投影装置及其光源和设备制造方法及图纸

本申请公开了一种投影装置，包括半导体基板；光源，所述光源包括多个设置在所述半导体基板上的用于发射光束的发光单元，所述多个发光单元形成的点阵集合相关性系数大于或等于0.3且小于1，且所述点阵集合可划分为多个点阵子集，至少一个所述点阵子集的相关性系数小于0.2；光学组件，用于将所述发光单元发射的光束复制成多个光束。本申请还公开了一种光源和设备。本申请投影装置及其光源和设备具有较好的用户体验。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】投影装置及其光源和设备
本申请涉及光学领域，尤其涉及一种投影装置及其光源和设备。
技术介绍
随着技术进步和人们生活水平提高，包括手机，平板电脑等在内的电子设备具有更多的新功能，例如：面部识别解锁，籍此获得更好的用户体验。为了实现上述功能，设备需要能够获取对象的二维或三维信息以实现对象特征识别。申请内容本申请的目的是提供一种可用于对象特征识别的投影装置及其光源和设备。本申请的一个方面提供了一种投影装置，包括半导体基板；光源，所述光源包括多个设置在所述半导体基板上的用于发射光束的发光单元，所述多个发光单元形成的点阵集合相关性系数大于或等于0.3且小于1，且所述点阵集合可划分为多个点阵子集，至少一个所述点阵子集的相关性系数小于0.2；光学组件，用于将所述发光单元发射的光束复制成多个光束。可选的，每一点阵子集对应的发光单元个数不小于9个，或者每一点阵子集对应的发光单元个数占所述发光单元全部数量比例不小于10％。可选的，所述点阵子集之间相关性系数大于0.3，其中，所述点阵子集之间的相关性评价包括将所述点阵子集平移，或旋转，或镜像之后与其他点阵子集进行相关性系数计算，或将所述点阵子集与其他点阵子集平移，或旋转，或镜像之后得到的点阵子集进行相关性系数计算。可选的，所述多个发光单元共用一个半导体基板，或者所述多个发光单元设置在多个半导体基板上。可选的，所述发光单元包括VCSEL，或LED，或LD中的一种或几种。可选的，所述光学组件包括衍射光学元件和/或透镜，所述透镜为准直透镜。可选的，所述投影装置还包括驱动电路，所述驱动电路提供所述发光单元所需工作电流。本申请的一个方面还提供一种光源，包括多个设置在半导体基板上的用于发射光束的发光单元，所述发光单元形成的点阵集合可划分为多个点阵子集，所诉点阵子集合间的相关性系数大于或等于0.3且小于1，且每一点阵子集对应的发光单元个数不小于9个或者每一点阵子集对应的发光单元个数占所述发光单元全部数量比例不小于10％，至少一个所述点阵子集的相关性系数小于0.2。本申请的一个方面还提供了一种设备，所述设备包括投影装置和接收装置，所述投影装置投影具有斑点图案的光束到外部对象上，外部对象反射的至少部分光束并被所述接收装置接收，所述投影装置包括多个发光单元，所述多个发光单元对应的二维图案具有相关性，且所述二维图案可划分为多个具有相关性的子二维图案，所述子二维图案对应不少于9个发光单元，至少一个所述子二维图案不具有相关性，所述投影装置能够投影具有多个对应所述发光单元的二维图案的斑点图案的光束到外部对象上，外部对象反射的至少部分光束被所述接收装置接收。本申请的一个方面还提供一种投影装置，包括基板；光源，所述光源包括多个设置在所述基板上的用于发射光束的发光单元，所述多个发光单元形成的点阵集合的相关性系数大于或等于0.3，至少部分所述发光单元形成的点阵子集的相关性系数小于0.2；光学组件，用于将所述发光元件发射的光束复制成多个光束。可选的，所述基板为半导体基板，所述多个发光单元共用一个半导体基板或分布在多个半导体基板上。可选的，所述点阵子集对应的发光单元数量不小于所述发光单元全部数量的10％，或者所述点阵子集对应的发光单元数量不小于9个；所述点阵集合对应的发光单元全部数量不小于50个。可选的，所述点阵集合或点阵子集的相关性在二维平面坐标系中计算，所述坐标系为极坐标系或直角坐标系。可选的，所述投影装置还包括驱动电路，所述驱动电路提供所述发光单元所需工作电流。可选的，所述发光元件包括VCSEL，或LED，或LD中的一种或几种。可选的，所述光学组件包括衍射光学元件和/或透镜。可选的，所述点阵集合中存在点阵子集与所述点阵集合相关性系数大于或等于0.3，所述点阵集合中不存在点阵子集的相关性系数为1。可选的，所述基板为半导体基板，玻璃基板，金属基板中的一种。本申请的一个方面还提供一种光源，包括多个设置在所述半导体基板上的用于发射光束的发光单元，所述多个发光单元形成的点阵集合的相关性系数大于或等于0.3，至少部分所述发光单元形成的点阵子集的相关性系数小于0.2。本申请的一个方面还提供一种设备，，所述设备包括投影装置和接收装置，所述投影装置投影具有斑点图案的光束到外部对象上，外部对象反射的至少部分光束并被所述接收装置接收，所述投影装置包括多个发光单元，所述多个发光单元对应的二维图案具有相关性，且所述二维图案可划分为多个具有相关性的子二维图案，所述子二维图案对应不少于9个发光单元，至少一个所述子二维图案不具有相关性，所述投影装置能够投影具有多个对应所述发光单元的二维图案的斑点图案的光束到外部对象上，外部对象反射的至少部分光束被所述接收装置接收。可选的，所述设备还包括处理器，所述处理器可以根据接收装置接收到的光束获取对象的二维信息和/或深度信息。本专利技术的一个方面还提供一种投影装置，包括基板；光源，所述光源包括多个设置在所述基板上的用于发射光束的发光单元，所述多个发光单元形成的点阵集合的相关性系数大于或等于0.3且小于0.6，至少部分所述发光单元形成的点阵子集的相关性系数小于0.2；光学组件，用于将所述发光元件发射的光束复制成多个光束。