阵列基板及液晶显示面板制造技术

技术编号:20913676 阅读:21 留言:0更新日期:2019-04-20 09:09
本发明专利技术提供一种阵列基板及液晶显示面板,其优点在于,第一阻流槽及第二阻流槽形成双重防线,起到阻挡配向膜层的材料蔓延的作用,且所述第一阻流槽及所述第二阻流槽为浅槽,后续沉积的膜层不会在所述第一阻流槽及所述第二阻流槽处残留,不会影响后续膜层的沉积,不会造成阵列基板性能不良。

Array Substrate and LCD Panel

The present invention provides an array substrate and a liquid crystal display panel. The advantages of the present invention are that the first and second flow-blocking grooves form a double line of defense to prevent the material spreading to the film layer, and the first flow-blocking groove and the second flow-blocking groove are shallow grooves. The subsequent deposited film layer will not remain at the first flow-blocking groove and the second flow-blocking groove, and will not affect the subsequent film. Deposition of the layer will not result in poor performance of the array substrate.

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及液晶显示面板
本专利技术涉及显示装置领域,尤其涉及一种阵列基板及液晶显示面板。
技术介绍
液晶显示装置(LCD,LiquidCrystalDisplay)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用。其中,液晶显示装置由液晶显示面板及设置在液晶显示面板背面的背光模组组成。所述液晶显示面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子,通过玻璃基板通电与否来控制液晶分子改变方向,将背光模组的光线折射出来产生画面。通常液晶显示面板由彩膜基板(CF,ColorFilter)、薄膜晶体管基板(TFT,ThinFilmTransistor)、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LC,LiquidCrystal)及密封胶框(Sealant)组成。通常,薄膜晶体管基板及彩膜基板上分别具有一层配向膜层,该配向膜层与液晶接触后,能够使得液晶产生一定方向的预倾角,从而给液晶分子提供一个承载的角度,配向膜层的材料通常选用聚酰亚胺(Polyimide,PI)材料,由PI液涂布于基板上所形成。随着时代进步,LCD技术发展也越来越快,高PPI、窄边框产品越来越受到追捧,因此窄边框技术被越来越广泛应用到手机面板。对于窄边框产品而言,例如,0.7窄边框产品,如何提高其抗湿性及黏附性是很大的难题。其中配向膜层与密封胶框的重合面积是影响抗湿性及黏附性的关键因素。图1是现有的一种液晶显示面板边框处的结构示意图。请参阅图1,该液晶显示面板的边框宽度为0.7mm,所述液晶显示面板包括彩膜基板10及与所述彩膜基板10相对设置的薄膜晶体管基板11。在显示区A,在所述彩膜基板10与薄膜晶体管基板11之间夹设有液晶(附图中未绘示),在边框区B,所述彩膜基板10与所述薄膜晶体管基板11通过一密封胶框13连接。在所述彩膜基板10及所述薄膜晶体管基板11上分别设置有一配向膜层15,所述配向膜层15自所述显示区A延伸至边框区B,且所述配向膜层15与所述密封胶框13部分重叠。所述液晶显示面板的抗湿性及黏附性就取决于所述配向膜层15与所述密封胶框13重叠的面积。通常,配向膜层15由PI液涂布形成,而PI液具有流动性。在所述薄膜晶体管基板11上,通常通过在所述薄膜晶体管基板11的平坦层(PLN)110上形成一道沟槽111,以阻挡PI液越过沟槽,提高了PI印刷精度,但此技术的缺陷在于所述平坦层110厚度较厚,使得所述沟槽111的深度较深,则在所述沟槽111处形成的坡度角(Taper)较大,易导致上层膜层在所述沟槽111处残留,造成液晶显示面板性能不良。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是,提供一种阵列基板及液晶显示面板,其能够阻挡配向膜层的材料蔓延,且不会影响后续膜层的沉积,从而改善阵列基板性能。为了解决上述问题,本专利技术提供了一种阵列基板,所述阵列基板包括一显示区及设置在所述显示区至少一侧的一边框区,所述阵列基板的表面具有一平坦层,所述平坦层自所述显示区延伸至所述边框区,在所述边框区,沿远离所述显示区的方向,所述平坦层至少具有一第一阻流槽及一第二阻流槽,所述第一阻流槽及所述第二阻流槽的深度均小于所述平坦层的厚度,在所述平坦层上设置有一配向膜层,所述配向膜层自所述显示区延伸至所述边框区,但未超过所述第二阻流槽。在一实施例中,所述第一阻流槽的深度与所述第二阻流槽的深度不相等。在一实施例中,在所述边框区,在所述平坦层上方设置有一密封胶框,所述密封胶框与所述配向膜层部分重叠。在一实施例中,所述第二阻流槽位于所述密封胶框的正投影区域内。在一实施例中,所述第一阻流槽位于所述密封胶框的正投影区域外。在一实施例中,所述阵列基板还包括一电路层,所述电路层设置在所述平坦层之下,所述第一阻流槽位于所述电路层上方。本专利技术还提供一种液晶显示面板,包括一如上述的阵列基板及一与所述阵列基板对置的彩膜基板,在所述显示区,在所述彩膜基板与所述阵列基板之间夹设有液晶,在所述边框区,所述彩膜基板与所述阵列基板通过一密封胶框连接。在一实施例中,所述第一阻流槽的深度与所述第二阻流槽的深度相等。在一实施例中,在所述边框区,所述密封胶框与所述配向膜层部分重叠。在一实施例中,所述第二阻流槽位于所述密封胶框的正投影区域内。在一实施例中,所述第一阻流槽位于所述密封胶框的正投影区域外。在一实施例中,在所述彩膜基板朝向所述阵列基板的表面设置有一配向膜层,所述配向膜层自所述显示区延伸至所述边框区。在一实施例中,所述阵列基板还包括一电路层,所述电路层设置在所述平坦层之下,且所述第一阻流槽位于所述电路层上方。本专利技术的优点在于,第一阻流槽及所述第二阻流槽形成双重防线,起到阻挡配向膜层的材料蔓延的作用,且第一阻流槽及所述第二阻流槽为浅槽,使得在所述第一阻流槽及所述第二阻流槽处平坦层的坡度角小,进而后续沉积的膜层不会在所述第一阻流槽及所述第二阻流槽处残留,不会影响后续膜层的沉积,从而改善阵列基板性能。附图说明图1是现有的一种液晶显示面板边框处的结构示意图;图2是本专利技术阵列基板的结构示意图;图3是本专利技术液晶显示面板的结构示意图。具体实施方式下面结合附图对本专利技术提供的阵列基板及液晶显示面板的具体实施方式做详细说明。图2是本专利技术阵列基板的侧面结构示意图,请参阅2,本专利技术阵列基板20划分为一显示区A及设置在所述显示区A至少一侧的一边框区B。在本实施例中,所述边框区B包围所述显示区A,在本专利技术其他实施例中,所述边框区B也可以仅设置在所述显示区A的一侧、两侧或者三侧。其中,图2仅示意性地绘示部分所述显示区A及部分所述边框区B。所述阵列基板20的表面具有一平坦层21,所述平坦层21自所述显示区A延伸至所述边框区B。在所述边框区B,沿远离所述显示区A的方向,例如,沿如图2所示的X方向,所述平坦层21至少具有一第一阻流槽211及一第二阻流槽212。具体地说,所述第一阻流槽211靠近所述显示区A设置,所述第二阻流槽212远离所述显示区A设置。形成所述第一阻流槽211及所述第二阻流槽212的方法包括但不限于,在平坦层21涂布后,通过一半色调(halftone)掩膜版对所述平坦层21进行图案化,以在所述边框区B形成所述第一阻流槽211及所述第二阻流槽212。其中,所述第一阻流槽211及所述第二阻流槽212的深度均小于所述平坦层21的厚度。也就是说,所述第一阻流槽211及所述第二阻流槽212并未贯穿所述平坦层21,则所述第一阻流槽211及所述第二阻流槽212并不会接触或破坏所述平坦层21下方的膜层。在本实施例中,所述第一阻流槽211的深度与所述第二阻流槽212的深度不相等。由于所述第一阻流槽211及所述第二阻流槽212并未贯穿所述平坦层21,则并不会存在所述第一阻流槽211及所述第二阻流槽212与位于平坦层21下方的膜层接触的情况,因此,可在所述边框区B的任意位置挖槽,提高了设计的自由度。具体地说,所述阵列基板1还包括一电路层24,所述电路层24包括但不限于GOA电路层。所述电路层24设置在所述平坦层21之下。所述第一阻流槽211位于所述电路层24上方,所述第二阻流槽212可以位于所述电路层24的上方,也可以位于所述电路层24的一侧。在本实施例中,所述第一阻流槽211位于所述电路层24上方,所述第二阻流槽212位于所述电路本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括显示区及设置在所述显示区至少一侧的一边框区,所述阵列基板的表面具有一平坦层,所述平坦层自所述显示区延伸至所述边框区,在所述边框区,沿远离所述显示区的方向,所述平坦层至少具有一第一阻流槽及一第二阻流槽,所述第一阻流槽及所述第二阻流槽的深度均小于所述平坦层的厚度,在所述平坦层上设置有一配向膜层,所述配向膜层自所述显示区延伸至所述边框区,但未超过所述第二阻流槽。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括显示区及设置在所述显示区至少一侧的一边框区,所述阵列基板的表面具有一平坦层,所述平坦层自所述显示区延伸至所述边框区,在所述边框区,沿远离所述显示区的方向,所述平坦层至少具有一第一阻流槽及一第二阻流槽,所述第一阻流槽及所述第二阻流槽的深度均小于所述平坦层的厚度,在所述平坦层上设置有一配向膜层,所述配向膜层自所述显示区延伸至所述边框区,但未超过所述第二阻流槽。2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一阻流槽的深度与所述第二阻流槽的深度不相等。3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,在所述边框区,在所述平坦层上方设置有一密封胶框,所述密封胶框与所述配向膜层部分重叠。4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述第二阻流槽位于所述密封胶框的正投影区域内。5.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述第一阻流槽位于所述密封胶框的正投影区域外。6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括一电路层,所述电路层设置在所述平坦层之下,所述第一阻流槽位于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵朝军艾飞龙时宇
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:湖北,42

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