一种光强分布的建模方法、装置、电子设备及存储介质制造方法及图纸

技术编号:20917527 阅读:17 留言:0更新日期:2019-04-20 09:54
本发明专利技术公开了一种光强分布的建模方法,应用于光刻照明均匀性补偿技术领域,包括:获取输入参数,输入参数包括视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布,根据视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布,确定补偿平面的光强分布,根据补偿平面的光强分布和光瞳能量分布,确定视场面的输出光强分布。本发明专利技术还公开了一种光强分布的建模装置、电子设备及存储介质,可为光刻照明系统内均匀性补偿装置的设计和仿真提供有效依据。

A Modeling Method, Device, Electronic Equipment and Storage Media for Light Intensity Distribution

The invention discloses a modeling method of light intensity distribution, which is applied in the field of photolithography illumination uniformity compensation technology, including acquiring input parameters, input parameters including input light intensity distribution of view field and pupil energy distribution of compensation plane, determining light intensity distribution of compensation plane according to input light intensity distribution of view field and pupil energy distribution of compensation plane, and according to compensation level. The light intensity distribution of the plane and the pupil energy distribution determine the output light intensity distribution of the scene. The invention also discloses a light intensity distribution modeling device, an electronic device and a storage medium, which can provide an effective basis for the design and Simulation of the uniformity compensation device in the photolithography lighting system.

【技术实现步骤摘要】
一种光强分布的建模方法、装置、电子设备及存储介质
本专利技术涉及光刻照明均匀性补偿
,尤其涉及一种光强分布的建模方法、装置、电子设备及存储介质。
技术介绍
把越来越多的晶体管电路元件集成在硅片上,一直是国际微电子工业界不懈追求的目标。因此,减小集成电路最小线宽尺寸是提高存储能力的重要手段。在加工制造集成电路的设备很多,光刻机是目前技术最成熟的设备。光刻机的核心部件是投影曝光光学系统,该系统最重要的组成部分是照明系统和投影物镜系统。为掩膜面提供均匀照明是光刻照明系统的主要功能,良好的照明均匀性能降低光刻工艺因子,提高整个光刻系统的分辨率;反之,照明的不均匀性分布会使得硅片面上曝光线条的粗细不均匀,严重影响光刻质量。随着光刻波长的不断缩短,特征尺寸的不断缩小,光刻对照明系统的均匀性要求越来越高,仅使用传统的匀光器件和匀光原理已经达不到或很难达到均匀性要求。此外,照明系统内器件会随着时间不断磨损,降低其匀光性能,引入新的非均匀性。因此,为了满足光刻系统对照明均匀性的要求,补偿系统内不同因素引入的非均匀性,需要在系统中增加照明均匀性补偿装置。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种光强分布的建模方法、装置、电子设备及存储介质,可为光刻照明系统内均匀性补偿装置的设计和仿真提供有效依据。为实现上述目的,本专利技术实施例第一方面提供一种光强分布的建模方法,包括:获取输入参数,所述输入参数包括视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布;根据所述视场面的输入光强分布和所述补偿平面的光瞳能量分布,确定所述补偿平面的光强分布;根据所述补偿平面的光强分布和光瞳能量分布,确定所述视场面的输出光强分布。本专利技术实施例第二方面提供一种光强分布的建模装置,包括:获取模块,用于获取输入参数,所述输入参数包括视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布;第一确定模块,用于根据所述视场面的输入光强分布和所述补偿平面的光瞳能量分布,确定所述补偿平面的光强分布;第二确定模块,用于根据所述补偿平面的光强分布和光瞳能量分布,确定所述视场面的输出光强分布。本专利技术实施例第三方面提供了一种电子设备,包括:存储器,处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序,其特征在于,所述处理器执行所述程序时实现本专利技术实施例第一方面提供的光强分布的建模方法。本专利技术实施例第四方面提供了一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时实现本专利技术实施例第一方面提供的光强分布的建模方法。从上述本专利技术实施例可知,本专利技术提供的光强分布的建模方法、装置、电子设备及存储介质,获取输入参数,输入参数包括视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布,根据视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布,确定补偿平面的光强分布,根据补偿平面的光强分布和光瞳能量分布,确定视场面的输出光强分布,可为光刻照明系统内均匀性补偿装置的设计和仿真提供有效依据。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术一实施例提供的光强分布的建模方法的流程示意图;图2为本专利技术一实施例提供的照明均匀性补偿系统的光路结构示意图;图3为本专利技术另一实施例提供的光强分布的建模装置的结构示意图;图4示出了一种电子设备的硬件结构图。具体实施方式为使得本专利技术的专利技术目的、特征、优点能够更加的明显和易懂,下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而非全部实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1,图1为本专利技术一实施例提供的光强分布的建模方法的流程示意图,该方法可应用于电子设备中,电子设备包括:手机、平板电脑(PortableAndroidDevice,PAD),笔记本电脑以及个人数字助理(PersonalDigitalAssistant,PDA)等,该方法主要包括以下步骤:S101、获取输入参数,该输入参数包括视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布;请参阅图2,图2为本专利技术一实施例提供的照明均匀性补偿系统的光路结构示意图。该照明均匀性补偿光学系统包括视场面10、补偿平面20和补偿平面上的光瞳30。系统光束沿Z轴负向从补偿平面20传播至视场面10,视场面10上一个视场点映射至补偿平面20上的光强分布为该视场点在补偿平面20上的光瞳30,在补偿平面20上放置照明均匀性补偿装置时,系统光束经过该补偿装置后在视场面10上即可得到均匀的照明光强分布。其中,视场面光强分布包括照明系统视场光斑形状大小及光斑内不同位置处的光强信息。补偿平面20的光瞳能量分布为视场面上一个视场点映射至补偿平面20上光强分布,其包括光瞳30的光斑形状大小及光斑内不同位置处的光强信息。S102、根据视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布,确定补偿平面的光强分布;令视场面的输入光强分布为I1,补偿平面的光强分布为I2,视场面的输出光强分布为I1′,光瞳能量分布为P。通过卷积算法,计算得到补偿平面光强分布I2。如图2所示,补偿平面20上的光强分布由视场面10上所有视场点映射至补偿平面20上的光瞳30的光强分布叠加而得到。由于照明系统为远心系统,视场面10附近各视场点的光束其主光线均平行于光轴,因此,视场面10上各视场点对应的光瞳形状、大小,分布完全一致。视场面10上各视场点与其对应光瞳P的相互位置也一致,这个过程在数学上可以用卷积来描述。因此补偿平面20上的光强分布可以通过视场面10上的输入光强分布进行卷积计算得到,即补偿平面20的光强分布I2可以表示为下式:I2=I1*PS103、根据补偿平面的光强分布和光瞳能量分布,确定视场面的输出光强分布。可理解的,步骤S103是步骤S102的逆过程。在本专利技术实施例中,采用傅里叶变换及逆变换的方法来实现卷积的逆运算。具体步骤如下:首先,根据补偿平面20光强分布I2和光瞳30的能量分布P,采用傅里叶变换运算,计算得到其傅里叶频谱分布分别为F{I2}和F{P};然后,根据卷积的傅里叶变换性质:两个函数的卷积,在频域上可以表示为各自傅里叶频谱分布的乘积,其公式如下:因此,将上述计算得到的F{I2}和F{P}相除,即可得到视场面10的光强分布的傅里叶频谱F{I′1},其表达式:F{I′1}=F{I2}/F{P};最后,将上述计算得到的F{I′1}进行逆傅里叶变换运算,得到视场面10的输出光强分布I1′。更多的,为了检验本专利技术实施例中的光强分布的建模方法的准确性,在根据补偿平面20的光强分布和光瞳30的能量分布,确定视场面10的输出光强分布之后,还可根据视场面10的输出光强分布I1′和视场面10的输入光强分布I1,确定照明均匀性补偿系统建模之后的误差,令误差为ΔI,则:ΔI=I′1-I1在本专利技术实施例中,获取输入参数,输入参数包括视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布,根据视场面的输入光强分布和补偿本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光强分布的建模方法,其特征在于,包括:获取输入参数,所述输入参数包括视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布;根据所述视场面的输入光强分布和所述补偿平面的光瞳能量分布,确定所述补偿平面的光强分布;根据所述补偿平面的光强分布和光瞳能量分布,确定所述视场面的输出光强分布。

【技术特征摘要】
1.一种光强分布的建模方法,其特征在于,包括:获取输入参数,所述输入参数包括视场面的输入光强分布和补偿平面的光瞳能量分布;根据所述视场面的输入光强分布和所述补偿平面的光瞳能量分布,确定所述补偿平面的光强分布;根据所述补偿平面的光强分布和光瞳能量分布,确定所述视场面的输出光强分布。2.根据权利要求1所述的建模方法,其特征在于,所述根据所述视场面的输入光强分布和所述补偿平面的光瞳能量分布,确定所述补偿平面的光强分布包括:将所述视场面的输入光强分布和所述补偿平面的光瞳能量分布,通过卷积算法,计算得出所述补偿平面的光强分布。3.根据权利要求1或2所述的建模方法,其特征在于,所述根据所述补偿平面的光强分布和光瞳能量分布,确定所述视场面的输出光强分布包括:令所述视场面的输入光强分布为I1,所述补偿平面的光强分布为I2,所述视场面的输出光强分布为I1′,光瞳能量分布为P,则F{I′1}=F{I2}/F{P};对所述F{I′1}进行傅里叶逆变换,得到所述视场面的输出光强分布为I1′。4.根据权利要求3所述的建模方法,其特征在于,所述根据所述补偿平面的光强分布和光瞳能量分布,确定所述视场面的输出光强分布之后,还包括:根据所述视场面的输出光强分布和所述视场面的输入光强分布,确定照明均匀性补偿系统建模之后的误差。5.一种光强分布的建模装置,其特征在于,包括:获取模块,用于获取输入参数,所述输入参数包括视场面的输入光强分布和补...

【专利技术属性】
技术研发人员:何毅林妩媚廖志杰刘卫静邢廷文
申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
类型:发明
国别省市:四川,51

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