记录材料及记录片材制造技术

本发明专利技术的目的在于提供显色性能及保存性、尤其是基底耐热性优异的记录材料、记录片材。本发明专利技术的记录材料含有(A)显色性染料、(B)式(I)所示的化合物及(C)式(II)所示的化合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】记录材料及记录片材
本专利技术涉及利用了由显色性染料与显色剂的反应而导致的显色的记录材料、及使用了该记录材料的记录片材。本申请对在2016年8月24日提出申请的日本专利申请第2016-164088号主张优先权，在本文中引用其内容。
技术介绍
就利用了由显色性染料与显色剂的反应而导致的显色的记录材料而言，由于能够在不实施显影定影等复杂处理的情况下利用比较简单的装置在短时间内进行记录，因此广泛用于传真机、打印机等的用于输出记录的热敏记录纸或用于同时复写多张的票据的压敏复写纸等。作为上述记录材料，期望快速显色、未显色部分(以下称为“基底”)的白度得以保持、且已显色的图像的坚牢度高的记录材料，从长期保存稳定性的方面考虑，尤其需要基底及图像的耐热性优异的记录材料。因此，正在努力进行显色性染料、显色剂、保存稳定剂等的开发，寻求显色的敏感度、基底以及图像的保存性等的均衡性更加良好的记录材料。专利文献1记载了使用4，4’-二氨基二苯砜或3，3’-二氨基二苯砜作为显色剂、或者进一步与其他的显色剂或敏化剂合用的记录材料。专利文献2及3记载了在含有显色性染料和特定的显色剂的记录材料中各自进一步合用4，4’-二氨基二苯砜及3，3’-二氨基二苯砜。另外，专利文献4等记载了在含有芳香族异氰酸酯化合物的热敏材料中进一步含有4，4’-二氨基二苯砜等的材料。另外，专利文献5、6、7及8记载了使用苯基脲系化合物或苯基硫脲系化合物作为显色剂的记录材料。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开WO2014/143174号说明书专利文献2：日本特开平2-235682公报专利文献3：日本特开平6-191154号公报专利文献4：日本特开平6-171233号公报专利文献5：国际公开WO2014/080615号说明书专利文献6：国际公开WO2016/52592号说明书专利文献7：日本特开平11-92448号公报专利文献8：日本特开平11-268421号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术的目的在于提供显色性能、保存性等良好的记录材料、记录片材。解决课题的手段本申请的专利技术人在进行适于与N-(2-(3-苯基脲基)苯基)苯磺酰胺合用的添加剂的研究的过程中发现，使用二氨基二苯砜化合物作为添加剂时，保存性特别良好，从而完成了本专利技术。即，本专利技术为：(1)记录材料，其特征在于，含有(A)显色性染料中的至少1种、(B)选自由下述式(I)所示的化合物组成的组中的至少1种、及(C)选自由下述式(II)所示的化合物组成的组中的至少1种，[化学式1][化学式2](式中，R及R’表示氢原子、卤素原子、硝基、C1～C6烷基、C1～C6烷氧基、C2～C6链烯基、C1～C6卤代烷基、N(R4)2基(式中，R4表示氢原子、苯基、苄基、或C1～C6烷基)、AR5(式中，A表示SO2-NH、NH-SO2、CO-NH、或NH-CO所示的基团，R5表示可以具有取代基的C1～C6烷基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的1-萘基、或可以具有取代基的2-萘基)、可以具有取代基的苯基、或可以具有取代基的苄基，n及n’各自独立地表示1～5中的任一整数，X表示O或S)；以及，(2)如上述(1)所述的记录材料，其特征在于，所述式(II)所示的化合物为选自由下述式(III)所示的化合物、下述式(IV)所示的化合物、及下述式(V)所示的化合物组成的组中的至少1种，[化学式3](式中，R1～R3表示氢原子、卤素原子、硝基、C1～C6烷基、C1～C6烷氧基、C2～C6链烯基、C1～C6卤代烷基、N(R4)2基(式中，R4表示氢原子、苯基、苄基、或C1～C6烷基)、NHCOR6(式中，R6表示C1～C6烷基)、可以具有取代基的苯基、或可以具有取代基的苄基，n1及n3各自独立地表示1～5中的任一整数，n2表示1～4中的任一整数，A1表示SO2-NH、NH-SO2、CO-NH、或NH-CO所示的基团，X表示与式(II)中的X相同的基团)，[化学式4](式中，R1～R3表示与式(III)中的R1～R3相同的基团，n2及n3表示与式(III)中的n2及n3相同的整数，n4表示1～7中的任一整数，A1表示与式(III)中的A1相同的基团，X表示与式(II)中的X相同的基团)，[化学式5](式中，R1～R3表示与式(III)中的R1～R3相同的基团，n2、n3及n4表示与式(IV)中的n2、n3及n4相同的整数，A1表示与式(III)中的A1相同的基团，X表示与式(II)中的X相同的基团)；以及，(3)如上述(1)或(2)所述的记录材料，其中，所述式(I)所示的化合物为4，4’-二氨基二苯砜、及3，3’-二氨基二苯砜中的至少1种；以及，(4)如上述(2)或(3)所述的记录材料，其中，在所述式(III)、式(IV)或式(V)所示的化合物中，A1为SO2-NH，X为O；以及，(5)如上述(2)～(4)中任一项所述的记录材料，其中，所述式(III)所示的化合物为下述式(VI)所示的化合物，[化学式6](式中，R1～R3、及n1～n3表示与式(III)中的R1～R3、及n1～n3相同的含义。)；以及，(6)如上述(5)所述的记录材料，其中，所述式(VI)所示的化合物为N-(2-(3-苯基脲基)苯基)苯磺酰胺；以及，(7)如上述(6)所述的记录材料，其中，N-(2-(3-苯基脲基)苯基)苯磺酰胺为由下述X射线衍射图表征的晶型的化合物，所述X射线衍射图中，在基于Cu-Kα射线的X射线粉末衍射法中的衍射角(2θ±0.10度)为23.60度、20.80度、12.24度及13.80度处显示峰；以及，(8)如上述(1)～(7)中任一项所述的记录材料，其特征在于，显色性染料为荧烷系染料；以及，(9)记录片材，其特征在于，在支承体上具有由上述(1)～(8)中任一项所述的记录材料形成的记录材料层。专利技术的效果根据本专利技术，可得到显色性能及保存性良好的记录材料、记录片材。尤其是可得到基底耐热性、显色图像的耐增塑剂性、耐油性及耐热性优异的记录材料。具体实施方式(记录材料)本专利技术的记录材料为利用了由显色性染料与显色剂的反应而导致的显色的记录材料，其至少含有(A)显色性染料、(B)前述式(I)所示的化合物、及(C)前述式(II)、(III)和(IV)中的任一者所示的化合物。本专利技术的记录材料可用于各种用途，例如可用于热敏记录材料或压敏复写材料等，特别优选用于热敏记录材料。((A)成分)作为在本专利技术的记录材料中使用的(A)成分即显色性染料，可列举荧烷系、苯酞系、内酰胺系、三苯甲烷系、吩噻嗪系、螺吡喃系等隐色染料，但并不限定于此，只要是通过与作为酸性物质的显色剂接触从而显色的显色性染料，则均可使用。另外，单独使用上述显色性染料来制造其所显色的颜色的记录材料自不必说，也可混合使用它们中的2种以上。例如，可混合使用红色、蓝色、绿色这3种原色的显色性染料或黑色显色性染料来制造显色为纯黑色的记录材料。其中，可优选列举荧烷系显色性染料。作为显色性染料，例如可列举3，3-双(对二甲基氨基苯基)-苯酞、3，3-双(对二甲基氨基苯基)-6-二甲基氨基苯酞(别名为结晶紫内酯)、3，3-双(对二甲基氨基苯基)-6-二乙基氨基苯酞、3，3-双(对二甲基氨基苯基)-6-氯苯酞、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.记录材料，其特征在于，含有(A)显色性染料中的至少1种、(B)选自由下述式(I)所示的化合物组成的组中的至少1种、及(C)选自由下述式(II)所示的化合物组成的组中的至少1种，[化学式1]

