The utility model provides a plasma electrolytic polishing and grinding device, which comprises a covering metal 1, a chute, a spring, a fixing block, a covering metal 2, a splint, a rubber protective pad and a bolt. A sliding groove is arranged inside the covering metal 1, a spring is fixed at the inner end of the sliding groove, and the covering metal 2 is assembled inside the covering metal 1, and extends to the upper end of the covering metal 2, and the inside of the covering metal 2. Fixed block is assembled. Fixed block is connected with spring through cover metal 2 and slide groove. Slide groove and fixed block are connected with spring. This design realizes protection and convenient disassembly function. The outer end of rubber protective pad is fixed with splint. Splint and rubber protective pad are installed inside cover metal 1. Splint and rubber protective pad are installed under cover metal 2. A bolt is assembled at the outer end, and the bolt is connected with the splint through the covering metal. The design realizes the fixed function. The utility model is safe and stable, has the protection function, and is convenient for installation and disassembly.
【技术实现步骤摘要】
一种等离子电解抛光研磨装置
本技术是一种等离子电解抛光研磨装置,属于等离子电解抛光研磨
技术介绍
随着金属模具技术与合成树脂原料技术的发达,金属与合成树脂组合成一体的配件越来越多,对于上述配件抛光方法为多种,例如机械抛光、化学抛光、电解抛光和等离子电解抛光等。等离子电解抛光方式下的产品光泽非常优秀,整体的光泽面非常均匀,又由于此方式的高效率和电解溶液对自然环境的污染非常少,故在多数工厂被广泛的使用,但是等离子电解抛光使用的电压高,且会在金属配件上直接形成等离子,从而容易导致组合为一体的合成树脂部分受到损伤,故需要一种不伤害合成树脂部分的等离子电解抛光装置。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足,本技术目的是提供一种等离子电解抛光研磨装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题,本技术安全稳定,具有保护功能,安装以及拆卸方便。为了实现上述目的,本技术是通过如下的技术方案来实现:一种等离子电解抛光研磨装置,包括配件主体、便拆装组件以及固定组件,所述便拆装组件装配在配件主体上,所述配件主体外端安装有固定组件,所述固定组件设置在便拆装组件内部,且延伸至便拆装组件外端,所述便拆装组件包括遮盖金属一、滑槽、弹簧、固定块以及遮盖金属二,所述遮盖金属一设置在配件主体外端,所述遮盖金属一内部开设有滑槽,所述滑槽内端固定有弹簧,所述遮盖金属二装配在遮盖金属一内部,且延伸至遮盖金属一上端,所述遮盖金属二安装在配件主体上端,所述遮盖金属二内部装配有固定块,所述固定块穿过遮盖金属二以及滑槽与弹簧相连接,所述滑槽与固定块通过弹簧相连接,所述固定组件包括夹板、橡胶保护垫、螺栓以及密封垫圈,所 ...
【技术保护点】
1.一种等离子电解抛光研磨装置,包括配件主体(1)、便拆装组件(2)以及固定组件(3),其特征在于:所述便拆装组件(2)装配在配件主体(1)上,所述配件主体(1)外端安装有固定组件(3),所述固定组件(3)设置在便拆装组件(2)内部,且延伸至便拆装组件(2)外端;所述便拆装组件(2)包括遮盖金属一(21)、滑槽(22)、弹簧(23)、固定块(24)以及遮盖金属二(25),所述遮盖金属一(21)设置在配件主体(1)外端,所述遮盖金属一(21)内部开设有滑槽(22),所述滑槽(22)内端固定有弹簧(23),所述遮盖金属二(25)装配在遮盖金属一(21)内部,且延伸至遮盖金属一(21)上端,所述遮盖金属二(25)安装在配件主体(1)上端,所述遮盖金属二(25)内部装配有固定块(24),所述固定块(24)穿过遮盖金属二(25)以及滑槽(22)与弹簧(23)相连接,所述滑槽(22)与固定块(24)通过弹簧(23)相连接;所述固定组件(3)包括夹板(31)、橡胶保护垫(32)、螺栓(33)以及密封垫圈(34),所述配件主体(1)外端安装有橡胶保护垫(32),所述橡胶保护垫(32)外端固定有夹板(3 ...
【技术特征摘要】
1.一种等离子电解抛光研磨装置,包括配件主体(1)、便拆装组件(2)以及固定组件(3),其特征在于:所述便拆装组件(2)装配在配件主体(1)上,所述配件主体(1)外端安装有固定组件(3),所述固定组件(3)设置在便拆装组件(2)内部,且延伸至便拆装组件(2)外端;所述便拆装组件(2)包括遮盖金属一(21)、滑槽(22)、弹簧(23)、固定块(24)以及遮盖金属二(25),所述遮盖金属一(21)设置在配件主体(1)外端,所述遮盖金属一(21)内部开设有滑槽(22),所述滑槽(22)内端固定有弹簧(23),所述遮盖金属二(25)装配在遮盖金属一(21)内部,且延伸至遮盖金属一(21)上端,所述遮盖金属二(25)安装在配件主体(1)上端,所述遮盖金属二(25)内部装配有固定块(24),所述固定块(24)穿过遮盖金属二(25)以及滑槽(22)与弹簧(23)相连接,所述滑槽(22)与固定块(24)通过弹簧(23)相连接;所述固定组件(3)包括夹板(31)、橡胶保护垫(32)、螺栓(33)以及密封垫圈(34),所述配件主体(1)外端安装有橡胶保护垫(32),所述橡胶保护垫(32)外端固定有夹板(31),所述夹板(31)以及橡胶保护垫(32)均安装在遮盖金属一(21)内部,所述夹板(31)以及橡胶保护垫(32)均安装在遮盖金属二(25)下侧,所述遮盖金属一(21)外端装配有螺栓(33),所述螺栓(33)穿过遮盖金属一(21)与夹板(31)相连接,所述螺栓(33)上设置有密封垫圈(34),所述密封垫圈(34)安装在遮盖金属一(21)外端。2.根据...
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