一种外层减薄铜的方法技术

技术编号:20801813 阅读:53 留言:0更新日期:2019-04-06 15:44
本发明专利技术的目的是提供一种外层减薄铜的方法,本发明专利技术的方法是采用半蚀和砂带研磨工艺来实现的,流程是:板电→掩孔→半蚀→研磨→外层线路。

A Method of Thinning Copper Outer Layer

The object of the present invention is to provide a method for thinning the outer layer of copper. The method of the present invention is realized by semi-etching and abrasive belt grinding technology. The process flow is plate electricity mask hole semi-etching grinding outer circuit.

【技术实现步骤摘要】
一种外层减薄铜的方法
本专利技术属于印制线路板制作
,具体涉及的是对外层含有孔的线路板减薄铜的一种方法。
技术介绍
在线路板的制造过程中,目前通常采用18um、35um的底铜,为了保证孔铜厚度足够,表面电镀铜厚度在30um以上,外层铜厚度一般在48um以上。在采用减成法制作外层线路时,蚀刻药水有侧蚀的作用,采用普通的方法只能够做出75um/75um以上的线宽/间距。为了制作出更细一些的线路和间距,表面铜厚需要减薄到35um以下。现在常规的减薄铜是采用半蚀工艺来减薄内层铜,但是如果直接对外层进行减铜,减铜蚀刻药水也会蚀刻掉孔内的铜,孔铜也被减薄了。还有一种采用机械研磨的方法来减薄外层铜,这种方法需要研磨很多次,成本很高,每研磨一次只能削除1-3um的铜,还会造成板材变形、厚度不均等问题。如果采用图形电镀或者半加成法来制作,由于电流分布不均的原因,又会产生厚度不均、夹膜、电镀烧灼的问题。还有的采用树脂塞孔和半蚀工艺来进行减铜,这个方法需要专门树脂塞孔机和重型陶瓷研磨机研磨树脂,成本很高。
技术实现思路
本专利技术的方法是采用半蚀和砂带研磨工艺来实现的,步骤如下。步骤一:板电;准备待减薄铜的基板,从整板电镀达到孔铜厚度要求后开始实施本方法。步骤二:掩孔;整板电镀后采用干膜掩孔方法,采用曝光、显影的常规制造方法制作出掩孔的保护图形,用干膜保护金属化孔铜及孔环。步骤三:半蚀;采用半蚀工艺或者普通蚀刻,蚀刻掉需要削除的铜厚。步骤四:研磨;采用砂带研磨机削除孔环上突出的铜。步骤五:外层线路;进行外层线路制作等常规的流程。附图说明图1为本专利技术的剖面流程图。101-基材铜箔,102-表面电镀铜,201-孔环突出的铜,301-孔铜,302-半蚀后表面铜。具体实施方式为阐述本专利技术的具体实施方法,下面结合附图对本专利技术做进一步的详细说明。本专利技术的流程是:板电→掩孔→半蚀→研磨→外层线路。板电:就是整板电镀,整板厚度1.6mm,基材铜箔101厚度18um,孔铜301电镀厚度30um,表面电镀铜102厚度35um。掩孔:采用普通40um厚度的干膜进行贴膜;只对金属化孔及其孔环进行曝光,用干膜保护金属化孔;采用正常生产的参数进行显影。半蚀:只采用蚀刻机五段中的第一段,蚀刻速度5m/min,其他参数采用常规条件,蚀刻掉的铜厚度要求为18±2um,经检测半蚀后表面铜厚302平均为35um。研磨:采用双面砂带研磨机研磨掉孔环突出的铜201,研磨的参数为:砂粒目数600目,研磨速度:2m/min,研磨压力:0.3kg/cm²。外层线路;经过以上加工后,孔铜厚度为25um以上,表面铜厚度平均为35um,可以用来制作50um/50um的线宽/间距的板了。经过本专利技术方法的处理,可以把孔铜的厚度做到很大而表面铜厚做到很小。本专利技术的制作过程简单,直接采用一般线路板厂所具有的设备。本专利技术的方法还可以用来运用在盲孔电镀板、填孔电镀板上,对外层铜厚度进行减薄。本专利技术只是对外层减薄铜方法的描述,本专利技术还可以运用在积层板、盲孔板内层上。在线路板制造领域,本专利技术在具体的实施方式和应用范围上会有改变之处,所以本说明书内容不应理解为对本专利技术的限制。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种外层减薄铜的方法,其特征在于采用以下步骤实现:步骤一:板电;步骤二:掩孔;步骤三:半蚀;步骤四:研磨;步骤五:外层线路。

【技术特征摘要】
1.一种外层减薄铜的方法,其特征在于采用以下步骤实现:步骤一:板电;步骤二:掩孔;步骤三:半蚀;步骤四:研磨;步骤五:外层线路。2.根据权利要求1所述的方法步骤一,其特征在于准备待减薄铜的基板,从整板电镀达到孔铜厚度要求后开始实施本方法。3.根据权利要求1所述的方法步骤二,其特征在于整板电镀后采用干膜掩孔方法,采用曝光、显影的常规制造方法制作出掩孔的保护...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄明安胡小义何小国
申请(专利权)人:四会富仕电子科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1