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.08.24 JP 2016-1640881.记录材料，其特征在于，含有(A)显色性染料中的至少1种、(B)选自由下述式(I)所示的化合物组成的组中的至少1种、及(C)选自由下述式(II)所示的化合物组成的组中的至少1种，[化学式1][化学式2]式(II)中，R及R’表示氢原子、卤素原子、硝基、C1～C6烷基、C1～C6烷氧基、C2～C6链烯基、C1～C6卤代烷基、N(R4)2基、AR5、可以具有取代基的苯基、或可以具有取代基的苄基，n及n’各自独立地表示1～5中的任一整数，X表示O或S，其中，式N(R4)2中，R4表示氢原子、苯基、苄基、或C1～C6烷基，式AR5中，A表示SO2-NH、NH-SO2、CO-NH、或NH-CO所示的基团，R5表示可以具有取代基的C1～C6烷基、可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的1-萘基、或可以具有取代基的2-萘基。2.如权利要求1所述的记录材料，其特征在于，所述式(II)所示的化合物为选自由下述式(III)所示的化合物、下述式(IV)所示的化合物、及下述式(V)所示的化合物组成的组中的至少1种，[化学式3]式(III)中，R1～R3表示氢原子、卤素原子、硝基、C1～C6烷基、C1～C6烷氧基、C2～C6链烯基、C1～C6卤代烷基、N(R4)2基、NHCOR6、可以具有取代基的苯基、或可以具有取代基的苄基，n1及n3各自独立地表示1～5中的任一整数，n2表示1～4中的任一整数，A1表示SO2-NH、NH-SO2、CO-NH、或NH-CO所示的基团，X表示与式(II)中的X相同的基团，其中，式N(R4)2中，R4表示氢原子、苯基、苄基、或C1～C6烷基，式NHCOR6中，R6表示C1...

【专利技术属性】
技术研发人员：木下俊太郎，野村加代子，滨川一美，酒井宏，
申请(专利权)人：日本曹达株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP