沉积掩模制造方法技术

公开了制造沉积掩模的方法，所述方法包括分束过程、扫描过程和调整过程，其中，在分束过程中，将从光源照射的激光束分束为多个激光束；在扫描过程中，将多个激光束同时扫描到掩模基板上；在调整过程中，在扫描多个激光束的同时，将多个激光束的照射状态精细地改变成与多个图案孔的形状对应。

Manufacturing Method of Deposition Mask

A method for manufacturing deposition mask is disclosed, which includes beam splitting process, scanning process and adjustment process. In beam splitting process, a laser beam irradiated from a light source is divided into multiple laser beams; in the scanning process, multiple laser beams are scanned onto the mask substrate at the same time; and in the adjustment process, the irradiation shape of multiple laser beams is scanned while multiple laser beams are scanned. The state is refined to correspond to the shape of multiple pattern holes.

【技术实现步骤摘要】
沉积掩模制造方法相关申请的交叉引用本申请要求于2017年10月11日提交的第10-2017-0131642号韩国专利申请的优先权和权益，出于如本文中完全阐述的所有目的，所述韩国专利申请通过引用并入本文中。
本专利技术的示例性实施方式大体涉及制造沉积掩模的方法，所述方法包括形成用于沉积的掩模的图案孔的改进过程，并且更具体地，涉及用于制造沉积掩模的装置。
技术介绍
通常，有机发光显示设备基于这样的原理实现颜色：从阳极和阴极注入的空穴和电子在发射层中复合，以及像素具有发射层位于作为阳极的像素电极与作为阴极的相对电极之间的结构。每个像素可以是例如红色像素、绿色像素和蓝色像素中的任何一个的子像素，并且由于上述三种像素的颜色组合，可产生期望的颜色。即，每个子像素具有发射层位于两个电极之间的结构，发射层发射红色、绿色和蓝色中的任何一种的光。由于三种颜色的光的组合，产生一个单位像素的颜色。上述有机发光显示设备的电极、发射层等可通过沉积形成。即，具有图案孔的掩模可定位在基板上，所述掩模具有与将形成的薄膜相同的图案，以及薄膜的原材料通过掩模中的图案孔沉积在基板上，从而形成具有期望图案的薄膜。掩模常常连同支撑掩模的端部部分的框架一起用作为掩模框架组件，以及图案孔通常在使用光刻胶的蚀刻过程期间形成。然而，当掩模的图案孔在蚀刻过程期间形成时，难以形成具有非常精确尺寸的图案孔。另外，由于蚀刻通常从掩模的两个侧表面朝其内部部分开始，使得蚀刻的部分在中间厚度周围相遇从而形成图案孔，因此工作速度非常低并且在蚀刻部分相遇处的中间厚度周围出现不连续的突出表面，这可能导致沉积期间对精确图案化的干扰(所谓的“阴影”)。本背景部分中公开的上述信息仅用于对本专利技术构思的背景的理解，并且因此，它可包括不构成现有技术的信息。
技术实现思路
一个或多个示例性实施方式包括制造沉积掩模的方法和用于制造沉积掩模的装置，其中，所述方法被改进以在无需执行蚀刻过程的情况下精确且快速地在掩模中形成图案孔。另外的方面将部分地在以下说明中阐述，并且部分地将通过描述而显而易见，或者通过对所呈现的实施方式的实践而习得。根据一个或多个示例性实施方式，制造沉积掩模的方法包括准备过程和孔加工过程，其中，在准备过程中，将掩模基板定位在平台上，以及在孔加工过程中，将激光束照射到掩模基板上以形成多个图案孔。孔加工过程包括照射过程、分束过程、扫描过程和调整过程，其中：在照射过程中，光源照射激光束；在分束过程中，将照射的激光束分束为多个激光束；在扫描过程中，将多个激光束同时扫描到掩模基板上；在调整过程中，在扫描所述多个激光束的同时，将所述多个激光束的照射状态精细地改变成与所述多个图案孔的形状对应。根据一个或多个示例性实施方式，用于制造沉积掩模的装置包括平台、光源、光束分束器、扫描器以及调谐器，其中：平台上安装有掩模基板；光源配置成照射激光束；光束分束器配置成将照射的激光束分束为多个激光束；扫描器配置成将所述多个激光束同时扫描到掩模基板上；以及调谐器配置成在扫描所述多个激光束的同时，将所述多个激光束的照射状态精细地改变成与多个图案孔的形状对应。将理解的是，前述一般描述和以下详细描述两者是示例性的和说明性的，并且旨在提供对所要求保护的本专利技术的进一步说明。附图说明所包括的提供对本专利技术的进一步理解并且并入本说明书中并构成本说明书的一部分的附图示出了本专利技术的示例性实施方式，并且连同描述一起用来说明本专利技术构思。图1示出根据示例性实施方式的包括沉积掩模的薄膜沉积装置的结构。图2是包括图1的沉积掩模的掩模框架组件的分解立体图。图3是根据示例性实施方式的用于制造沉积掩模的装置的立体图。图4是图3的光学系统的示意性结构的框图。图5是在图3的装置中扫描激光束的过程的平面图。图6是示出在图5的扫描过程期间激光束在每个图案孔中的运动路径的平面图。