The invention provides an etching solution processing device, which comprises a medicine liquid tank for containing etching liquid, which is used for etching the substrate, a bearing tank for carrying the substrate and the etching liquid after etching, a first medicine liquid tube, one end connected with the medicine liquid tank, the other end arranged on the substrate, and a first medicine liquid tube for transmitting the etching liquid in the medicine liquid tank to the substrate so as to make the etching liquid transfer to the substrate. The etching solution etches the substrate; the second medicine liquid tube, one end is connected with the medicine liquid trough, the other end is connected with the loading trough; the second medicine liquid tube is used to transfer the etching liquid after etching to the medicine liquid trough; the detection module is used to detect whether the etching liquid or the etching liquid after etching is contaminated and get the test result; the processing module is used to detect the etching liquid and/or the etching liquid after etching according to the test result. The etching solution is treated. By setting detection module and processing module, the etching performance and the yield of substrate can be improved.
【技术实现步骤摘要】
刻蚀液处理装置
本专利技术涉及刻蚀
,特别是涉及一种刻蚀处理装置。
技术介绍
在阵列基板制程中,一般采用对基板上的金属层进行湿刻的方法,形成扫描线、栅电极等结构。具体的,湿刻通过刻蚀液与金属层发生化学反应,刻蚀掉未被光刻胶掩蔽的金属层。在此刻蚀过程中,光刻胶、金属可能会剥离,溶解在刻蚀液中,使刻蚀液受到污染,造成基板刻蚀不良。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种刻蚀液处理装置,提高了刻蚀性能以及基板的良品率。本专利技术实施例提供了一种刻蚀液处理装置,包括:药液槽,用于容纳刻蚀液,所述刻蚀液用于对基板进行刻蚀;承载槽,所述承载槽用于承载所述基板,所述承载槽用于容纳刻蚀后的刻蚀液;第一药液管,所述第一药液管的一端与所述药液槽连接,所述第一药液管的另一端设置在所述基板上,所述第一药液管用于将所述药液槽中的所述刻蚀液传输至所述基板上,使所述刻蚀液对所述基板进行刻蚀;第二药液管,所述第二药液管的一端与所述药液槽连接,所述第二药液管的另一端与所述承载槽连接,所述第二药液管用于将所述刻蚀后的刻蚀液传输至所述药液槽中;检测模块,用于检测所述刻蚀液或所述刻蚀后的刻蚀液是否受到污染,得到检测结果;处理模块,用于根据所述检测结果,对所述刻蚀液和/或所述刻蚀后的刻蚀液进行处理。在一实施例中,所述检测模块包括:获取子模块,用于获取所述刻蚀液的导电值;判断子模块,用于判断所述刻蚀液的导电值是否处于第一预设导电值范围;第一得到子模块,用于在不处于第一预设导电值范围时,得到所述刻蚀液受到污染的检测结果;第二得到子模块,用于在处于第一预设导电值范围时,得到所述刻蚀液未受到污染的检 ...
【技术保护点】
1.一种刻蚀液处理装置,其特征在于,包括:药液槽,用于容纳刻蚀液,所述刻蚀液用于对基板进行刻蚀;承载槽,所述承载槽用于承载所述基板,所述承载槽用于容纳刻蚀后的刻蚀液;第一药液管,所述第一药液管的一端与所述药液槽连接,所述第一药液管的另一端设置在所述基板上,所述第一药液管用于将所述药液槽中的所述刻蚀液传输至所述基板上,使所述刻蚀液对所述基板进行刻蚀;第二药液管,所述第二药液管的一端与所述药液槽连接,所述第二药液管的另一端与所述承载槽连接,所述第二药液管用于将所述刻蚀后的刻蚀液传输至所述药液槽中;检测模块,用于检测所述刻蚀液或所述刻蚀后的刻蚀液是否受到污染,得到检测结果;处理模块,用于根据所述检测结果,对所述刻蚀液和/或所述刻蚀后的刻蚀液进行处理。
【技术特征摘要】
1.一种刻蚀液处理装置,其特征在于,包括:药液槽,用于容纳刻蚀液,所述刻蚀液用于对基板进行刻蚀;承载槽,所述承载槽用于承载所述基板,所述承载槽用于容纳刻蚀后的刻蚀液;第一药液管,所述第一药液管的一端与所述药液槽连接,所述第一药液管的另一端设置在所述基板上,所述第一药液管用于将所述药液槽中的所述刻蚀液传输至所述基板上,使所述刻蚀液对所述基板进行刻蚀;第二药液管,所述第二药液管的一端与所述药液槽连接,所述第二药液管的另一端与所述承载槽连接,所述第二药液管用于将所述刻蚀后的刻蚀液传输至所述药液槽中;检测模块,用于检测所述刻蚀液或所述刻蚀后的刻蚀液是否受到污染,得到检测结果;处理模块,用于根据所述检测结果,对所述刻蚀液和/或所述刻蚀后的刻蚀液进行处理。2.根据权利要求1所述的刻蚀液处理装置,其特征在于,所述检测模块包括:获取子模块,用于获取所述刻蚀液的导电值;判断子模块,用于判断所述刻蚀液的导电值是否处于第一预设导电值范围;第一得到子模块,用于在不处于第一预设导电值范围时,得到所述刻蚀液受到污染的检测结果;第二得到子模块,用于在处于第一预设导电值范围时,得到所述刻蚀液未受到污染的检查结果。3.根据权利要求2所述的刻蚀液处理装置,其特征在于,所述获取子模块,还用于获取所述刻蚀后的刻蚀液的导电值;所述判断子模块,还用于判断所述刻蚀后的刻蚀液的导电值是否处于第二预设导电值范围;所述第一得到子模块,还用于在不处于第二预设导电值范围时,得到所述刻蚀后的刻蚀液受到污染的检测结果;所述第二得到子模块,还用于在处于第二预设导电值范围时,得到所述刻蚀后的刻蚀液未受到污染的检查结果。4.根据权利要求2所述的刻蚀液处理装置,其特征在于,所述获取子模块,还用于获取所述刻蚀液的压差值;所述判断子模块,还用于判断所述刻蚀液的压差值是否大于第一预设压差值;所述第一得到子模块,还用于在大于第一预设压差值时,得到所述刻蚀液受到污染的检测结果;所述第二得到子模块,还用于在不大于第一预设压差值时,得到所述刻蚀液未受到污染的检查结果。5.根据权利要求2所述的刻蚀液处理装置,其特征在于,所述获取子模块,还用于获取所述刻蚀后的刻蚀液的压差值;所述判断子模块,还用于判断所述刻蚀后的刻蚀液的压差值是否大于第二预设压差值;所述第一得到子模块,还用于在大于第二预设压差值时,得到所述刻蚀后的刻蚀液受到...
【专利技术属性】
技术研发人员:沈海洋,
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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