The invention relates to a method for reducing the influence of machine platform differences on module consistency. To solve the problem of differences in the effect parameters of camera modules between different machines in the existing technology. By choosing the module which is close to the average effect parameters, the difference between the effect parameters of the module is detected, the difference coefficient is obtained, and the coefficient is multiplied with the effect parameters of other modules to calibrate, which reduces the influence of the difference of the machine on the consistency of the module.
【技术实现步骤摘要】
一种减少机台差异对模组一致性影响的方法
本专利技术涉及一种摄像模制造
,尤其是涉及一种减少机台差异对模组一致性影响的方法。
技术介绍
随着手机摄像头的应用推广,越来越多的地方需要用到摄像头模组,由于各方面因素的影响摄像头模组在白平衡,解析,暗角等效果参数上存在一定的差异性,如果用同一套参数去校准,效果不尽人意,为了保证摄像头模组的一致性,有必要提出一种减少机台差异对模组一致性影响的方法。
技术实现思路
本专利技术主要是解决现有技术中不同机台间摄像头模组效果参数存在差异性的问题,提供了一种减少机台差异对模组一致性影响的方法。本专利技术的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:一种减少机台差异对模组一致性影响的方法,机台包括基准机台和校准机台,包括以下步骤:S1.在基准机台上用一定数量的模组选取出目标模组;S2.在校准机台上获取目标模组的效果参数;即在校准机台上获取目标模组的R/G值和B/G值。S3.根据目标模组在基准机台和校正机台上的效果参数计算差异系数;S4.比较目标模组在基准机台和校准机台上效果参数的差异,在差异超标时,将校准机台上的模组效果参数乘上差异系数进行校准,然后存储到芯片中。本专利技术通过选取接近平均效果参数的模组,检测该模组在机台之间的效果参数的差异,获取差异系数,并将系数对应与其他模组的效果参数相乘进行校准,减少了机台差异对模组一致性的影响。作为一种优选方案,步骤S1中选取目标模组的具体步骤为:S11.在基准机台上对不少于200个基数的模组效果参数R/G、B/G值进行统计;模组基数要求不低于200颗。效果参数包括R/G、B/G值。S ...
【技术保护点】
1.一种减少机台差异对模组一致性影响的方法,机台包括基准机台和校准机台,其特征在于:包括以下步骤:S1.在基准机台上用一定数量的模组选取出目标模组;S2.在校准机台上获取目标模组的效果参数;S3.根据目标模组在基准机台和校正机台上的效果参数计算差异系数;S4.比较目标模组在基准机台和校准机台上效果参数的差异,在差异超标时,将校准机台上的模组效果参数乘上差异系数进行校准,然后存储到芯片中。
【技术特征摘要】
1.一种减少机台差异对模组一致性影响的方法,机台包括基准机台和校准机台,其特征在于:包括以下步骤:S1.在基准机台上用一定数量的模组选取出目标模组;S2.在校准机台上获取目标模组的效果参数;S3.根据目标模组在基准机台和校正机台上的效果参数计算差异系数;S4.比较目标模组在基准机台和校准机台上效果参数的差异,在差异超标时,将校准机台上的模组效果参数乘上差异系数进行校准,然后存储到芯片中。2.根据权利要求1所述的一种减少机台差异对模组一致性影响的方法,其特征是步骤S1中选取目标模组的具体步骤为:S11.在基准机台上对不少于200个基数的模组效果参数R/G、B/G值进行统计;S12.计算出这些模组的平均R/G值和平均B/G值;S13.选取出效果参数R/G值和B/G值都接近平均R/G值和平均B/G值的模组,作为目标模组;S14.获取基准机台上目标模组在的效果参数。3.根据权利要求1所述的一种减少机台差异对模组一致性影响的方法,其特征是步骤S3中计算差异系数采用以下公式:KRG=RG基准机台/RG校准机台KBG=BG基准机台/BG校准机台其中KRG和KBG分别为R/G值和B/G值的差异系数,RG基准机台为目标模组在基准机台上的R/G值,RG校准机台为目标模组在校准机台上的R/...
【专利技术属性】
技术研发人员:骆淑君,李江迪,许烨焓,
申请(专利权)人:横店集团东磁有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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