本发明专利技术以不使装置大型化而对试样高效地进行照明从而通过偏射照明对试样立体且高精细地进行观察为目的，本发明专利技术的观察装置(1)具有：光源部(5)，其从载置于容器(2)的底面(2b)的试样(X)的下方朝向上方射出照明光；以及摄影光学系统(6)，其在试样(X)的下方，拍摄来自光源部(5)的照明光在试样(X)的上方被反射而透过试样(X)的透过光，光源部(5)具有：产生照明光的LED光源(7)；会聚透镜(8)，其与容器(2)的底面(2b)平行地配置，会聚来自LED光源(7)的照明光；以及扩散板(9)，其与底面(2b)平行地配置在会聚透镜(8)与容器(2)的底面(2b)之间，并使由会聚透镜(8)会聚的照明光扩散，LED光源(7)被配置为，光轴相比会聚透镜(8)的光轴向离开所述摄影光学系统(6)的方向偏移。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】观察装置
本专利技术涉及观察装置。
技术介绍
以往，作为观察细胞等被摄体而不进行标记的装置，公知有使用相位差观察法和微分干涉观察法的观察装置(例如参照专利文献1。)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平7-261089号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，专利文献1的观察装置需要隔着被摄体来配置摄影光学系统和照明光学系统，存在装置大型化、复杂化这样的不良情况。本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供不会使装置大型化而能够对细胞等试样高效地进行照明从而通过偏射照明对试样立体且高精细地进行观察的观察装置。用于解决课题的手段为了实现上述目的，本专利技术提供以下手段。本专利技术的一个方式是一种观察装置，其具有：光源部，其从载置于试样载置面的试样的下方朝向上方射出照明光；以及摄影光学系统，其在所述试样的下方，拍摄从该光源部射出的照明光在所述试样的上方被反射而透过所述试样的透过光，所述光源部具有：产生所述照明光的光源；会聚透镜，该会聚透镜与所述试样载置面平行地配置，并使从所述光源发出的所述照明光会聚；扩散板，其与该试样载置面平行地配置在该会聚透镜与所述试样载置面之间，并使由所述会聚透镜会聚的所述照明光扩散，所述光源被配置为，光轴相比所述会聚透镜的光轴向离开所述摄影光学系统的方向偏移。根据本方式，通过将光源被配置为，光轴相比会聚透镜的光轴向离开摄影光学系统的方向偏移，由此，从光源发出的照明光在经由会聚透镜而由扩散板均匀地扩散并在试样的上方被反射之后，透过试样而带角度地入射到摄影光学系统。因此，能够以可立体地观察到试样的偏射照明的角度高效地进行照明。此外，分别各配置1片会聚透镜和扩散板即可，能够抑制产生光量的不均。并且，通过相互平行地配置试样载置面、会聚透镜和扩散板，能够减薄装置的厚度。由此，不使装置大型化而能够对试样高效地进行照明，从而通过偏射照明对试样立体且高精细地进行观察。在上述方式中，也可以是，所述光源被配置成，所述光源的所述光轴向所述摄影光学系统侧倾斜。通过这样地构成，照明光从光源向摄影光学系统侧的射出变得更强，能够抑制照明光的损失，从而提高照明效率。在上述方式中，也可以是，所述会聚透镜为菲涅耳透镜。通过采用菲涅耳透镜作为会聚透镜，能够减薄光源部整体的厚度。在上述方式中，也可以是，所述扩散板与所述菲涅耳透镜形成为一体。通过这样地构成，能够将光源部整体的厚度减薄使得扩散板与菲涅耳透镜在光轴方向上不分开的量。在上述方式中，也可以是，从所述扩散板射出的所述照明光的角度分布满足以下的条件。θmin/NA<0.5θmax/NA>2.0其中，NA是物镜光学系统的数值孔径，θmin是由所述扩散板扩散后的照明光中强度为峰值强度的一半以上的照明光相对于所述物镜光学系统的光轴的角度的最小值，θmax是由所述扩散板扩散后的照明光中强度为峰值强度的一半以上的照明光相对于所述物镜光学系统的光轴的角度的最大值。通过这样地构成，能够以适合摄影光学系统的偏射照明的角度高效地射出照明光，从而能够难以产生照明不均。在上述方式中，也可以是，在设以所述会聚透镜的光轴为基准的所述光源的发光区域的中心位置为ΔY、物镜光学系统的数值孔径为NA、所述会聚透镜的焦距为FI的情况下，满足以下的条件。0.5<ΔY/(NA×FI)<1.5通过这样地构成，能够以适合摄影光学系统的偏射照明的角度高效地射出照明光，从而能够难以产生照明不均。在上述方式中，也可以是，所述光源为LED。通过这样地构成，能够对光源进行点亮控制。用于解决课题的手段专利技术效果根据本专利技术，发挥不使装置大型化而能够对细胞等试样高效地进行照明从而通过偏射照明对试样立体且高精细地进行观察的效果。附图说明图1是示出本专利技术第1实施方式的观察装置的纵剖视图。图2是图1的物镜光学系统中的照明光在每个通过位置上的轨迹的一例的图。图3是示出通过偏射照明立体地观察到的试样的一例的图。图4是示出本专利技术第2实施方式的观察装置的纵剖视图。图5是在沿着会聚透镜的光轴的方向上观察到的内缘部的形状为长方形的照明掩膜的俯视图。