本发明专利技术的课题在于提供一种可以高水平兼顾以往的光学滤波器中无法充分实现的照相机图像的颜色阴影抑制与重影抑制的光学滤波器。本发明专利技术的光学滤波器的特征在于：具有满足必要条件(a)～(c)的基材：(a)具有包含在波长650nm以上且760nm以下的区域具有最大吸收的化合物(A)的层；(b)在波长640nm以上的区域中透过率成为10％的最短波长(X1)与第二短波长(X2)的差(X2‑X1)为50nm以上；(c)波长900nm、1000nm及1100nm中的透过率均为65％以下。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学滤波器及使用光学滤波器的装置
本专利技术涉及一种光学滤波器及使用光学滤波器的装置。详细而言，本专利技术涉及一种包含在特定的波长区域中具有吸收的化合物的光学滤波器、以及使用所述光学滤波器的固体摄像装置及照相机模块。
技术介绍
在摄像机、数字静态照相机、带有照相机功能的移动电话等固体摄像装置中，使用作为彩色图像的固体摄像元件的电荷耦合元件(chargecoupleddevice，CCD)或互补金属氧化物半导体(complementarymetaloxidesemiconductor，CMOS)图像传感器，这些固体摄像元件在其光接收部中使用对于人眼无法察觉的近红外线具有灵敏度的硅光二极管(siliconphotodiode)。在这些固体摄像元件中，大多使用必须进行以人眼来看呈现自然的色泽的能见度修正，且选择性地透过或截止特定的波长区域的光线的光学滤波器(例如近红外线截止滤波器)。作为此种近红外线截止滤波器，自以往以来使用利用各种方法所制造者。例如，已知有一种将透明树脂用作基材，并使透明树脂中含有近红外线吸收色素的近红外线截止滤波器(例如参照专利文献1)。然而，专利文献1中所记载的近红外线截止滤波器存在近红外线吸收特性未必充分的情况。本专利技术人进行努力研究的结果，发现通过使用含有在特定的波长区域中具有最大吸收的近红外线吸收色素的透明树脂制基板，即便使入射角度变化，也可获得光学特性的变化少的近红外线截止滤波器，并在专利文献2中提出一种兼具广视角及高可见光透过率的近红外线截止滤波器。另外，在专利文献3中记载有以下内容：通过使用具有特定的结构的酞菁系色素，可获得作为以往的课题的以高水平兼顾优异的可见透过率与最大吸收波长的长波长化的近红外线截止滤波器。但是，在专利文献2及专利文献3中记载的近红外线截止滤波器中，所应用的基材虽在700nm附近具有充分强度的吸收带，但例如在900nm～1200nm等近红外波长区域几乎不具有吸收。因此，近红外波长区域的光线几乎仅通过介电体多层膜的反射而截止，关于此种构成，存在由光学滤波器中的内部反射或光学滤波器与透镜间的反射而引起的稍微的杂散光于在暗环境下进行拍摄时导致重影或光斑的情况。特别是近年来即便为智能手机等移动机器也强烈要求照相机的高画质化，存在无法优选地用于以往的光学滤波器中的情况。另一方面，作为使用在近红外波长区域具有宽广的吸收的基材的光学滤波器，提出如专利文献4的红外线遮蔽滤波器。在专利文献4中，通过应用主要具有硫醇烯结构的化合物来达成近红外波长区域的宽广的吸收，但700nm附近的吸收强度并不充分。特别是在伴随近年来的照相机模块低背化的高入射角条件(例如45度入射)下使用时，存在产生由颜色阴影引起的图像劣化的情况。另外，在专利文献5中公开一种具有近红外线吸收玻璃基材与含有近红外线吸收色素的层的近红外线截止滤波器，在专利文献5中记载的构成中也存在无法对颜色阴影进行充分改良的情况(例如，专利文献5的图5中示出0度入射时与30度入射时的光学特性图表，在30度入射时在可见光透过带的边缘部分的区域(630nm～700nm)也观测到大的波长偏移)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利特开平6-200113号公报专利文献2：日本专利特开2011-100084号公报专利文献3：国际公开2015/025779号手册专利文献4：国际公开2014/168190号手册专利文献5：国际公开2014/030628号手册
技术实现思路
专利技术所要解决的问题本专利技术的课题在于提供一种可以高水平兼顾以往的光学滤波器中无法充分实现的照相机图像的颜色阴影抑制与重影抑制的光学滤波器。解决问题的技术手段本专利技术人等人为了解决所述课题而进行了努力研究，结果发现，通过应用在波长700nm附近具有充分强度的吸收带、且在900nm以上的近红外波长区域具有宽广的吸收带的基材，可获得可达成作为目标的近红外线截止特性、可见光透过率、颜色阴影抑制效果及重影抑制效果的光学滤波器，从而完成了本专利技术。以下示出本专利技术的实施方式的例子。[1]一种光学滤波器，其特征在于：具有满足下述必要条件(a)、(b)及(c)的基材，且满足下述必要条件(d)及(e)：(a)具有包含在波长650nm以上且760nm以下的区域具有最大吸收的化合物(A)的层；(b)在波长640nm以上的区域中透过率成为10％的最短波长(X1)与第二短波长(X2)的差(X2-X1)为50nm以上；(c)波长900nm中的透过率、波长1000nm中的透过率、及波长1100nm中的透过率均为65％以下；(d)在波长430nm～580nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率的平均值为75％以上；(e)在波长1100nm～1200nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率的平均值为5％以下。[2]根据项[1]所述的光学滤波器，其特征在于：包含所述化合物(A)的层为透明树脂层。[3]根据项[1]或项[2]所述的光学滤波器，其特征在于：在所述基材的至少一面具有介电体多层膜。