The present invention relates to water-based compositions for surface treatment of metal surfaces, preferred silver or silver alloys, comprising alkanethiols, anionic, cationic, nonionic, amphoteric or amphoteric surfactants with HLB values of 12 to 18, and compounds of formula (I), in which R1 is H, CH3, C2H5, (C2H4O) P CH3, (C2H4O) P CH3, (C2H4O) P CH3, (CH3) 2, (C2H4O) P (CH3) H, (H 2) H, O) P C (CH3) 3, where p is 1 to 20, R2 is H or CH3, n is an integer in the range of 0 to 3, and M is an integer in the range of 0 to 2.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于金属表面后处理的水基组合物
本专利技术涉及用于金属表面后处理的水基组合物、其用途和金属表面后处理的方法。
技术介绍
银和银合金用于电子装置中,但不可避免的是,成品将需要进一步清洁并抛光以暂时地去除不希望的锈蚀产物。众所周知,由于暴露在日常大气条件,银和银合金产生破坏光泽的暗色膜,称为锈蚀。防止金属和金属合金的锈蚀是众多行业中面临的挑战性问题。金属和金属合金的锈蚀在电子材料工业中尤其成问题,其中锈蚀可导致电子装置中各组件之间电气接触故障。US20070277906A1揭示用于处理金属(例如,银或银合金)的水基组合物,其包含选自烷烃硫醇、硫代乙醇酸烷基酯、二烷基硫醚或二烷基二硫醚的处理剂和有效溶解处理剂的浓度的两性、非离子或阳离子表面活性剂中的至少一者。优选地,组合物包含至少一种非离子相对疏水性表面活性剂,例如椰油酰胺DEA。组合物特别地适用于处理Ag-Cu-Ge合金。
技术实现思路
本专利技术的目标是提供用于有效后处理金属表面(尤其银或银合金)以防止所述表面锈蚀的组合物。具体实施方式本专利技术提供用于金属表面、优选银或银合金表面的后处理的水基组合物、其用途和方法。优选实施例在所附权利要求书内阐述。金属表面尤其是金属衬底或塑料材料(例如,连接器或IC/引线框应用)的技术和装饰性表面以及汽车、航空航天、建筑、通讯、家具、卫生和消费品上的表面的领域中的表面。本专利技术特别地提供用于金属表面、优选银或银合金表面的后处理的水基组合物,其包含:烷烃硫醇,阴离子、阳离子、非离子、两性或两性离子表面活性剂,其HLB值为12至18,优选15,其中水基组合物进一步含有通式I的化 ...
【技术保护点】
1.一种用于金属表面、优选银或银合金表面后处理的水基组合物,其包含烷烃硫醇,阴离子、阳离子、非离子、两性或两性离子表面活性剂,其HLB值为12至18,其特征在于所述水基组合物进一步含有通式I的化合物:
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.06.23 EP 16175905.51.一种用于金属表面、优选银或银合金表面后处理的水基组合物,其包含烷烃硫醇,阴离子、阳离子、非离子、两性或两性离子表面活性剂,其HLB值为12至18,其特征在于所述水基组合物进一步含有通式I的化合物:其中R1是-H、-CH3、-C2H5、-(C2H4O)p-H、-(C2H4O)p-CH3、-(C2H4O)p-CH(CH3)2、-(C2H4O)p-C(CH3)3,其中p是在1至20范围内的整数,R2是H或CH3,N是0至3范围内的整数,M是0、1或2范围内的整数。2.根据权利要求1所述的水基组合物,其中在所述式I化合物中,m=0,n在0至3的范围内且R1独立地选自由以下组成的群组:-H、-CH3、-C2H5和-(C2H4O)p-H,其中p在2至6的范围内。3.根据权利要求1所述的水基组合物,其中所述式I化合物选自由以下组成的群组:2,3,6,7-四甲基-4-辛炔-3,6-二醇、2,5,8,11-四甲基-6-十二炔-5,8-二醇乙氧基化物、2,4,7,9-四甲基-5-癸炔-4,7-二醇乙氧基化物、2,4,7,9-四甲基-5-癸炔-4,7-二醇-双聚氧乙烯醚和2,4,7,9-四甲基-5-癸炔-4,7-二醇。4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的水基组合物,其中所述表面活性剂是乙氧基化或丙氧基化烷基、乙氧基化或丙氧基化胺、乙氧基化或丙氧基化酰胺、乙氧基化或丙氧基化醇或其混合物。5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的水基组合物,其中所述表面活性剂具有通式IIR3O(CH2CH2O)xH(II)其中R3是具有6...
【专利技术属性】
技术研发人员:新井千穗,F·拉戈斯布罗克,R·吕特尔,O·库尔茨,
申请(专利权)人:德国艾托特克公司,
类型:发明
国别省市:德国,DE
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