用以处理柔性基板的处理系统和方法技术方案

根据本公开的一个方面，提供一种用于处理柔性基板(10)的处理系统(100)。所述处理系统包括：真空腔室(11)；传送系统，配置以沿基板传送路径(P)导引柔性基板(10)通过真空腔室(11)，其中传送系统包括第一基板支撑件(22)及相隔第一基板支撑件(22)一距离布置的第二基板支撑件(24)；及检查系统，用于检查柔性基板(10)。检查系统包括：光源(30)，配置以导引光束(31)通过在第一基板支撑件(22)与第二基板支撑件(24)之间的柔性基板(10)的一部分；及光检测器(40)，用于检测光束(31)来执行柔性基板(10)的透射率测量，其中光源(30)及光检测器(40)中的至少一个布置在环境中，环境配置以用于与真空腔室(11)中的第一压力水平不同的第二压力水平。根据本发明专利技术的再一方面，提供一种沉积设备。根据本发明专利技术的又一方面，提供一种用于处理柔性基板的方法。

Processing system and method for processing flexible substrate

According to one aspect of the present disclosure, a processing system (100) for processing a flexible substrate (10) is provided. The processing system comprises a vacuum chamber (11); a transmission system configured to guide a flexible substrate (10) through a vacuum chamber (11) along a substrate transmission path (P), wherein the transmission system comprises a first substrate support (22) and a second substrate support (24) arranged at a distance from the first substrate support (22); and a inspection system for inspecting a flexible substrate (10). The inspection system includes a light source (30) configured to guide the light beam (31) through a part of the flexible substrate (10) between the first substrate support (22) and the second substrate support (24); and a light detector (40) for detecting the light beam (31) to perform the transmission measurement of the flexible substrate (10), in which at least one of the light source (30) and the light detector (40) is disposed in the environment and the environment is disposed for use with the flexible substrate (10). The first pressure level in the vacuum chamber (11) is different from the second pressure level. According to another aspect of the present invention, a deposition device is provided. According to another aspect of the present invention, a method for processing a flexible substrate is provided.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用以处理柔性基板的处理系统和方法
本公开的实施方式涉及一种用以处理柔性基板的处理系统，其中处理系统包括用以检查柔性基板的检查系统。本公开的实施方式还涉及一种用以涂布柔性基板及用以检查沉积于柔性基板上的一或多个涂层的沉积设备。实施方式亦涉及于真空腔室中处理柔性基板的方法，其中已处理的基板的光学质量通过执行已处理的基板的透射率测量来检查。
技术介绍
基板经常在移动通过处理设备时进行处理，基板举例为柔性基板。处理可包括涂布柔性基板而具有涂布材料，涂布材料举例为金属、半导体或电介质材料，特别是铝或铜。特别是，金属、半导体或塑料膜或箔的涂布在封装产业、半导体产业及其他产业中高度需求。执行此项工作的系统一般包括涂布鼓，涂布鼓耦接于用以沿着基板传送路径移动基板的传送系统，其中基板的至少一部分在基板导引于涂布鼓上时进行处理。让基板在移动于涂布鼓的导引表面上时涂布的所谓的卷对卷(roll-to-roll，R2R)涂布系统可提供高产量。蒸发工艺例如是热蒸发工艺、物理气相沉积(physicalvapordeposition，PVD)工艺及/或化学气相沉积(chemicalvapordeposition，CVD)工艺。蒸发工艺可利用，以在柔性基板上沉积涂布材料的薄层。卷对卷沉积系统亦在显示产业及光电(photovoltaic，PV)产业中面临强烈的需求。举例来说，触控面板元件、柔性显示器、及柔性PV模块对在卷对卷涂布机中以低制造成本沉积合适层的需求增加。这些装置一般制造而具有数层的涂布材料，数层的涂布材料可于接续地利用数个沉积单元的卷对卷涂布设备中制造。当基板通过传送系统移动通过沉积单元时，沉积单元可适用于涂布基板而具有特定的涂布材料。传送系统举例为辊子组件。于一些应用中，对基板进行检查以监控基板的质量。基板举例为柔性基板或非柔性基板，柔性基板例如是箔，非柔性基板例如是玻璃板。举例来说，基板制造以用于显示市场，涂布材料层沉积于此基板上。既然在涂布基板期间可能产生缺陷，用于审视缺陷及用于监控基板的质量的基板的检查是合理的。以改善的检查质量来执行柔性基板的透射率测量的检查系统仍有需求。再者，提供易于维护的检查系统是有利的，此检查系统系适用于在真空处理系统中使用。
技术实现思路
有鉴于上述，提供一种用以处理柔性基板的处理系统及一种用以涂布柔性基板的沉积设备。再者，提供处理柔性基板的方法。本公开的其他方面、优点以及特征从权利要求书、说明书及附图更为清楚。根据本公开的一方面，提供一种用以处理柔性基板的处理系统。处理系统包括：真空腔室；传送系统，配置以沿着基板传送路径导引柔性基板通过真空腔室，其中传送系统包括第一基板支撑件及第二基板支撑件，第二基板支撑件相隔第一基板支撑件一距离布置；以及检查系统，用以检查柔性基板。检查系统包括：光源，配置以导引光束通过在第一基板支撑件与第二基板支撑件之间的柔性基板的一部分；及光检测器，用以检测光束来执行柔性基板的透射率测量，其中光源及光检测器中的至少一个布置在环境中，此环境配置以用于与真空腔室中的第一压力水平不同的第二压力水平。根据本公开的其他方面，提供一种用以涂布柔性基板的沉积设备。沉积设备包括：真空腔室，包括涂布鼓及卷起卷筒，涂布鼓配置以用于导引柔性基板通过一或多个沉积单元，卷起卷筒用以将柔性基板卷绕于卷起卷筒上；辊子组件，配置以从涂布鼓沿着基板传送路径导引柔性基板至卷起卷筒，其中辊子组件包括第一辊子和第二辊子，第二辊子相隔第一辊子一距离布置；以及检查系统，用以检查柔性基板，其中检查系统包括：光源，配置以导引光束通过在第一辊子与第二辊子之间的柔性基板的一部分；及光检测器，用以检测光束来执行柔性基板的透射率测量，其中光源及光检测器中的至少一个布置在环境中，此环境配置以用于与真空腔室中的第一压力水平的第二压力水平。根据本公开的其他方面，提供一种处理柔性基板的方法。此方法包括：沿着基板传送路径导引柔性基板通过真空腔室，其中真空腔室排气至第一压力水平及其中柔性基板由第一基板支撑件及第二基板支撑件支撑，第二基板支撑件与第一基板支撑件相隔一距离布置；导引光束通过在第一基板支撑件与第二基板支撑件之间的柔性基板的一部分；以及检测已经穿透柔性基板的光束来执行柔性基板的透射率测量，其中光束的至少一部分传播通过具有与第一压力水平不同于的第二压力水平的环境。本公开的其他方面、优点及特征从附属权利要求书、说明书及附图更为清楚。附图说明为了可详细地了解本公开的上述特征，简要摘录于上的本公开的更特有的说明可参照实施方式。附图有关于本公开的实施方式且说明于下方。典型实施方式绘示于图式中，且在下方的说明中详细说明。图1绘示根据此处所述实施方式的处理系统的示意侧视图；图2绘示绘示根据此处所述实施方式的处理系统的示意侧视图；图3绘示根据此处所述实施方式的处理系统的示意剖面图；图4绘示根据此处所述实施方式的处理系统的透视上视图；图5绘示根据此处所述实施方式的沉积设备的示意侧视图；以及图6绘示根据此处所述实施方式的处理柔性基板的方法的流程图。具体实施方式详细的参照将以数种实施方式达成，数种实施方式的一或多个例子绘示于各图中。各例子由说明的方式提供且不意味为限制。举例来说，所说明或叙述而作为一个实施方式的部分的特征可用于任何其他实施方式或与任何其他实施方式结合，以取得再其他实施方式。此意指本公开包括这些调整及变化。在下方的图说明中，相同参考数字意指相同或相似的部件。一般来说，仅有有关于各个实施方式的不同处进行说明。除非另有说明，一个实施方式中的一部分或方面的说明亦应用于另一实施方式中的对应部分或方面。根据此处所述的实施方式，提供一种用以处理柔性基板的处理系统。处理系统可配置以涂布柔性基板而具有一或多层，举例为金属层、介电层及/或半导体层。如此处所使用的名称基板应特别是包括柔性基板，例如是塑料膜、网格(web)、箔、或带(strip)。名称基板应亦包含其他形式的柔性基板。值得注意的是，如在此处所述实施方式中使用的柔性基板一般是可弯曲的。名称“柔性基板”或“基板”可与名称“箔”或名称“网格”以同义的方式使用。特别是，将理解的是，此处所述的一些实施方式的处理系统可利用于涂布任何种类的柔性基板，举例为用于制造具有均匀厚度的平面涂层、或用于在柔性基板上或下方涂布结构的顶部上制造预定形状的涂布图案或涂布结构。举例来说，电子装置可通过掩模(masking)、蚀刻及/或沉积形成于柔性基板上。举例来说，如此处所述的柔性基板可包括材料，像是PET、HC-PET、PE、PI、PU、TaC、OPP、CPP、一或多个金属、纸、上述材料的组合以及已涂布的基板，像是硬涂层PET(举例为HC-PET、HC-TaC)及类似物。于一些实施方式中，柔性基板是COP基板，于COP基板两侧上设置有折射率匹配(indexmatched，IM)层。柔性基板可在真空腔室中处理时移动。举例来说，柔性基板可沿着基板传送路径P传送通过用以涂布柔性基板的沉积单元。于一些应用中，基板可从存储辊子退卷、可传送于涂布鼓的外表面上、且可沿着其他辊子的外表面导引。已涂布的柔性基板可卷于卷起卷筒上。根据可与此处所述其他实施方式结合的一些实施方式，处理系统可配置以用于处理具有500m或更大、1000m本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种处理系统(100)，用以处理柔性基板(10)，所述处理系统包括：真空腔室(11)；传送系统，配置以沿着基板传送路径(P)导引所述柔性基板(10)通过所述真空腔室(11)，其中所述传送系统包括第一基板支撑件(22)及第二基板支撑件(24)，所述第二基板支撑件(24)相隔所述第一基板支撑件(22)一距离布置；以及检查系统，用以检查所述柔性基板(10)，所述检查系统包括：光源(30)，配置以导引光束(31)通过在所述第一基板支撑件(22)与所述第二基板支撑件(24)之间的所述柔性基板(10)的一部分；及光检测器(40)，用以检测所述光束(31)来执行所述柔性基板(10)的透射率测量；其中所述光源(30)及所述光检测器(40)中的至少一个布置在环境(50)中，所述环境(50)配置以用于与所述真空腔室(11)中的第一压力水平不同的第二压力水平。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种处理系统(100)，用以处理柔性基板(10)，所述处理系统包括：真空腔室(11)；传送系统，配置以沿着基板传送路径(P)导引所述柔性基板(10)通过所述真空腔室(11)，其中所述传送系统包括第一基板支撑件(22)及第二基板支撑件(24)，所述第二基板支撑件(24)相隔所述第一基板支撑件(22)一距离布置；以及检查系统，用以检查所述柔性基板(10)，所述检查系统包括：光源(30)，配置以导引光束(31)通过在所述第一基板支撑件(22)与所述第二基板支撑件(24)之间的所述柔性基板(10)的一部分；及光检测器(40)，用以检测所述光束(31)来执行所述柔性基板(10)的透射率测量；其中所述光源(30)及所述光检测器(40)中的至少一个布置在环境(50)中，所述环境(50)配置以用于与所述真空腔室(11)中的第一压力水平不同的第二压力水平。2.如权利要求1所述的处理系统，其中所述光源(30)及所述光检测器(40)中的至少一个布置于所述真空腔室(11)的外侧或布置于所述真空腔室的内侧的真空密封壳(51)中，特别地于大气箱中。3.如权利要求1或2所述的处理系统，其中所述传送系统为辊子组件，所述第一基板支撑件(22)为第一辊子，并且所述第二基板支撑件(24)为第二辊子。4.如权利要求1至3中任一项所述的处理系统，其中所述光源(30)布置于所述基板传送路径(P)的第一侧，并且所述光检测器(40)布置于所述基板传送路径(P)的与所述第一侧相对的第二侧。5.如权利要求1-4中任一项所述的处理系统，其中所述光源(30)布置于该真空腔室(11)的内侧，并且所述光检测器(40)布置于所述真空腔室(11)的外侧，特别地布置于一或多个窗口(55)的后方，所述一或多个窗口(55)设置于所述真空腔室(11)的壁(12)中。6.如权利要求1至5中任一项所述的处理系统，其中冷却装置(60)设置而用于冷却所述光源(30)及所述光检测器(40)中的至少一个，特别地所述冷却装置包括冷却回路(65)，用于冷却媒介。7.如权利要求1至6中任一项所述的处理系统，其中所述光源(30)配置以用于产生光束(31)，所述光束(31)具有20cm或更多的宽度，特别地具有50cm或更多的宽度，更特别地其中所述光源包括具有20cm或更多的宽度的光带。8.如权利要求1至7中任一项所述的处理系统，其中所述光检测器(40)包括两、三或更多个检测器单元，所述两、三或更多个检测器单元在所述柔性基板(10)的宽度方向(W)中彼此相邻布置，特别地其中所述两、三或更多个检测器单元布置于所述真空腔室的壁(12)中的一或多个窗口(55)的后方，或真空密封壳(51)的壁(52)中的一或多个壳窗口(56)的后方。9.如权利要求1至8中任一项所述的处理系统，其中所述光检测器(40)可移动地保持于检测器支撑件(70)上，特别地其中所述光检测器(40)的两或更多个检测器单元(41、42、43)...

【专利技术属性】
技术研发人员：赖纳·格特曼，汉斯格奥尔格·洛兹，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US