显影剂被适当地带电，显影剂到调节构件的粘附和融合可以被防止，并且出现在图像上的低浓度部分或竖条可以被防止。近年来，有必要减少由于显影剂的低带电量而导致的雾化以便缩小尺寸和降低成本。具体地说，这是因为，可以通过减少收集到清洁设备的显影剂的量来缩小清洁设备的尺寸，并且可以在不改变填充到显影装置中的显影剂的量的情况下增加可用于图像形成的显影剂的量。这里，可以通过增加显影剂的带电量来抑制雾化。这是因为，可以增大如下电力：该电力使得显影部分可以基于通过图像承载构件和显影剂运载构件之间的电位差形成的电场来在正规的方向上移动显影剂。作为一种手段，可以类似于上述常规例子那样增大刮刀偏压。作为另一手段，可以增大显影剂摩擦以用供带电的距离，并且可以增加带电量。也就是说，可以考虑增大调节构件与显影剂运载构件接触的压合部宽度以抑制雾化的配置。
技术实现思路
然而，在上述常规例子中，如果刮刀偏压增大得太大，则可能难以适当地调节显影剂层的量。这是因为，当将显影剂压向显影剂调节刮刀的电力增大时，大量显影剂进入调节构件的下侧。当调节缺陷出现时，因为比必需量多的大量显影剂用于显影，所以诸如打印部分中的浓度不均匀或非打印部分中的背景雾化的图像缺陷可能出现。除此之外，如果刮刀偏压增大得太大，则由调节构件或显影剂运载构件的树脂层中的通电泄漏或劣化造成的图像缺陷可能出现。另一方面，增大调节构件的接触部分的压合部宽度可以在实现适当的调节的同时使带电量增加。而且，当在调节缺陷不会发生的范围内增大刮刀偏压的同时增大接触压合部的宽度时，因为获得较大的显影剂带电量，所以可以更令人满意地抑制雾化。然而，在增大这样的接触压合部宽度的配置中，因为显影剂在带电量增加的接触压合部的下游侧附着到调节构件的附着力增大，所以显影剂可能易于粘附和融合到调节构件。即使当形成如上述常规例子那样的刮刀偏压时，在增大接触压合部宽度的配置中，显影剂粘附和融合到调节构件也可能出现。特别是，当刮刀偏压小时，定影和融合变得更加明显。根据上述内容，在增大调节构件的接触部分的压合部宽度的配置中，难以既防止显影剂调节缺陷，又防止显影剂定影和融合到调节构件。本专利技术的目的是，在增加显影剂带电量以抑制雾化的同时，防止由显影剂粘附和融合到调节构件造成的图像缺陷(诸如低浓度部分或竖条)的出现，而不引起由显影剂调节缺陷造成的图像缺陷(诸如浓度不均匀或背景雾化)。为了实现上述目的，根据本专利技术的实施例的显影装置包括：显影剂运载构件，所述显影剂运载构件运载显影剂；显影框架构件，所述显影框架构件可旋转地支撑显影剂运载构件，并且存放显影剂；以及调节构件，所述调节构件设在显影框架构件中以调节显影剂运载构件上运载的显影剂的厚度，其中，所述调节构件包括支撑构件和接触构件，所述支撑构件具有导电性质，所述接触构件具有比支撑构件的电阻率大的电阻率，在与显影剂运载构件的旋转轴方向正交的截面中，所述接触构件具有与显影剂运载构件的表面接触的接触部分，并且所述支撑构件被设置为存在于显影剂运载构件的通过所述接触部分的法线上，并且所述接触部分具有第一区域和第二区域，所述第二区域位于显影剂运载构件的旋转方向上第一区域的下游侧，其中，当在沿着通过第一区域的第一法线的第一方向上、第一区域和支撑构件之间的接触构件的厚度为第一厚度，并且在沿着通过第二区域的第二法线的第二方向上、第二区域和支撑构件之间的接触构件的厚度为第二厚度时，所述第一厚度大于所述第二厚度，其中，当显影剂运载构件的通过显影剂运载构件的旋转中心和支撑构件之间的距离最短的位置的第三法线用作参考时，所述接触部分在显影剂运载构件的旋转方向上被设置在如下位置处：该位置不在第三法线的下游侧、而在显影剂运载构件的上游侧，并且其中，当在显影操作期间支撑构件的电位为V1并且显影剂运载构件的电位为V2时，支撑构件和显影剂运载构件之间的电位差(V1-V2)的极性与显影剂的带电极性相同。