图7A、图7B、图7C和图7D是示出根据示例性实施方式的制造沉积掩模的过程的平面图。图8是图1的目标基板的详细结构的剖视图。具体实施方式在以下描述中，出于说明的目的，阐述了许多具体细节以提供对本专利技术的各种示例性实施方式或实现方式的彻底理解。如本文中所使用的，“实施方式”和“实现方式”为可互换的词，它们是使用本文中公开的专利技术构思中的一个或多个的设备或方法的非限制性示例。然而，显而易见的是，可在没有这些具体细节的情况下或者使用一个或多个等同布置来实践各种示例性实施方式。在其它情况下，为了避免不必要地模糊各种示例性实施方式，以框图形式示出了众所周知的结构和设备。另外，各种示例性实施方式可以是不同的，但不必是互斥的。例如，在不背离本专利技术构思的情况下，示例性实施方式的特定形状、配置和特征可在另一示例性实施方式中使用或实施。除非另作说明，否则示出的示例性实施方式将被理解为提供本专利技术构思可在实践中实施的一些方式的不同细节的示例性特征。因此，除非另作说明，否则在不背离本专利技术构思的情况下，各种实施方式的特征、组件、模块、层、膜、面板、区域和/或方面等(下文中，分别地或统称作为“元件”)可另外的组合、分离、互换和/或重新布置。通常在附图中提供交叉影线和/或阴影的使用，以阐明相邻元件之间的边界。因此，除非有规定，否则无论是交叉影线或阴影的存在还是不存在均不传达或表示对特定材料、材料性质、尺寸、比例、所示出的元件之间的共性和/或元件的任何其它特征、属性、性质等的任何偏好或需求。另外，在附图中，出于清楚和/或描述的目的，元件的尺寸和相对尺寸可能被夸大。当示例性实施方式可以不同地实施时，特定的过程顺序可以不同于所描述的顺序来执行。例如，两个连续描述的过程可基本上同时执行，或者以与所描述的顺序相反的顺序执行。此外，相同的附图标记表示相同的元件。当诸如层的元件被称作为“在”另一元件或层“上”、“连接至”或“联接至”另一元件或层时，其可直接在所述另一元件或层上、直接连接至或联接至所述另一元件或层，或者可存在中间元件或层。然而，当元件或层被称作为“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接至”或“直接联接至”另一元件或层时，不存在中间元件或层。为此，术语“连接”可涉及具有或不具有中间元件情况下的物理连接、电连接和/或流体连接。另外，D1-轴、D2-轴和D3-轴不限于直角坐标系的三个轴(诸如，X-轴、Y-轴和Z-轴)，并且可以以更广泛的含义解释。例如，D1-轴、D2-轴和D3-轴可彼此垂直，或者可表示彼此不垂直的不同方向。出于本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个”和“从由X、Y和Z组成的组中选择的至少一个”可被解释为仅X、仅Y、仅Z，或者X、Y和Z中的诸如两个或更多个的任何组合，例如，XYZ、XYY、YZ和ZZ。如本文中所使用的，术语“和/或”包括相关联的所列项中的一个或多个的任何和全部组合。尽管本文中可使用术语“第一”、“第二”等来描述各种类型的元件，但是这些元件不应受到这些术语的限制。这些术语可用于将一个元件与另一元件区分开。因此，在不背离本公开的教导的情况下，以下讨论的第一元件也可称作为第二元件。出于描述的目的，本文中可使用诸如“在……以下”、“在……下方”、“在……之下”、“下部”、“在……上方”、“在……以上”、“在……之上”、“上部”、“侧”(例如，如“侧壁”中)等空间相对术语，并由此来描述如附图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.制造沉积掩模的方法，所述方法包括：将掩模基板设置在平台上；以及将激光束照射到所述掩模基板上，以形成多个图案孔，其中，将所述激光束照射到所述掩模基板上包括：从光源照射所述激光束；将所照射的激光束分束成多个激光束；将所述多个激光束同时扫描到所述掩模基板上；以及在扫描所述多个激光束的同时，调整所述多个激光束的照射状态以与所述多个图案孔的形状对应。

【技术特征摘要】
2017.10.11 KR 10-2017-01316421.制造沉积掩模的方法，所述方法包括：将掩模基板设置在平台上；以及将激光束照射到所述掩模基板上，以形成多个图案孔，其中，将所述激光束照射到所述掩模基板上包括：从光源照射所述激光束；将所照射的激光束分束成多个激光束；将所述多个激光束同时扫描到所述掩模基板上；以及在扫描所述多个激光束的同时，调整所述多个激光束的照射状态以与所述多个图案孔的形状对应。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述调整包括：调节所述多个激光束的运动路径以允许所述多个激光束环绕所述多个图案孔的区域。3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述调整还包括：调节所述激光束在所述多个图案孔的所述区域内照射的次数。4.根据权利要求2所述的方法，其中，所述调整还包括：调节所述激光束在所述多个图案孔的所述区域内的功率。5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述扫描被执行为通过...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴泽溢，韩圭完，金元容，明承镐，朴宰奭，亚历山大·沃罗诺夫，全镇弘，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR