一种用于校正气测录井影响因素的综合录井曲线处理方法技术

本发明专利技术公开了一种用于校正气测录井影响因素的综合录井曲线处理方法，包括：步骤一、采集所述录井信息，确定所述录井信息中待处理范围区间；步骤二、对所述待处理范围区间的曲线段进行背景值校正处理得到优化后的背景值线；步骤三、对所述曲线段所对应的全烃含气量进行校正处理得到优化后的录井曲线；以及对所述待处理范围区间的曲线段中的异常峰进行优化处理，得到优化后的录井曲线。

A Comprehensive Logging Curve Processing Method for Correcting the Influencing Factors of Gas Logging

The invention discloses a comprehensive mud logging curve processing method for correcting the influencing factors of gas logging, which includes: step 1: collecting the mud logging information and determining the interval of the range to be processed in the mud logging information; step 2: correcting the background value of the curve segment of the range to be processed to obtain the optimized background value line; step 3: corresponding to the curve segment. The optimized logging curve can be obtained by correcting the total hydrocarbon gas content and optimizing the abnormal peaks in the curve section of the interval to be processed to obtain the optimized logging curve.

【技术实现步骤摘要】
一种用于校正气测录井影响因素的综合录井曲线处理方法
本专利技术涉及录井
，具体涉及一种用于校正气测录井影响因素的综合录井曲线处理方法。
技术介绍
气测录井作为录井工程一个重要组成方面，他能直接测量出地下天然气中各个组成及其含量，在发现和评价油气层中发挥着不可替代的重要作用。但是对于气测录井的影响因素也是很多的，在发现和评价油气层上还有一定的局限性，解释成果还有不确定性，因此需要对气测录井影响因素进行深入分析，并加以校正。随着石油勘探研究工作的不断深入，在不同区块、不同构造和不同地层中发现了许多特征各异的油气层，这就使得油气层识别变得更加错综复杂。因此，研究录井环境因素对气测录井的影响分析，通过综合录井曲线处理校正这些问题，有利于提高气测录井资料的应用价值。
技术实现思路
本专利技术设计开发了一种用于校正气测录井影响因素的综合录井曲线处理方法，本专利技术的目的是通过综合录井曲线的处理，消除储集层性质，钻井液性能、钻井参数等对气测录井数据的影响，放大数据特征。本专利技术提供的技术方案为：一种用于校正气测录井影响因素的综合录井曲线处理方法，包括如下步骤：步骤一、采集所述录井信息，确定所述录井信息中待处理范围区间；步骤二、对所述待处理范围区间的曲线段进行背景值校正处理得到优化后的背景值线；步骤三、对所述曲线段所对应的全烃含气量进行校正处理得到优化后的录井曲线；以及对所述待处理范围区间的曲线段中的异常峰进行优化处理，得到优化后的录井曲线。优选的是，在所述步骤一中，所述待处理范围区间为钻井深度为500～4000m的录井数据曲线。优选的是，在所述步骤二中，进行背景值校正处理的曲线段范围区间为钻井深度为3900～4000m所对应的录井曲线。优选的是，在所述步骤二中，对所述背景值通过如下第一公式进行校正处理得到优化后的经验背景值A1′，进而得到所述背景值线：其中，式中，H为钻井深度，H1为第一经验比对值，A0为监测背景值，ζ1为第一校正因子，K1为第一校正常数，取值为68.5～71.8。优选的是，K1取值为70.67。优选的是，在所述步骤二中，对所述背景值通过如下第二公式进行校正处理得到优化后的经验背景值A1′，进而得到所述背景值线：其中，式中，H为钻井深度，H2为第二经验比对值，A0为监测背景值，ζ2为第二校正因子，K2为第二校正常数，取值为107.5～110.8。优选的是，K2取值为109.4。优选的是，在所述步骤三中，对所述全烃含气量通过全烃地面含气量指数Igc进行校正处理，通过全烃地面含气量指数Igc得到优化后的路径曲线：式中，Tg为通过录井数据曲线监测得到的全烃含气量，Q为钻井液泵排量，t为钻时，d为钻头尺寸。优选的是，在所述步骤三中，当钻井深度为750～2700m时，曲线段中的异常峰通过如下公式进行优化处理消除得到校正全烃含气量Tg′，进而得到优化后的录井曲线：其中，式中，Tg_i为通过录井数据曲线监测得到的第i个数据点的经验全烃含气量，H为钻井深度，H0为标准深度经验比对值，Tg_max为录井数据曲线的最大监测值，Tg_min为录井数据曲线的最小监测值，P1为第一经验常数，取值范围为3.12～3.23，P2为第二经验常数，取值范围为190.8～191.9。优选的是，P取值为3.18，R取值为191.4。本专利技术与现有技术相比较所具有的有益效果：1、通过对背景值进行校正，放大曲线特征，消除高全烃背景值给储层油气水解释带来的影响；2、通过曲线校正计算，消除钻井工程参数对曲线气测值的影响；3、通过对单根峰的校正，除接单根或钻遇高压油气层时产生的单根气的影响，避免在根据烃值阈值选取储集层时选取到错误的储集层。附图说明图1为本专利技术所述的实施例1中监测背景值下全烃值和校正背景值下全烃值。图2为本专利技术所述的实施例2中井气测录井影响因素及校正值。图3为本专利技术所述的实施例2中井气测录井影响因素及校正值。图4为本专利技术所述的实施例3中单根峰异常全烃曲线示意图。图5为本专利技术所述的实施例3中在单根峰影响下全烃曲线示意图。图6为本专利技术所述的实施例3中将单根峰校正后全烃曲线示意图。具体实施方式下面结合附图对本专利技术做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。本专利技术提供了一种用于校正气测录井影响因素的综合录井曲线处理方法，包括如下步骤：步骤一、采集所述录井信息，确定所述录井信息中待处理范围区间；步骤二、对所述待处理范围区间的曲线段进行背景值校正处理得到优化后的背景值线；步骤三、对所述曲线段所对应的全烃含气量进行校正处理得到优化后的录井曲线，对所述待处理范围区间的曲线段中的异常峰进行优化处理，得到优化后的录井曲线。实施例1如图1所示，在另一种实施例中，本井在Es2段底部钻遇高压油气层之后气测异常非常活跃，出现高后效、高单根峰、高背景值，由于在高压油气层处泥饼难以形成，油气一直源源不断地向井筒内侵入，直到完井背景值仍维持在10％～15％之间，高背景值的出现，在一定程度上给Es2段的油层识别带来了困难，在钻至3905m后拉井壁，进一步激活上覆油气层，背景值再次升高，之后的实测全烃曲线呈波浪起伏状，波幅很小，虽能看出变化但不清晰；在3906～3944m井段全烃呈逐渐下降趋势，可以通过A号线为背景值线；在3945～3990m井段全烃呈逐渐上升趋势，可以通过B号线为背景值线，通过曲线计算分段扣除背景值；采用小比例绘出的校正全烃曲线起落分明，并且与储集层吻合较好；在3913～3950m井段解释了两个油层，四个差油层，对该段压裂后获日产油7.51t、水9.68m3；在本实施中，通过第一校正公式进一步的对A号背景曲线进行校正，得到校正后的背景曲线，第一校正公式其为：3900≤H＜3940；其中，式中，H为钻井深度，H1为第一经验比对值，A0为监测背景值，ζ1为第一校正因子，K1为第一校正常数，取值为68.5～71.8；作为一种优选，K1取值为70.67；通过第二校正公式进一步的对B号背景曲线进行校正，得到校正后的背景曲线，第二校正公式其为：3940≤H≤4000；其中，式中，H为钻井深度，H2为第二经验比对值，A0为监测背景值，ζ2为第二校正因子，K2为第二校正常数，取值为107.5～110.8；作为一种优选，K2取值为109.4。实施例2在常规钻井条件下，地层含气量的多少是通过气测全烃含量值的大小来表现的，钻头直径越大、机械钻速越快，单位深度和时间内破碎的岩屑就越多，进入钻井液的油气越多；反之，当钻头直径越小、钻速下降，单位深度和时间内破碎的岩屑减少，脱气器从钻井液中脱出的地层气也少；其次，就是泵排量的影响，在钻速一定的条件下，钻井液泵排量大，单位体积钻井液所含的油气量就相对减少，破碎的油气被冲淡，气测显示也就更低。在正常钻进情况下，每钻进1m的地层所释放出来的全烃含量值基本上可以间接反映该1m地层的含气量，为了消除钻头直径、钻井液排量以及钻时等参数的不同导致的全烃值失真，这里使用全烃地面含气量校正公式来加以校正，它是一个表示气显示相对大小的指数，是指破碎单位体积岩石释放出的气体在地面所测量得到的体积指数，用Igc表示：式中，Tg为通过录井数据曲线监测得到的全烃含气量，Q为钻井液泵排量，t为钻时，d为钻头尺寸；在综合录井曲线处理中，可本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于校正气测录井影响因素的综合录井曲线处理方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、采集所述录井信息，确定所述录井信息中待处理范围区间；步骤二、对所述待处理范围区间的曲线段进行背景值校正处理得到优化后的背景值线；步骤三、对所述曲线段所对应的全烃含气量进行校正处理得到优化后的录井曲线；以及对所述待处理范围区间的曲线段中的异常峰进行优化处理，得到优化后的录井曲线。

