A circular polishing machine includes a rack fixed with a polishing plate, a polishing die poured on the surface of the polishing plate, a connecting rod fixed on the cantilever of the polishing machine rack, a bearing calibration plate connected with the connecting rod and placed on the polishing die. The invention has the advantages of simple structure and convenient operation. By setting a correction plate to grind the same radial position and proportion of the polishing die, the uniform grinding of the polishing die by the correction plate can be realized, the surface shape of the polishing die can be maintained stable, the surface shape of the components processed can be effectively controlled, and the processing efficiency can be improved.
【技术实现步骤摘要】
环形抛光机
本专利技术涉及光学元件环抛加工,特别是一种环形抛光机。
技术介绍
环形抛光加工因其在全频谱、全局化平滑方面的控制优势,广泛应用于平面光学元件的加工。环抛加工通常是在由电机驱动的抛光盘上浇注抛光模,在抛光模上放置一个校正盘和一个或多个待加工元件,抛光模、校正盘和工件环分别以特定的角速度自转。同时,向抛光模滴加抛光液,通过校正盘、抛光粉颗粒对抛光模的机械化学作用,实现元件表面材料去除得到超光滑表面。环形加工常用的抛光模材料一般是沥青,通常对抛光模的磨削一般是靠比抛光模环带大的且重量比较大的校正盘完成。通过经验选择依靠大而重的校正盘,完成对抛光模的挤压和磨削,从而改变抛光模形状。一旦环形抛光机的校正盘选定即无法改变,无法对抛光模进行局部修形。传统环形抛光的过程,即通过反复调整校正盘的偏心距,实现对抛光模面形的均匀磨削,从而得到符合要求的元件面形,修形效率低且严重依赖加工人员的经验。基于以上论述,如果能够实现抛光模的整个平面的均匀磨削,实现校正盘对抛光模相同径向位置的同比例磨削,即对抛光模进行均匀磨削,保持抛光模面形稳定,从而有效控制加工的元件面形,提高加工效率。
技术实现思路
本专利技术的目的是提出一种环形抛光机,该环形抛光机的校正盘能对抛光模磨削长度和磨削比例的调节,保证抛光模的面形均匀磨削,从而保持抛光模面形的长期稳定,实现对抛光模的均匀磨削。本专利技术具有结构简单,操作方便的特点,通过设置校正盘相同径向位置的同比例磨削,有效控制抛光模的面形变化,从而保证加工元件的加工精度和面形的一致性,提高加工效率。本专利技术的技术解决方案如下:一种环形抛光机,包 ...
【技术保护点】
1.一种环形抛光机,包括抛光盘(1)、校正盘(3),在所述的抛光盘(1)上浇注抛光模(2),在所述的抛光盘(1)外有一固定在地面上的立柱(4),该立柱(4)之顶固定有悬臂(61),其特征在于,所述的校正盘(3)的构成包括位于所述的抛光模(2)上的外环(31)和内环(33)及其之间的圆柱滑辊(32)组成轴承连接,位于所述的内环(33)上一直径的两端各开有一凸台限位孔(34),所述的悬臂(61)上固定有第一连接杆(62)和第二连接杆(63),所述的第一连接杆(62)和第二连接杆(63)的末端为凸台,所述的第一连接杆(62)的凸台和第二连接杆(63)的凸台分别插入所述的凸台限位孔(34)中且在凸台限位孔(34)内可上下浮动,将所述的校正盘(3)置于所述的抛光模(2)上,所述的校正盘(3)的外环半径R2大于抛光模(2)的环带的宽度,即抛光盘的内半径R0和外半径R1之差,该校正盘(3)的内环(33)固定有一与抛光盘(1)同圆心角的扇形结构磨削块(51),该磨削块(51)由内边缘(52)、外边缘(53)、曲线磨削缩减段(54)和径向磨削侧构成,磨削块(51)的内边缘(52)和外边缘(53)为与所述 ...
【技术特征摘要】
1.一种环形抛光机,包括抛光盘(1)、校正盘(3),在所述的抛光盘(1)上浇注抛光模(2),在所述的抛光盘(1)外有一固定在地面上的立柱(4),该立柱(4)之顶固定有悬臂(61),其特征在于,所述的校正盘(3)的构成包括位于所述的抛光模(2)上的外环(31)和内环(33)及其之间的圆柱滑辊(32)组成轴承连接,位于所述的内环(33)上一直径的两端各开有一凸台限位孔(34),所述的悬臂(61)上固定有第一连接杆(62)和第二连接杆(63),所述的第一连接杆(62)和第二连接杆(63)的末端为凸台,所述的第一连接杆(62)的凸台和第二连接杆(63)的凸台分别插入所述的凸台限位孔(34)中且在凸台限位孔(34)内可上下浮动,将所述的校正盘(3)置于所述的抛光模(2)上,所述的校正盘(3)的外环半径R2大于抛光模(2)的环带的宽度,即抛光盘的内半径R0和外半径R1之差,该校正盘(3)的内环(33)固定有一与抛光盘(1)同圆心角的扇形结构磨削块(51),该磨削块(51)由内边缘(52)、外边缘(53)、曲线磨削缩减段(54)和径向磨削侧构成,磨削块(51)的内边缘(52)和外边缘(53)为与所述的抛光盘(1)同心的圆弧,磨削块(51)的径向磨削侧的一侧为直线,另一侧为带缩减段(54)的曲线,所述的磨削块(51)的内边缘(52)半径等于所述的抛光盘(1)的中央水...
【专利技术属性】
技术研发人员:邵建达,陈军,杨明红,徐学科,曹俊,张阳,吴福林,
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所,上海恒益光学精密机械有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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