[4]根据项[1]至项[3]中任一项所述的光学滤波器，其特征在于：所述基材进而满足下述必要条件(f)：(f)波长690nm～720nm的区域中的透过率的最小值(T1)为5％以下。[5]根据项[1]至项[4]中任一项所述的光学滤波器，其特征在于：所述基材进而满足下述必要条件(g)：(g)包含在波长1050nm以上且1200nm以下的区域具有最大吸收的化合物(S)。[6]根据项[5]所述的光学滤波器，其特征在于：所述化合物(S)为选自由下述式(I)及式(II)所表示的化合物所组成的群组中的至少一种化合物。[化1][化2]式(I)及式(II)中，R1～R3分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-NRgRh基、-SRi基、-SO2Ri基、-OSO2Ri基或下述La～Lh的任一者，Rg及Rh分别独立地表示氢原子、-C(O)Ri基或下述La～Le的任一者，Ri表示下述La～Le的任一者，(La)碳数1～12的脂肪族烃基(Lb)碳数1～12的卤素取代烷基(Lc)碳数3～14的脂环式烃基(Ld)碳数6～14的芳香族烃基(Le)碳数2～14的杂环基(Lf)碳数1～12的烷氧基(Lg)可具有取代基L的碳数1～12的酰基，(Lh)可具有取代基L的碳数1～12的烷氧基羰基取代基L为选自由碳数1～12的脂肪族烃基、碳数1～12的卤素取代烷基、碳数3～14的脂环式烃基、碳数6～14的芳香族烃基及碳数3～14的杂环基所组成的群组中的至少一种，相邻的R3彼此也可形成可具有取代基L的环，n表示0～4的整数，X表示中和电荷所需的阴离子，M表示金属原子，Z表示D(Ri)4，D表示氮原子、磷原子或铋原子，y表示0或1。[7]根据项[3]至项[6]中任一项所述的光学滤波器，其特征在于：所述介电体多层膜形成于所述基材的两面。[8]根据项[1]至项[7]中任一项所述的光学滤波器，其特征在于：所述化合物(A)为选自由方酸内鎓盐系化合物、酞菁系化合物及花青系化合物所组成的群组中的至少一种化合物。[9]根据项[2]至项[8]中任一项所述的光学滤波器，其特征在于：构成所述透明树脂层的透明树脂为选自由环状聚烯烃系树脂、芳香族聚醚本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种光学滤波器，其特征在于：具有满足下述必要条件(a)、(b)及(c)的基材，且满足下述必要条件(d)及(e)：(a)具有包含在波长650nm以上且760nm以下的区域具有最大吸收的化合物(A)的层；(b)在波长640nm以上的区域中透过率成为10％的最短波长(X1)与第二短波长(X2)的差(X2‑X1)为50nm以上；(c)波长900nm中的透过率、波长1000nm中的透过率、及波长1100nm中的透过率均为65％以下；(d)在波长430nm～580nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率的平均值为75％以上；(e)在波长1100nm～1200nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率的平均值为5％以下。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.08.31 JP 2016-1692601.一种光学滤波器，其特征在于：具有满足下述必要条件(a)、(b)及(c)的基材，且满足下述必要条件(d)及(e)：(a)具有包含在波长650nm以上且760nm以下的区域具有最大吸收的化合物(A)的层；(b)在波长640nm以上的区域中透过率成为10％的最短波长(X1)与第二短波长(X2)的差(X2-X1)为50nm以上；(c)波长900nm中的透过率、波长1000nm中的透过率、及波长1100nm中的透过率均为65％以下；(d)在波长430nm～580nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率的平均值为75％以上；(e)在波长1100nm～1200nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率的平均值为5％以下。2.根据权利要求1所述的光学滤波器，其特征在于：包含所述化合物(A)的层为透明树脂层。3.根据权利要求1或2所述的光学滤波器，其特征在于：在所述基材的至少一面具有介电体多层膜。4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学滤波器，其特征在于：所述基材进而满足下述必要条件(f)：(f)波长690nm～720nm的区域中的透过率的最小值(T1)为5％以下。5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学滤波器，其特征在于：所述基材进而满足下述必要条件(g)：(g)包含在波长1050nm以上且1200nm以下的区域具有最大吸收的化合物(S)。6.根据权利要求5所述的光学滤波器，其特征在于：所述化合物(S)为选自由下述式(I)及式(II)所表示的化合物所组成的群组中的至少一种化合物，[化1][化2][式(I)及式(II)中，R1～R3分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-NRgRh基、-SRi基、-SO2Ri基、-OSO2Ri基或下述La～Lh的任一者，Rg及Rh分别独立地表示氢原子、-C(O)Ri基或下述La～Le的任一者，Ri表示下述La～Le的任一...
【专利技术属性】
技术研发人员：葛西达也，长屋胜也，堀内正子，重冈大介，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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