【技术特征摘要】
1.一种用于校正气测录井影响因素的综合录井曲线处理方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、采集所述录井信息，确定所述录井信息中待处理范围区间；步骤二、对所述待处理范围区间的曲线段进行背景值校正处理得到优化后的背景值线；步骤三、对所述曲线段所对应的全烃含气量进行校正处理得到优化后的录井曲线；以及对所述待处理范围区间的曲线段中的异常峰进行优化处理，得到优化后的录井曲线。2.如权利要求1所述的用于校正气测录井影响因素的综合录井曲线处理方法，其特征在于，在所述步骤一中，所述待处理范围区间为钻井深度为500～4000m的录井数据曲线。3.如权利要求1所述的用于校正气测录井影响因素的综合录井曲线处理方法，其特征在于，在所述步骤二中，进行背景值校正处理的曲线段范围区间为钻井深度为3900～4000m所对应的录井曲线。4.如权利要求3所述的用于校正气测录井影响因素的综合录井曲线处理方法，其特征在于，在所述步骤二中，对所述背景值通过如下第一公式进行校正处理得到优化后的经验背景值A1′，进而得到所述背景值线：其中，式中，H为钻井深度，H1为第一经验比对值，A0为监测背景值，ζ1为第一校正因子，K1为第一校正常数，取值为68.5～71.8。5.如权利要求4所述的用于校正气测录井影响因素的综合录井曲线处理方法，其特征在于，K1取值为70.67。6.如权利要求3所述的用于校正气测录井影响因素的综合录井曲线处理方法，其特征在于，在所述步骤二中，对所述背景值通过如下第...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈文建，毛敏，徐凤阳，吴昊晟，倪朋勃，
申请(专利权)人：中法渤海地质服务有限公司，
类型：发明
国别省市：天津,12