显示面板及其制作方法技术

本申请提出了一种显示面板及其制作方法，所述制作方法包括：提供一基板，在所述基板上依次形成非晶硅层、第一金属层、第二金属层及第一光阻层；利用第一光罩工艺，所述第一金属层形成第一金属图案层，及所述第二金属层形成第二金属图案层；利用第一蚀刻工艺，使所述第一金属图案层形成保护层、及对所述非晶硅层图案化处理使所述非晶硅层形成有源层；利用第二蚀刻工艺，去除所述第二金属图案层及所述保护层边缘区域中超出所述有源层的部分，使所述第二金属图案层形成源漏极。本申请通过在有源层与源漏极之间形成以保护层，避免在进行源漏极图案化处理时，位于源漏极下方的有源层被蚀刻，提高了产品的良率和品质。

Display panel and its fabrication method

This application proposes a display panel and its fabrication method. The fabrication method includes: providing a substrate on which a amorphous silicon layer, a first metal layer, a second metal layer and a first photoresistive layer are formed in turn; forming a first metal pattern layer by the first metal layer and a second metal pattern layer by the first etching process; and forming a second metal pattern layer by the first etching process. The etching process enables the first metal pattern layer to form a protective layer and the patterned treatment of the amorphous silicon layer to form an active layer; the second etching process is used to remove the second metal pattern layer and the part beyond the active layer in the edge area of the protective layer, so that the second metal pattern layer forms a source and drain pole. By forming a protective layer between the active layer and the source and drain poles, the application avoids the etching of the active layer under the source and drain poles when the source and drain poles are patterned, thus improving the product's yield and quality.

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制作方法
本申请涉及显示领域，特别涉及一种显示面板及其制作方法。
技术介绍
LCD(LiquidCrystalDisplay，液晶显示器)是目前市场上应用最为广泛的显示产品，其生产工艺技术十分成熟，产品良率高，生产成本相对较低，市场接受度高。现有LCD制程中，有源层上设置有源漏极金属层。由于灰化工艺的处理，使得位于源漏极金属层上的光阻层变薄，部分源漏极金属层裸露。因此，在对源漏极金属层进行蚀刻工艺时，位于源漏极金属层下方的部分有源层同时会被蚀刻掉，导致产品产生静电释放的风险，降低了产品的良率。因此，本申请基于此技术问题，而提出了一新型的结构。
技术实现思路
本申请提供一种显示面板及其制作方法，以解决现有液晶显示面板制程中产生静电释放的技术问题。为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：本申请提供一种显示面板的制作方法，其包括步骤：S10、提供一基板，在所述基板上形成一非晶硅层；S20、在所述非晶硅层上依次形成第一金属层、第二金属层及第一光阻层；S30、利用第一光罩工艺，使所述第一金属层形成第一金属图案层，及所述第二金属层形成第二金属图案层；S40、利用第一蚀刻工艺，使所述第一金属图案层形成保护层、及对所述非晶硅层图案化处理使所述非晶硅层形成有源层，所述有源层在所述第二金属图案层上的正投影位于所述第二金属图案层内；S50、利用第二蚀刻工艺，去除所述第二金属图案层及所述保护层边缘区域中超出所述有源层的部分，使所述第二金属图案层形成源漏极；S60、剥离所述第一光阻层。在本申请的制作方法中，步骤S30包括：S301、对所述第一光阻层进行曝光、显影处理，以形成图案化的所述第一光阻层；S302、利用第三蚀刻工艺，对所述第二金属层图案化处理，使所述第二金属层形成所述第二金属图案层；S303、利用第四蚀刻工艺，对所述第一金属层图案化处理，使所述第一金属层形成所述第一金属图案层；所述第一金属图案层与所述第二金属图案层的图案相同。在本申请的制作方法中，所述第二金属图案层包括第一部分和位于所述第一部分外围的第二部分，所述第一部分在所述有源层上的正投影位于所述有源层内；其中，所述第二蚀刻工艺用于去除所述第二部分，使所述第一部分形成所述源漏极。在本申请的制作方法中，所述第一蚀刻工艺为等离子蚀刻，所述等离子蚀刻通过等离子气体对所述非晶硅层蚀刻；所述等离子气体包括四氟化氮、六氟化硫、氧气中的一种或者一种以上的混合体。在本申请的制作方法中，所述第一金属层的金属材料包括钼。在本申请的制作方法中，所述保护层包括六氟化钼、五氯化钼、三氧化钼及金属钼中一种以上的组合物。在本申请的制作方法中，在所述基板上形成一非晶硅层之前，还包括：在所述基板上形成一栅极；在所述栅极上形成一栅绝缘层。本申请还提出了一种显示面板，其包括基板、位于所述基板上栅极、位于所述栅极的栅绝缘层、位于所述栅绝缘层上的有源层、位于所述有源层上的保护层、位于所述保护层上源漏极；所述源漏极在所述有源层上的正投影位于所述有源层内。在本申请的显示面板中，所述源漏极的材料包括铜、铝、钛等中的一种或一种以上的组合物。在本申请的显示面板中，所述保护层包括六氟化钼、五氯化钼、三氧化钼、及金属钼中一种以上的组合物。有益效果：本申请通过在有源层与源漏极之间形成以保护层，避免在进行源漏极图案化处理时，位于源漏极下方的有源层被蚀刻，提高了产品的良率和品质。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本申请一种显示面板制作方法的步骤图；图2A～2F为本申请一种显示面板制作方法的工艺图；图3为本申请一种显示面板的膜层结构图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。请参阅图1，图1为本申请一种显示面板制作方法的步骤图。请参阅图2A～2F，图2A～2F为本申请一种显示面板制作方法的工艺图。所述制作方法包括：S10、提供一基板，在所述基板上形成一非晶硅层；请参阅图2A，步骤S10具体包括：S101、提供一基板101；在一种实施例中，所述基板101的原材料可以为玻璃基板、石英基板、树脂基板等中的一种。在一种实施例中，所述基板101还可以为柔性基板。所述柔性基板的材料可以为PI(聚酰亚胺)。S102、在所述基板101上形成一栅极102；所述栅极102的金属材料可以采用钼、铝、铝镍合金、钼钨合金、铬、或铜等金属中的一种，也可以使用上述几种金属材料的组合物。在一种实施例中，所述栅极102的金属材料可以为钼。在本步骤中，通过对形成所述栅极102的一金属层，使用光罩工艺，经掩模板(未画出)曝光，显影以及蚀刻的构图工艺处理后，使该金属层形成图2A所示的图案，并剥离该光阻层。S103、在所述栅极102上形成一栅绝缘层103；所述栅绝缘层103形成于所述栅极102上。所述栅绝缘层103用于将所述栅极102与位于所述栅极102上的有源层隔离。在一种实施例中，所述栅绝缘层103的材料通常为氮化硅，也可以使用氧化硅和氮氧化硅等。S104、在所述栅绝缘层103上形成一非晶硅层104；在本步骤中，所述非晶硅层104为整层设置。所述非晶硅层104用于制备所述显示面板中的有源层。S20、在所述非晶硅层104上依次形成第一金属层105、第二金属层106及第一光阻层107；请参阅图2B，在所述非晶硅层104上依次形成第一金属层105、第二金属层106及第一光阻层107。在一种实施例中，所述第一金属层105的金属材料可以为钼。所述第二金属层106的金属材料可以采用钼、铝、铝镍合金、钼钨合金、铬、铜或钛铝合金等金属中的一种，也可以使用上述几种金属材料的组合物。在一种实施例中，所述第二金属层106的金属材料可以为钛铝合金。S30、利用第一光罩工艺，使所述第一金属层105形成第一金属图案层108，及所述第二金属层106形成第二金属图案层109；请参阅图2C，步骤S30包括：S301、对所述第一光阻层107进行曝光、显影处理，以形成图案化的所述第一光阻层107；在本步骤中，所述第一光阻经掩模板(未画出)曝光，显影形成预定图案。S302、利用第三蚀刻工艺，对所述第二金属层106图案化处理，使所述第二金属层106形成所述第二金属图案层109；S303、利用第四蚀刻工艺，对所述第一金属层105图案化处理，使所述第一金属层105形成所述第一金属图案层108；S304、对图案化后的第一光阻层107进行灰化处理，使得部分所述第二金属图案层109裸露；在一种实施例中，所述第一金属图案层108与所述第二金属图案层109的图案相同。在一种实施例中，所述第三蚀刻工艺和所述第四蚀刻工艺为湿法蚀刻。在一种实施例中，步骤S302和步骤S303可以采用一道蚀刻工艺，同时对所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括步骤：S10、提供一基板，在所述基板上形成一非晶硅层；S20、在所述非晶硅层上依次形成第一金属层、第二金属层及第一光阻层；S30、利用第一光罩工艺，使所述第一金属层形成第一金属图案层，及所述第二金属层形成第二金属图案层；S40、利用第一蚀刻工艺，使所述第一金属图案层形成保护层、及对所述非晶硅层图案化处理使所述非晶硅层形成有源层，所述有源层在所述第二金属图案层上的正投影位于所述第二金属图案层内；S50、利用第二蚀刻工艺，去除所述第二金属图案层及所述保护层边缘区域中超出所述有源层的部分，使所述第二金属图案层形成源漏极；S60、剥离所述第一光阻层。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括步骤：S10、提供一基板，在所述基板上形成一非晶硅层；S20、在所述非晶硅层上依次形成第一金属层、第二金属层及第一光阻层；S30、利用第一光罩工艺，使所述第一金属层形成第一金属图案层，及所述第二金属层形成第二金属图案层；S40、利用第一蚀刻工艺，使所述第一金属图案层形成保护层、及对所述非晶硅层图案化处理使所述非晶硅层形成有源层，所述有源层在所述第二金属图案层上的正投影位于所述第二金属图案层内；S50、利用第二蚀刻工艺，去除所述第二金属图案层及所述保护层边缘区域中超出所述有源层的部分，使所述第二金属图案层形成源漏极；S60、剥离所述第一光阻层。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，步骤S30包括：S301、对所述第一光阻层进行曝光、显影处理，以形成图案化的所述第一光阻层；S302、利用第三蚀刻工艺，对所述第二金属层图案化处理，使所述第二金属层形成所述第二金属图案层；S303、利用第四蚀刻工艺，对所述第一金属层图案化处理，使所述第一金属层形成所述第一金属图案层；所述第一金属图案层与所述第二金属图案层的图案相同。3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第二金属图案层包括第一部分和位于所述第一部分外围的第二部分，...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁文豪，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44