本专利技术的一个方面还提供一种投影装置，包括基板；光源，所述光源包括多个设置在所述基板上的用于发射光束的发光单元，所述多个发光单元形成的点阵集合的相关性系数大于或等于0.3且小于0.5，至少部分所述发光单元形成的点阵子集的相关性系数小于0.2；光学组件，用于将所述发光元件发射的光束复制成多个光束。本专利技术的一个方面还提供一种投影装置，包括基板；光源，所述光源包括多个设置在所述基板上的用于发射光束的发光单元，所述多个发光单元形成的点阵集合的相关性系数大于或等于0.3且小于0.4，至少部分所述发光单元形成的点阵子集的相关性系数小于0.2；光学组件，用于将所述发光元件发射的光束复制成多个光束。相较于现有技术，本申请投影装置及其光源和设备能够用于对象特征识别，具有较好的用户体验。附图说明图1是本申请投影装置的一个实施例的示意图；图2是本申请投影装置的一个实施例的示意图；图3是本申请相关性系数一个示意性说明的示意图；图4是本申请投影装置的一个实施例的示意图；图5是本申请投影装置的一个实施例的示意图；图6是本申请投影装置的一个实施例的示意图；图7是本申请投影装置的一个实施例的示意图；图8是本申请相关性系数的一个示意性说明的示意图；图9是本申请相关性系数的一个示意性说明的示意图；图10是本申请投影装置的一个实施例的示意图；图11是是图10的投影装置投影形成的斑点图案示意图；图12是本申请设备的一个实施例的示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。请参阅图1，本申请的一个方面公开一种投影装置，投影装置10包括光源20和光学组件30。所述光源20发射光束到所述光学组件30，所述光束经所述光学组件30优化处理后可照射到外部对象上，例如照射到人脸上。本实施例中，所述光束本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种投影装置，包括：半导体基板；光源，所述光源包括多个设置在所述半导体基板上的用于发射光束的发光单元，所述多个发光单元对应的点阵集合可划分为多个点阵子集，所述点阵子集合间的相关性系数大于或等于0.3且小于1，且至少一个所述点阵子集的相关性系数小于0.2；光学组件，用于将所述发光单元发射的光束复制成多个光束。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种投影装置，包括：半导体基板；光源，所述光源包括多个设置在所述半导体基板上的用于发射光束的发光单元，所述多个发光单元对应的点阵集合可划分为多个点阵子集，所述点阵子集合间的相关性系数大于或等于0.3且小于1，且至少一个所述点阵子集的相关性系数小于0.2；光学组件，用于将所述发光单元发射的光束复制成多个光束。2.根据权利要求1所述的投影装置，其特征在于，每一点阵子集对应的发光单元个数不小于9个或者每一点阵子集对应的发光单元个数占所述发光单元全部数量比例不小于10％。3.根据权利要求1所述的投影装置，其特征在于，所述点阵子集之间的相关性评价包括将所述点阵子集通过平移、对称、旋转中的一种或几种变换之后与其他点阵子集的进行相关性系数计算,或将所述点阵子集与其他点阵子集通过平移、对称、旋转中的一种或几种变换之后得到的点阵子集进行相关性系数计算。4.根据权利要求1所述的投影装置，其特征在于，所述多个发光单元共用一个半导体基板，或者所述多个发光单元设置在多个半导体基板上。5.根据权利要求1所述的投影装置，其特征在于，所述发光单元包括VCSEL，或LED，或LD中的一种或几种。6.根据权利要求1所述的投影装置，其特征在于，所述光学组件包括衍射光学元件和/或透镜，所述透镜为准直透镜。7.根据权利要求1所述的投影装置，其特征在于，所述投影装置还包括驱动电路，所述驱动电路提供所述发光单元所需工作电流。8.一种光源，包括多个设置在半导体基板上的用于发射光束的发光单元，所述发光单元形成的点阵集合可划分为多个点阵子集，所诉点阵子集合间的相关性系数大于或等于0.3且小于1，且每一点阵子集对应的发光单元个数不小于9个或者每一点阵子集对应的发光单元个数占所述发光单元全部数量比例不小于10％，至少一个所述点阵子集的相关性系数小于0.2。9.一种设备，所述设备包括投影装置和接收装置，所述投影装置投影具有斑点图案的光束到外部对象上，外部对象反射的至少部分光束并被所述接收装置接收，所述投影装置包括多个发光元件，所述多个发光元件对应的二维图案具有相关性，且所述二维图案可划分出至少一个不具有相关性的子二维图案，所述子二维图案对应不少于9个发光单元，所述投影装置能够投影具有多个对应所述发光元件的二维图案的斑点图案的光束到外部对象上，外部对象反射的至少部分光束被所述接收装置接收。10.一种投影装置，包括：基板；光源，所述光源包括多个设置在所述基板上的用于发射光束的发光单元，所述多个发光单元形成的点阵集合的相关性系数大于或等于0.3，至少部分所述发光单元形成的点阵子集的相关性系数小于0.2；光学组件，用于将所述发光元件发射的光束复制成多个光束。11.根据权利要求10所述的投影装置，其特征在于，所述基板为半导体基板，所述多个发光单元共用一个半导体基板或分布在多个半导体基板上。12.根据权利要求10所述的投影装置，其特征在于，所述点阵子集对应的发光单元数量不小于所述发光单元全部...

【专利技术属性】
技术研发人员：田浦延，
申请(专利权)人：深圳阜时科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44