The invention discloses a modeling method of light intensity distribution, which is applied in the field of photolithography illumination uniformity compensation technology, including acquiring input parameters, input parameters including input light intensity distribution of view field and pupil energy distribution of compensation plane, determining light intensity distribution of compensation plane according to input light intensity distribution of view field and pupil energy distribution of compensation plane, and according to compensation level. The light intensity distribution of the plane and the pupil energy distribution determine the output light intensity distribution of the scene. The invention also discloses a light intensity distribution modeling device, an electronic device and a storage medium, which can provide an effective basis for the design and Simulation of the uniformity compensation device in the photolithography lighting system.
【技术实现步骤摘要】
一种光强分布的建模方法、装置、电子设备及存储介质
本专利技术涉及光刻照明均匀性补偿
,尤其涉及一种光强分布的建模方法、装置、电子设备及存储介质。
技术介绍
把越来越多的晶体管电路元件集成在硅片上,一直是国际微电子工业界不懈追求的目标。因此,减小集成电路最小线宽尺寸是提高存储能力的重要手段。在加工制造集成电路的设备很多,光刻机是目前技术最成熟的设备。光刻机的核心部件是投影曝光光学系统,该系统最重要的组成部分是照明系统和投影物镜系统。为掩膜面提供均匀照明是光刻照明系统的主要功能,良好的照明均匀性能降低光刻工艺因子,提高整个光刻系统的分辨率;反之,照明的不均匀性分布会使得硅片面上曝光线条的粗细不均匀,严重影响光刻质量。随着光刻波长的不断缩短,特征尺寸的不断缩小,光刻对照明系统的均匀性要求越来越高,仅使用传统的匀光器件和匀光原理已经达不到或很难达到均匀性要求。此外,照明系统内器件会随着时间不断磨损,降低其匀光性能,引入新的非均匀性。因此,为了满足光刻系统对照明均匀性的要求,补偿系统内不同因素引入的非均匀性,需要在系统中增加照明均匀性补偿装置。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种光强分布的建模方法、装置、电子设备及存储介质,可为光刻照明系统内均匀性补偿装置的设计和仿真提供有效依据。为实现上述目的,本专利技术实施例第一方面提供一种光强分布的建模方法,包括:获取输入参数,所述输入参数包括视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布;根据所述视场面的输入光强分布和所述补偿平面的光瞳能量分布,确定所述补偿平面的光强分布;根据所述补偿平面的光强分布和光瞳能量分布 ...
【技术保护点】
1.一种光强分布的建模方法,其特征在于,包括:获取输入参数,所述输入参数包括视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布;根据所述视场面的输入光强分布和所述补偿平面的光瞳能量分布,确定所述补偿平面的光强分布;根据所述补偿平面的光强分布和光瞳能量分布,确定所述视场面的输出光强分布。
【技术特征摘要】
1.一种光强分布的建模方法,其特征在于,包括:获取输入参数,所述输入参数包括视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布;根据所述视场面的输入光强分布和所述补偿平面的光瞳能量分布,确定所述补偿平面的光强分布;根据所述补偿平面的光强分布和光瞳能量分布,确定所述视场面的输出光强分布。2.根据权利要求1所述的建模方法,其特征在于,所述根据所述视场面的输入光强分布和所述补偿平面的光瞳能量分布,确定所述补偿平面的光强分布包括:将所述视场面的输入光强分布和所述补偿平面的光瞳能量分布,通过卷积算法,计算得出所述补偿平面的光强分布。3.根据权利要求1或2所述的建模方法,其特征在于,所述根据所述补偿平面的光强分布和光瞳能量分布,确定所述视场面的输出光强分布包括:令所述视场面的输入光强分布为I1,所述补偿平面的光强分布为I2,所述视场面的输出光强分布为I1′,光瞳能量分布为P,则F{I′1}=F{I2}/F{P};对所述F{I′1}进行傅里叶逆变换,得到所述视场面的输出光强分布为I1′。4.根据权利要求3所述的建模方法,其特征在于,所述根据所述补偿平面的光强分布和光瞳能量分布,确定所述视场面的输出光强分布之后,还包括:根据所述视场面的输出光强分布和所述视场面的输入光强分布,确定照明均匀性补偿系统建模之后的误差。5.一种光强分布的建模装置,其特征在于,包括:获取模块,用于获取输入参数,所述输入参数包括视场面的输入光强分布和补...
【专利技术属性】
技术研发人员:何毅,林妩媚,廖志杰,刘卫静,邢廷文,
申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所,
类型:发明
国别省市:四川,51
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