操作沉积设备的方法和沉积设备技术

提供了一种操作沉积设备之方法。所述方法包括：通过从蒸发源(20)的一个或多个出口(22)导引蒸发的源材料朝向基板(10)而在基板(10)上沉积蒸发的源材料，其中部分的蒸发的源材料由屏蔽装置(30)阻挡并且附接于所述屏蔽装置，所述屏蔽装置布置在一个或多个出口(22)和基板(10)之间；接着通过至少局部地加热屏蔽装置(30)来清洁屏蔽装置(30)，以用于从屏蔽装置(30)释放至少部分的附接的源材料。根据另一方面，提供沉积设备，所述沉积设备可根据所述的方法操作。

Method of operating deposition equipment and deposition equipment

A method of operating deposition equipment is provided. The method includes: depositing evaporated source material on the substrate (10) by guiding evaporated source material from one or more outlets (22) of the evaporation source (20) toward the substrate (10), in which part of the evaporated source material is blocked by a shielding device (30) and attached to the shielding device, which is arranged between one or more outlets (22) and the substrate (10); and then through at least part of the shielding device; The ground heating shielding device (30) cleans the shielding device (30) for releasing at least part of the attached source material from the shielding device (30). On the other hand, a deposition device is provided, which can be operated according to the method described.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】操作沉积设备的方法和沉积设备
本公开内容的实施方式涉及在基板上沉积例如为有机材料的材料的方法，和用于在基板上沉积例如为有机材料的材料的沉积设备。本公开内容的实施方式特别涉及具有蒸发源的沉积设备，所述蒸发源经构造以在基板上沉积蒸发的源材料，以及操作用于在基板上沉积蒸发的源材料的沉积设备的方法，特别是用于制造包括有机材料于装置中的装置。
技术介绍
有机蒸发器是用于制造有机发光二极管(organiclight-emittingdiode，OLED)的工具。OLED是特殊类型的发光二极管，其中发射层包括特定有机化合物的薄膜。有机发光二极管(OLED)用于制造电视屏幕、计算机显示器、移动电话和用于显示信息的其他手持装置。OLED也可用于一般空间照明。OLED显示器的颜色、亮度、和视角的可行范围大于传统液晶显示器(LCD)的颜色、亮度、和视角的可行范围，因为OLED像素直接发光而不需要背光。因此，OLED显示器的能耗显著地少于传统LCD显示器的能耗。此外，OLED可制造于柔性基板上的事实带来进一步的应用。一般的OLED显示器例如可包括位于两个电极之间的有机材料层，所述两个电极都以形成矩阵显示面板的方式沉积于基板上，所述矩阵显示面板具有可单独供能的(individuallyenregizable)像素。OLED一般位于两个玻璃面板之间，并且玻璃面板的边缘被密封，以封装OLED于玻璃面板中。制造此类显示装置面临许多挑战。OLED显示器或OLED照明应用包括若干有机材料的堆叠结构(stack)，有机材料的堆叠结构例如是在真空中蒸镀的。有机材料通过阴影掩模(shadowmask)以连续的方式沉积。对于以高效率制造OLED堆叠结构来说，共沉积或共蒸发两种或更多种材料是有利的，所述两种或更多种材料例如为形成混合/掺杂层的主体(host)和掺杂剂。此外，必须考虑用于蒸镀非常敏感的(sensitive)有机材料的若干工艺条件。为了将材料沉积于基板上，加热材料直到材料蒸发。管导引蒸发的材料通过喷嘴到达基板。在过去几年中，沉积工艺的精确度已经增加，例如为了能够提供越来越小的像素尺寸。在一些工艺中，掩模在蒸发的材料通过掩模开口时用于限定像素。然而，掩模的遮蔽效应(shadowingeffect)、蒸发的材料的散布和类似情况使得难以进一步增加蒸发工艺的精确度和可预测性。有鉴于上述，增加用于制造具有高质量和精确度的装置的蒸发工艺的精确度和可预测性是有利的。
技术实现思路
有鉴于上述，提供操作沉积设备的方法以及沉积设备。根据本公开内容的一个方面，提供一种操作沉积设备的方法，所述方法包括通过从蒸发源的一个或多个出口导引蒸发的源材料朝向基板而在基板上沉积蒸发的源材料，其中部分的蒸发的源材料由屏蔽装置阻挡并且附接于屏蔽装置，所述屏蔽装置布置于一个或多个出口和基板之间；接着通过至少局部地加热屏蔽装置来清洁屏蔽装置，以用于从屏蔽装置释放至少部分的附接的源材料。根据本公开内容另一方面，提供一种操作沉积设备的方法，所述方法包括：在基板上沉积蒸发的源材料，包括：在从蒸发源的一个或多个出口导引蒸发的源材料朝向基板的同时，沿着基板的表面移动蒸发源，其中部分的蒸发的源材料由屏蔽装置阻挡并且附接于屏蔽装置，所述屏蔽装置配布置于一个或多个出口和基板之间；从沉积位置将蒸发源旋转第一旋转角度至维修位置；接着通过在维修位置中至少局部地加热屏蔽装置来清洁屏蔽装置；将蒸发源旋转第二旋转角度回到所述沉积位置或旋转第二旋转角度至另一沉积位置；和在所述基板上或另一基板上沉积蒸发的源材料，包括：沿着所述另一基板的表面移动蒸发源，同时从一个或多个出口朝向基板或朝向所述另一基板导引蒸发的源材料。根据本公开内容的又一方面，提供一种沉积设备。沉积设备包括蒸发源，所述蒸发源经构造以在基板上沉积蒸发的源材料，其中蒸发源包括分布管，所述分布管具有一个或多个出口，所述出口用于导引蒸发的源材料朝向基板；和屏蔽装置，布置在一个或多个出口的下游，并且经构造以部分地阻挡朝向基板传播的蒸发的源材料；致动器装置，经构造以从沉积位置带动沉积设备至维修位置，其中提供加热装置而用于在沉积设备处于维修位置中时至少局部地加热屏蔽装置。本公开内容的其他方面、优点和特征通过说明书和附图而清楚。附图说明为了详细理解本公开内容的上述特征，可通过参照实施方式而具有简要概述于上的本公开内容的更具体说明。附图涉及本公开内容的实施方式并且说明于下方：图1示出用于在真空腔室中沉积蒸发的源材料的沉积设备的示意性俯视图，沉积设备可根据本文所述的方法操作；图2A、图2B和图2C示出根据本文所述实施方式的沉积设备的蒸发源的部分的示意图；图3示出根据本文所述实施方式的沉积设备的示意性俯视图；图4A和图4B示出根据本文所述实施方式的操作沉积设备的方法的两个连续的阶段；图5A和图5B示出根据本文所述实施方式的操作沉积设备的方法的两个连续的阶段；图6A和图6B示出根据本文所述实施方式的操作沉积设备的方法的两个连续的阶段；图7A、图7B和图7C示出根据本文所述实施方式的操作沉积设备的方法的三个连续的阶段；图8是图解根据本文所述实施方式的操作沉积设备的方法的流程图；和图9是图解根据本文所述实施方式的操作沉积设备的方法的流程图。具体实施方式现将详细参照本公开内容的各种实施方式，各种实施方式的一个或多个示例图解于附图中。在下方的附图说明中，相同的参考数字表示相同的部件。一般来说，仅说明有关于个别实施方式的相异处。各示例以说明的方式提供而不意味为本公开内容的限制。作为一个实施方式的部分而图解或说明的特征可用于其他实施方式上或与其他实施方式结合使用，以产生另一实施方式。本说明书意欲包括此类调整和变化。如本文所使用的术语“源材料”可理解为蒸发并沉积于基板的表面上的材料。举例来说，在本文所述的实施方式中，沉积于基板的表面上的蒸发的有机材料可以是源材料。非限制的有机材料的示例包括下述材料中的一种或多种：ITO、NPD、Alq3、喹吖啶酮(Quinacridone)、Mg/AG、星爆(starburst)材料和类似物。如本文所使用的术语“蒸发源”可理解为提供将沉积于基板上的蒸发的源材料的布置。具体地，蒸发源可经构造以导引将沉积于基板上的蒸发的源材料朝向真空腔室中的沉积区域，所述真空腔室诸如沉积设备的真空沉积腔室。蒸发的源材料可经由蒸发源的多个喷嘴或出口被导引朝向基板。当沉积设备设于沉积位置中时，喷嘴或出口可被导引朝向沉积区域，特别是朝向待涂覆的基板。蒸发源可包括蒸发器或坩锅和分布管，所述蒸发器或坩锅蒸发将沉积于基板上的源材料，分布管流体连接于坩锅，并且经构造以传送蒸发的源材料至多个出口或喷嘴，用于发射蒸发的源材料至沉积区域中。如本文所使用的术语“坩锅”可理解为提供或包含将沉积的源材料的装置或储存器。一般来说，可加热坩锅，用于蒸发将沉积于基板上的源材料。根据本文的实施方式，坩锅可流体连通于分布管，蒸发的源材料可输送至所述分布管。如本文所使用的之术语“分布管”可理解为用于导引和分布蒸发的源材料的管。具体地，分布管可从坩锅导引蒸发的源材料至分布管中的多个出口或喷嘴。如本文所使用的术语“多个出口”一般包括至少两个或更多个出口。根据本文所述的实施方式，分布管可以是在特别是纵本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种操作沉积设备(100)的方法，包括：通过导引来自蒸发源(20)的一个或多个出口(22)蒸发的源材料朝向基板(10)，在所述基板(10)上沉积所述蒸发的源材料，其中部分的所述蒸发的源材料由屏蔽装置(30)阻挡并且附接至所述屏蔽装置，所述屏蔽装置布置于所述一个或多个出口(22)和所述基板(10)之间；接着通过至少局部地加热所述屏蔽装置(30)以从所述屏蔽装置(30)释放至少部分的附接的源材料，来清洁所述屏蔽装置(30)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种操作沉积设备(100)的方法，包括：通过导引来自蒸发源(20)的一个或多个出口(22)蒸发的源材料朝向基板(10)，在所述基板(10)上沉积所述蒸发的源材料，其中部分的所述蒸发的源材料由屏蔽装置(30)阻挡并且附接至所述屏蔽装置，所述屏蔽装置布置于所述一个或多个出口(22)和所述基板(10)之间；接着通过至少局部地加热所述屏蔽装置(30)以从所述屏蔽装置(30)释放至少部分的附接的源材料，来清洁所述屏蔽装置(30)。2.如权利要求1所述的方法，其中清洁包括相对于材料收集单元(40)从沉积位置(I)移动所述蒸发源(20)至维修位置(II)，在所述维修位置(II)中所述屏蔽装置(30)面向所述材料收集单元(40)，其中所述屏蔽装置在所述维修位置(II)中被加热。3.如权利要求2所述的方法，其中移动所述蒸发源(20)至所述维修位置(II)包括以20°或更大的角度(α)旋转所述蒸发源(20)，特别是以从60°至120°的角度旋转所述蒸发源。4.如权利要求2或3所述的方法，进一步包括：在清洁之后，从所述维修位置(II)移动所述蒸发源(20)回到所述沉积位置(I)或到另一沉积位置；和继续在所述基板(10)或另一基板上沉积所述蒸发的源材料。5.如权利要求1至4中任一项所述的方法，其中沉积和清洁交替地执行，特别地其中所述屏蔽装置在沉积预定时间段之后或在所述屏蔽装置上积聚预定量的附接的源材料之后进行清洁。6.如权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述屏蔽装置在所述清洁之后被冷却下来，特别地其中所述屏蔽装置在所述清洁之后和/或在所述沉积期间被主动冷却或被动冷却。7.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述清洁包括热电或感应加热所述屏蔽装置(30)的一个或多个表面区段。8.如权利要求1至7中任一项所述的方法，其中所述清洁包括导引电磁辐射至所述附接的源材料上，以从所述屏蔽装置(30)释放所述附接的源材料，所述电磁辐射特别是微波辐射、热辐射、激光辐射和紫外线(UV)辐射中的至少一种。9.如权利要求1至8中任一项所述的方法，其中所述屏蔽装置(30)阻挡相对于来自所述一个或多个出口(22)的所述蒸发的源材料的主发射方向(X)具有大于45°的发射角的蒸发的源材料。10.一种操作沉积设备(100)的方法，包括：在基板(10)上沉积蒸发的源材料，包括：沿着所述基板(10)的表面移动蒸发源(20)，同时导引来自所述蒸发源(20)的一个或多个出口(22)的所述蒸发的源材料朝向所述基板，其中部分的所述蒸发的源材料由屏蔽装置(30)阻挡并且附接于所述屏蔽装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：乔斯·曼纽尔·迭格斯坎波，斯蒂芬·班格特，德烈亚斯·勒普，哈拉尔德·沃斯特，迪特尔·哈斯，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US