为了实现上述目的，根据本专利技术的实施例的显影装置包括：显影剂运载构件，所述显影剂运载构件运载显影剂；显影框架构件，所述显影框架构件可旋转地支撑显影剂运载构件，并且存放显影剂；以及调节构件，所述调节构件设在显影框架构件中以调节显影剂运载构件上运载的显影剂的厚度，其中，所述调节构件包括：第一接触部分，所述第一接触部分与显影剂运载构件接触，第一导电部分，所述第一导电部分具有比第一接触部分的电阻率小的电阻率，并且在第一接触部分介于之间的情况下以第一距离面向显影剂运载构件的表面，第二接触部分，所述第二接触部分在显影剂运载构件的旋转方向上第一接触部分的下游侧与显影剂运载构件接触，以及第二导电部分，所述第二导电部分具有比第二接触部分的电阻率小的电阻率，并且在第二接触部分介于之间的情况下以短于第一距离的第二距离面向显影剂运载构件的旋转方向上第一导电部分的下游侧的显影剂运载构件的表面，并且其中，在显影操作期间，第一导电部分和第二导电部分的电位被配置为大于显影剂运载构件的电位，并且是与显影剂的带电极性相同的极性。为了实现上述目的，根据本专利技术的实施例的显影装置包括：显影剂运载构件，所述显影剂运载构件运载显影剂；显影框架构件，所述显影框架构件可旋转地支撑显影剂运载构件，并且存放显影剂；以及调节构件，所述调节构件设在显影框架构件中以调节显影剂运载构件上运载的显影剂的厚度，其中，所述调节构件包括支撑构件和接触构件，所述支撑构件具有导电性质，所述接触构件具有比支撑构件的电阻率大的电阻率，在与显影剂运载构件的旋转轴方向正交的截面中，所述接触构件具有与显影剂运载构件的表面接触的接触部分，并且所述支撑构件被设置为存在于显影剂运载构件的通过所述接触部分的法线上，并且所述接触部分具有第一区域和第二区域，所述第二区域位于显影剂运载构件的旋转方向上第一区域的下游侧，其中，当在沿着通过第一区域的第一法线的第一方向上、第一区域和支撑构件之间的接触构件的厚度为第一厚度，并且在沿着通过第二区域的第二法线的第二方向上、第二区域和支撑构件之间的接触构件本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显影装置，其特征在于，包括：显影剂运载构件，所述显影剂运载构件运载显影剂；显影框架构件，所述显影框架构件可旋转地支撑显影剂运载构件，并且存放显影剂；以及调节构件，所述调节构件设在显影框架构件中以调节显影剂运载构件上运载的显影剂的厚度，其中，所述调节构件包括支撑构件和接触构件，所述支撑构件具有导电性质，所述接触构件具有比支撑构件的电阻率大的电阻率，在与显影剂运载构件的旋转轴方向正交的截面中，所述接触构件具有与显影剂运载构件的表面接触的接触部分，并且所述支撑构件被设置为存在于显影剂运载构件的通过所述接触部分的法线上，并且所述接触部分具有第一区域和第二区域，所述第二区域位于显影剂运载构件的旋转方向上第一区域的下游侧，其中，当在沿着通过第一区域的第一法线的第一方向上、第一区域和支撑构件之间的接触构件的厚度为第一厚度，并且在沿着通过第二区域的第二法线的第二方向上、第二区域和支撑构件之间的接触构件的厚度为第二厚度时，所述第一厚度大于所述第二厚度，其中，当显影剂运载构件的通过显影剂运载构件的旋转中心和支撑构件之间的距离最短的位置的第三法线用作参考时，所述接触部分在显影剂运载构件的旋转方向上被设置在如下位置处：该位置不在第三法线的下游侧、而在显影剂运载构件的上游侧，并且其中，当在显影操作期间支撑构件的电位为V1并且显影剂运载构件的电位为V2时，支撑构件和显影剂运载构件之间的电位差(V1‑V2)的极性与显影剂的带电极性相同。...

【技术特征摘要】
2017.10.13 JP 2017-1992611.一种显影装置，其特征在于，包括：显影剂运载构件，所述显影剂运载构件运载显影剂；显影框架构件，所述显影框架构件可旋转地支撑显影剂运载构件，并且存放显影剂；以及调节构件，所述调节构件设在显影框架构件中以调节显影剂运载构件上运载的显影剂的厚度，其中，所述调节构件包括支撑构件和接触构件，所述支撑构件具有导电性质，所述接触构件具有比支撑构件的电阻率大的电阻率，在与显影剂运载构件的旋转轴方向正交的截面中，所述接触构件具有与显影剂运载构件的表面接触的接触部分，并且所述支撑构件被设置为存在于显影剂运载构件的通过所述接触部分的法线上，并且所述接触部分具有第一区域和第二区域，所述第二区域位于显影剂运载构件的旋转方向上第一区域的下游侧，其中，当在沿着通过第一区域的第一法线的第一方向上、第一区域和支撑构件之间的接触构件的厚度为第一厚度，并且在沿着通过第二区域的第二法线的第二方向上、第二区域和支撑构件之间的接触构件的厚度为第二厚度时，所述第一厚度大于所述第二厚度，其中，当显影剂运载构件的通过显影剂运载构件的旋转中心和支撑构件之间的距离最短的位置的第三法线用作参考时，所述接触部分在显影剂运载构件的旋转方向上被设置在如下位置处：该位置不在第三法线的下游侧、而在显影剂运载构件的上游侧，并且其中，当在显影操作期间支撑构件的电位为V1并且显影剂运载构件的电位为V2时，支撑构件和显影剂运载构件之间的电位差(V1-V2)的极性与显影剂的带电极性相同。2.根据权利要求1所述的显影装置，其中，所述第一区域与显影剂运载构件接触的第一接触压力和所述第二区域与显影剂运载构件接触的第二接触压力之间的关系被设置为使得第二接触压力小于第一接触压力。3.根据权利要求1或2所述的显影装置，其中，所述调节构件与显影剂运载构件接触，以使得调节构件的一端被显影框架构件支撑，调节构件的作为自由端的另一端面向显影剂运载构件的旋转方向上的上游侧。4.一种显影装置，其特征在于，包括：显影剂运载构件，所述显影剂运载构件运载显影剂；显影框架构件，所述显影框架构件可旋转地支撑显影剂运载构件，并且存放显影剂；以及调节构件，所述调节构件设在显影框架构件中以调节显影剂运载构件上运载的显影剂的厚度，其中，所述调节构件包括：第一接触部分，所述第一接触部分与显影剂运载构件接触，第一导电部分，所述第一导电部分具有比第一接触部分的电阻率小的电阻率，并且隔着第一接触部分以第一距离面向显影剂运载构件的表面，第二接触部分，所述第二接触部分在显影剂运载构件的旋转方向上第一接触部分的下游侧与显影剂运载构件接触，以及第二导电部分，所述第二导电部分具有比第二接触部分的电阻率小的电阻率，并且隔着第二接触部分以短于第一距离的第二距离面向显影剂运载构件的旋转方向上第一导电部分的下游侧的显影剂运载构件的表面，并且其中，在显影操作期间，第一导电部分和第二导电部分的电位被配置为大于显影剂运载构件的电位，并且是与显影剂的带电极性相同的极性。5.根据权利要求4所述的显影装置，其中，在与显影剂运载构件的旋转轴正交的方向上，所述第一接触部分的厚度大于所述第二接触部分的厚度。6.根据权利要求4或...

【专利技术属性】
技术研发人员：向井崇，萩原一成，安幸治，新川贵晃，北村拓也，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP