显示面板及其制作方法技术

本发明专利技术提供了一种显示面板及其制作方法，所述显示面板的制作方法包括：提供一基板，所述基板包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域内设置有覆晶薄膜和测试结构；所述测试结构包括测试点和测试电路，所述测试电路包括信号走线，所述信号走线包括相互连接的非金属走线和金属走线，所述信号走线上设置有切割线；通过所述测试结构对所述基板的显示区域进行测试；沿着所述切割线将所述测试点除掉；其中，所述显示面板的信号走线包括非金属走线。本发明专利技术通过将信号走线设置为金属走线和非金属走线相结合的方式，使得在完成显示面板测试后，能够在不侵蚀金属线路的前提下，将测试点去掉以简化显示面板的结构，降低静电损伤的发生率。

Display panel and its fabrication method

The invention provides a display panel and a manufacturing method thereof. The manufacturing method of the display panel includes: providing a substrate comprising a display area and a non-display area, in which a cladding film and a test structure are arranged; the test structure includes a test point and a test circuit, the test circuit includes a signal route, and the signal route includes a phase. The interconnected non-metallic and metal routes are provided with cutting lines on the signal routes; the display area of the substrate is tested by the test structure; the test points are removed along the cutting lines; and the signal routes of the display panel include non-metallic routes. By setting the signal routing as a combination of metal routing and non-metal routing, the method enables the test points to be removed without eroding the metal lines after the test of the display panel, so as to simplify the structure of the display panel and reduce the incidence of electrostatic damage.

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制作方法
本专利技术涉及显示领域，具体涉及一种显示面板及其制作方法。
技术介绍
显示面板包括显示区域和非显示区域。显示区域具有薄膜晶体管阵列，以及相间隔的数据线与栅极线所组成的相交错阵列；非显示区域设置于显示区域的外侧，具有对阵列基板进行电性测试的阵列测试电路、覆晶薄膜(COF)以及测试点(TestPad)。如图1所示，在显示面板的生产过程中，需要在显示面板上设置阵列测试(Array测试)电路以在阵列基板完成后对进行阵列测试。通常的，阵列测试电路位于测试点(TestPad)和覆晶薄膜(COF)之间。对阵列基板进行测试时，测试信号由测试点(TestPad)写入，经过测试电路传输入显示区域对阵列基板进行测试。在阵列测试结束后，将测试电路中的控制器件关闭。测试信号由邦定在覆晶薄膜(COF)上的柔性电路板(FPC)提供。显示面板中由于测试电路的存在，会增加显示面板结构的复杂程度，而且会提高静电损伤发生率。因此，目前亟需一种显示面板及其制作方法以解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术提供了一种显示面板及其制作方法，以解决显示面板中由于测试结构被切除后部分金属走线裸露被侵蚀，进而影响显示面板品质的问题。本专利技术提出了一种显示面板的制作方法，包括如下步骤：步骤S10、提供一基板，所述基板包括显示区域和设置在所述显示区域外侧的非显示区域，所述非显示区域内设置有覆晶薄膜和测试结构；所述测试结构包括：位于所述覆晶薄膜远离所述显示区域的一侧的测试点；位于所述测试点与所述覆晶薄膜之间的测试电路，包括连接所述覆晶薄膜和所述测试点的信号走线，所述信号走线包括相互连接的非金属走线和金属走线，所述信号走线上设置有切割线；步骤S20、通过所述测试结构对所述基板的显示区域进行测试；步骤S30、沿着所述切割线将所述测试点除掉，形成显示面板；其中，所述显示面板的信号走线包括非金属走线。根据本专利技术一优选实施例，在步骤S10中，所述信号走线包括两端的金属走线和中间的非金属走线，所述金属走线包括与所述覆晶薄膜连接的第一金属走线和与所述测试点连接点相连的第二金属走线，所述切割线位于所述非金属走线范围内。根据本专利技术一优选实施例，所述切割线与所述非金属走线相交，所述切割线至所述非金属走线两端的距离均大于或等于100微米。根据本专利技术一优选实施例，所述切割线与所述第二金属走线相交，所述非金属走线的长度为100微米至150微米。根据本专利技术一优选实施例，所述基板包括层叠设置的衬底、多晶硅层、缓冲层和金属层；所述非金属走线位于所述多晶硅层，所述金属走线位于所述金属层，所述缓冲层上设置有过孔，所述非金属走线通过所述过孔与所述金属走线电连接以形成信号走线。根据本专利技术一优选实施例，所述基板还包括平坦化层，所述平坦化层中存在凹槽，所述覆晶薄膜和所述测试点设置于所述凹槽中。根据本专利技术一优选实施例，所述非金属走线的制备材料包括多晶硅，所述金属走线为栅极走线、源漏极走线和透明金属走线中的其中一者。根据本专利技术一优选实施例，所述测试点与所述覆晶薄膜一一对应。根据本专利技术一优选实施例，m个相邻的所述覆晶薄膜形成一个覆晶薄膜组，所述测试点与所述覆晶薄膜组一一对应，m为大于或等于1的整数；所述测试电路包括与所述覆晶薄膜数目相同的晶体管，所述晶体管与所述覆晶薄膜一一对应，所述晶体管与所述第二金属走线电连接；在所述覆晶薄膜组中，从左往右数序号相同的所述覆晶薄膜所对应的晶体管相互电连接以形成晶体管组，所述测试电路通过所述晶体管组的开关和闭合控制所述显示区域的测试。根据本专利技术的另一个方面，还提供了一种显示面板，包括：显示区域和包围所述显示区域的非显示区域；所述显示区域包括：衬底；设置在所述衬底上的多晶硅层，所述多晶硅层包括非金属走线；设置在所述多晶硅层上的缓冲层，所述缓冲层内设置有过孔；设置在所述缓冲层上的平坦化层，所述平坦化层设置有凹槽；设置在所述缓冲层上的金属层，所述金属层包括金属走线，所述金属走线通过所述过孔与所述非金属走线电连接，所述金属走线位于所述凹槽内；所述非显示区域包括覆晶薄膜和避免所述金属走线被侵蚀的非金属走线，所述覆晶薄膜与所述非金属走线和所述金属走线的其中一者电连接。本专利技术的优点是，提供了一种显示面板及其制作方法，通过将信号走线设置为金属走线和非金属走线相结合的方式，使得在完成显示面板测试后，能够在不侵蚀金属线路的前提下，将测试点去掉以简化显示面板的结构，降低静电损伤的发生率。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中显示面板的测试结构的结构示意图；图2为本专利技术实施例中显示面板制作方法的流程示意图；图3为本专利技术实施例中显示面板中测试结构被切割前的结构示意图；图4为本专利技术实施例中显示面板的结构示意图；图5为本专利技术另一实施例中显示面板的结构示意图；图6为本专利技术中另一实施例中显示面板中测试结构被切割前的结构示意图；图7为本专利技术中另一实施例中显示面板的结构示意图；图8在本专利技术中又一实施例中显示面板中测试结构被切割前的结构示意图；图9在本专利技术中又一实施例中显示面板中测试结构被切割前的结构示意图；图10为本专利技术中显示面板的部分结构示意图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。本专利技术提供了一种显示面板的测试结构，以解决显示面板中由于测试结构被切除后部分金属走线裸露被侵蚀，进而影响显示面板品质的问题，本实施例能够改善该缺陷。下面结合附图和具体实施例对本专利技术做进一步的说明：如图2所示，本专利技术提供了一种显示面板的制作方法，包括：如图3所示，步骤S10、提供一基板，所述基板2包括显示区域21和设置在所述显示区域21外侧的非显示区域22，所述非显示区域22内设置有覆晶薄膜221和测试结构；所述覆晶薄膜221，用于生成测试信号，通常的，所述覆晶薄膜221包括：衬底和设置在衬底上的柔性电路板，所述测试信号在柔性电路板上生成；所述测试结构包括：测试点223和测试电路222；所述测试点223，用于接收所述测试信号并将所述将测试信号传输到所述显示区域21，所述测试点223位于所述覆晶薄膜221远离所述显示区域21的一侧；可以理解的是，测试点223主要是用来测试显示区域的，在对显示区域测试后，所述测试点223可以被去掉，以简化显示面板的结构，这也是本专利技术的技术特征之一。所述测试电路，设置于所述测试点223与所述覆晶薄膜221之间，包括连接所述覆晶薄膜221和所述测试点223的信号走线222；其中，所述信号走线222包括，所述信号走线222包括相互连接的非金属走线222a和金属走线222b，所述信号走线222上设置有切割线23。在本专利技术中，通过将信号走线设置为金属走线222a和非金属走线222b相混本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S10、提供一基板，所述基板包括显示区域和设置在所述显示区域外侧的非显示区域，所述非显示区域内设置有覆晶薄膜和测试结构；所述测试结构包括：位于所述覆晶薄膜远离所述显示区域的一侧的测试点；位于所述测试点与所述覆晶薄膜之间的测试电路，包括连接所述覆晶薄膜和所述测试点的信号走线，所述信号走线包括相互连接的非金属走线和金属走线，所述信号走线上设置有切割线；步骤S20、通过所述测试结构对所述基板的显示区域进行测试；步骤S30、沿着所述切割线将所述测试点除掉，形成显示面板；其中，所述显示面板的信号走线包括非金属走线。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S10、提供一基板，所述基板包括显示区域和设置在所述显示区域外侧的非显示区域，所述非显示区域内设置有覆晶薄膜和测试结构；所述测试结构包括：位于所述覆晶薄膜远离所述显示区域的一侧的测试点；位于所述测试点与所述覆晶薄膜之间的测试电路，包括连接所述覆晶薄膜和所述测试点的信号走线，所述信号走线包括相互连接的非金属走线和金属走线，所述信号走线上设置有切割线；步骤S20、通过所述测试结构对所述基板的显示区域进行测试；步骤S30、沿着所述切割线将所述测试点除掉，形成显示面板；其中，所述显示面板的信号走线包括非金属走线。2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，在步骤S10中，所述信号走线包括两端的金属走线和中间的非金属走线，所述金属走线包括与所述覆晶薄膜连接的第一金属走线和与所述测试点连接点相连的第二金属走线，所述切割线位于所述非金属走线范围内。3.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述切割线与所述非金属走线相交，所述切割线至所述非金属走线两端的距离均大于或等于100微米。4.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述切割线与所述第二金属走线相交，所述非金属走线的长度为100微米至150微米。5.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述基板包括层叠设置的衬底、多晶硅层、缓冲层和金属层；所述非金属走线位于所述多晶硅层，所述金属走线位于所述金属层，所述缓冲层上设置有过孔，所述非金属走线通过所述过孔与所述金属走线电连接以形成信...

【专利技术属性】
技术研发人员：明星，陈彩琴，王一伊，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42