图6A是示出容器的顶板的高度较高的情况下的物镜光学系统的光瞳面上的照明光的光束的一例的图。图6B是示出容器的顶板的高度较低的情况下的物镜光学系统的光瞳面上的照明光的光束的一例的图。图7是在沿着会聚透镜的光轴的方向上观察到的内缘部的形状为梯形的照明掩膜的俯视图。图8是示出照明掩膜的内缘部的形状是物镜光学系统侧作为短边的梯形的情况下的物镜光学系统的光瞳面上的照明光的光束的图。图9是示出从图4的观察装置的扩散板射出的照明光的扩散分布的一例的图。图10是示出由扩散板扩散的照明光中强度为峰值强度的一半以上的照明光的强度与相对于物镜光学系统的光轴的角度之间的关系的曲线图。图11是示出从扩散板发散地射出照明光的情形的图。图12是示出从扩散板平行地射出照明光的情形的图。图13是示出从扩散板收敛地射出照明光的情形的图。图14是示出本专利技术第2实施方式的第1变形例的观察装置的LED光源在水平方向上移动的情形的图。图15是示出本专利技术第2实施方式的第2变形例的观察装置的LED光源改变倾斜角的情形的图。图16是示出扩散板上的光强度的分布与照明光的强度的关系的曲线图。图17是示出物镜光学系统的光瞳面上的照明光的光束的一例的图。图18是示出本专利技术第3实施方式的观察装置的纵剖视图。图19是图18的观察装置的菲涅耳透镜周边的放大图。具体实施方式〔第1实施方式〕下面，参照附图对本专利技术的第1实施方式的观察装置1进行说明。如图1所示，本实施方式的观察装置1具有：工作台3，其载置收纳有试样X的容器2；摄影光学系统6，其具有配置在工作台3的下方并使从上方透过工作台3而来的光会聚的物镜光学系统4，对透过试样X并由物镜光学系统4会聚的光进行拍摄；以及光源部5，其配置在物镜光学系统4的径向外方，透过工作台3而向上方射出照明光。在工作台3上设置有以覆盖物镜光学系统4和光源部5的上方的方式水平地配置的光学上透明的材质、例如玻璃板3a。容器2例如是具有对光进行反射的顶板2a和载置试样X的底面(试样载置面)2b的细胞培养烧瓶，容器2整体由光学上透明的树脂构成。该容器2的顶板2a与底面2b相互平行，在载置于工作台3的玻璃板3a上的状态下，水平地配置这些顶板2a和底面2b。光源部5具有：产生照明光的LED光源7；会聚透镜8，其使从LED光源7发出的照明光会聚；以及扩散板9，其使由会聚透镜8会聚的照明光扩散。这些会聚透镜8和扩散板9在沿着光轴的方向上隔开间隔，分别与容器2的底面2b平行地配置。LED光源7被配置为，光轴与会聚透镜8的光轴平行，且LED光源7的光轴相比会聚透镜8的光轴向离开物镜光学系统4的方向偏移。由此，从LED光源7入射到会聚透镜8的照明光由会聚透镜8向物镜光学系统4侧倾斜地射出。LED光源7的位置例如优选配置成满足条件式(1)。0.5<ΔY/(NA×FI)<1.5……(1)并且，LED光源7的位置更优选满足条件式(1′)。ΔY＝NA×FI……(1′)其中，ΔY是以会聚透镜8的光轴为基准的LED光源7的发光区域的中心位置，NA是物镜光学系统4的数值孔径，FI是会聚透镜8的焦距。从扩散板9射出的照明光具有角度分布本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种观察装置，其具有：光源部，其从载置于试样载置面的试样的下方朝向上方射出照明光；以及摄影光学系统，其在所述试样的下方，拍摄从该光源部射出的照明光在所述试样的上方被反射而透过所述试样的透过光，所述光源部具有：产生所述照明光的光源；会聚透镜，该会聚透镜与所述试样载置面平行地配置，并使从所述光源发出的所述照明光会聚；以及扩散板，其与该试样载置面平行地配置在该会聚透镜与所述试样载置面之间，并使由所述会聚透镜会聚的所述照明光扩散，所述光源被配置为，光轴相比所述会聚透镜的光轴向离开所述摄影光学系统的方向偏移。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种观察装置，其具有：光源部，其从载置于试样载置面的试样的下方朝向上方射出照明光；以及摄影光学系统，其在所述试样的下方，拍摄从该光源部射出的照明光在所述试样的上方被反射而透过所述试样的透过光，所述光源部具有：产生所述照明光的光源；会聚透镜，该会聚透镜与所述试样载置面平行地配置，并使从所述光源发出的所述照明光会聚；以及扩散板，其与该试样载置面平行地配置在该会聚透镜与所述试样载置面之间，并使由所述会聚透镜会聚的所述照明光扩散，所述光源被配置为，光轴相比所述会聚透镜的光轴向离开所述摄影光学系统的方向偏移。2.根据权利要求1所述的观察装置，其中，所述光源被配置成，所述光源的所述光轴向所述摄影光学系统侧倾斜。3.根据权利要求1或2所述的观察装置，其中，所述会聚透镜为菲涅耳透镜。4.根据权利要求3所述的观察装置，其中，所述扩散板与所述菲涅耳透镜形成...
【专利技术属性】
技术研发人员：平田唯史，
申请(专利权)人：奥林巴斯株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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