显示面板的蒸镀结构制造技术

本发明专利技术公开了一种显示面板的蒸镀结构，包括显示面板；若干磁铁，分布于所述显示面板的一侧；一掩膜板，设于所述显示面板的另一侧；若干支撑柱，支撑于所述掩膜板与所述显示面板之间，且每一支撑柱对应于其中一磁铁；蒸镀源，具有一蒸镀侧，朝向所述掩膜板。本发明专利技术的显示面板的蒸镀结构，通过在掩膜板与磁铁的对应区域增加若干支撑柱，有效防止了因磁铁产生的吸附力分布不均带来的形变问题，确保了蒸镀后各发光层结构的厚度均一，降低了显示面板显示的不良率。

Evaporation structure of display panel

The invention discloses an evaporation structure of a display panel, including a display panel; a number of magnets are distributed on one side of the display panel; a mask plate is arranged on the other side of the display panel; a number of supporting columns are supported between the mask plate and the display panel, and each supporting column corresponds to one of the magnets; an evaporation source has an evaporation side and faces the mask. Diaphragm. The evaporation structure of the display panel of the invention effectively prevents the deformation problem caused by the uneven distribution of the adsorption force produced by the magnet, ensures the uniformity of the thickness of each luminous layer structure after evaporation, and reduces the poor display rate of the display panel by adding a number of supporting columns in the corresponding area between the mask plate and the magnet.

【技术实现步骤摘要】
显示面板的蒸镀结构
本专利技术涉及显示面板蒸镀设备等领域，具体为一种显示面板的蒸镀结构。
技术介绍
在显示面板的制程中，需要采用蒸镀工艺形成对应的功能膜层。而蒸镀工艺一般在真空中通过电流加热，电子束轰击加热和激光加热等方法，使被蒸材料蒸发成原子或分子，它们随即以较大的自由程作直线运动，碰撞基片表面而凝结，形成薄膜。而在蒸镀时，需要用到掩膜板对非成膜区进行遮掩，以能够在指定的位置形成各个功能膜层。现有的蒸镀设备，在蒸镀显示面板时，蒸镀设备中的磁铁会对掩膜板产生吸附力从而吸附掩膜板。而现有蒸镀设备中的磁铁只能做成长条状，当磁铁通电后，靠近磁铁附近位置的磁场强度较强，远离磁铁位置的磁场强度较弱，因此会造成蒸镀设备中的掩膜板被磁铁吸附时的吸附力分布不均的情况，掩膜板因吸附力不均容易形变，最终影响蒸镀后功能膜层的膜厚的均一性，造成显示面板的显示不良。
技术实现思路
为了解决上述技术问题：本专利技术提供一种显示面板的蒸镀结构，通过在掩膜板与显示面板之间增加支撑柱，以防止因磁铁产生的吸附力分布不均带来的掩膜板形变的现象。解决上述问题的技术方案是：本专利技术提供一种显示面板的蒸镀结构，包括显示面板；若干磁铁，分布于所述显示面板的一侧；一掩膜板，设于所述显示面板的另一侧；若干支撑柱，支撑于所述掩膜板与所述显示面板之间，且每一支撑柱对应于其中一磁铁；蒸镀源，具有一蒸镀侧，朝向所述掩膜板。在本专利技术一实施例中，所述的显示面板的蒸镀结构还包括一底板，所述磁铁设于所述底板的一侧，所述显示面板设于所述底板的另一侧；所述显示面板包括玻璃基板，设于所述底板上；薄膜晶体管结构层，设于所述玻璃基板上；像素限定层，设于所述薄膜晶体管结构层上，所述像素限定层设有开孔；间隔柱，设于所述像素限定层上；所述掩膜板设于所述间隔柱上，所述支撑柱与所述间隔柱同层设置。在本专利技术一实施例中，所述掩膜板具有若干透孔区和非透孔区，每一透孔区对应其中一开孔。在本专利技术一实施例中，所述透孔区成阵列排布，形成若干所述透孔区的行和列；所述支撑柱也成阵列排布且位于所述非透孔区，形成所述支撑柱的行和列，所述支撑柱的行平行于所述透孔区的行，所述支撑柱的列平行于所述透孔区的列。在本专利技术一实施例中，在所述支撑柱的行所在方向或列所在方向，所述支撑柱与所述透孔区交错设置。在本专利技术一实施例中，所述磁铁为长条形，每一行或者每一列的支撑柱对应于一条磁铁。在本专利技术一实施例中，每一开孔内形成有发光层结构，所述发光层结构为红色发光层结构、绿色发光层结构和蓝色发光层结构中的一种。在本专利技术一实施例中，每一透孔区对应于每一红色发光层结构，所述非透孔区对应于所述绿色发光层结构和所述蓝色发光层结构；或者每一透孔区对应于每一蓝色发光层结构，所述非透孔区对应于所述绿色发光层结构和所述红色发光层结构；或者每一透孔区对应于每一绿色发光层结构，所述非透孔区对应于所述红色发光层结构和所述蓝色发光层结构。在本专利技术一实施例中，所述透孔区的形状、尺寸匹配于其所对应的所述开孔的形状、尺寸。在本专利技术一实施例中，所述支撑柱为棱台形的柱状结构。本专利技术的有益效果是：本专利技术的显示面板的蒸镀结构，通过在掩膜板与磁铁的对应区域增加若干支撑柱，有效防止了因磁铁产生的吸附力分布不均带来的形变问题，确保了蒸镀后各发光层结构的厚度均一，降低了显示面板显示的不良率。附图说明下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步解释。图1是本专利技术实施例的掩膜板与磁铁的一种对应关系结构图，主要体现掩膜板上支撑柱与磁铁的对应关系。图2是本专利技术实施例的蒸镀红色发光结构时的显示面板蒸镀结构示意图。图3是本专利技术实施例的蒸镀蓝色发光结构时的显示面板蒸镀结构示意图。图4是本专利技术实施例的蒸镀绿色发光结构时的显示面板蒸镀结构示意图。附图标记：1蒸镀结构；11底板；12显示面板；121玻璃基板；122薄膜晶体管结构层；123像素限定层；124间隔柱；125发光层结构；125a红色发光层结构；125b蓝色发光层结构；125c绿色发光层结构；126开孔；13磁铁；14掩膜板、141透孔区；142非透孔区；14a第一掩膜板；14b第二掩膜板；14c第三掩膜板；141a第一透孔区；141b第二透孔区；141c第三透孔区；142a第一非透孔区；142b第二非透孔区；142c第三非透孔区；15支撑柱；16蒸镀源；161蒸镀侧。具体实施方式以下实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「顶」、「底」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。如图2至图4所示，在一实施例中，本专利技术的显示面板的蒸镀结构1，包括底板11、显示面板12、若干磁铁13、掩膜板14、若干支撑柱15以及蒸镀源16。所述显示面板12设于所述底板11的一侧面，若干磁铁13分布于所述底板11的另一侧面。本实施例中，所述磁铁13为长条形，长条形的若干磁铁13相互平行。所述显示面板12包括玻璃基板121、薄膜晶体管结构层122、像素限定层123以及间隔柱124。其中所述玻璃基板121设于所述底板11上，所述薄膜晶体管结构层122设于所述玻璃基板121上，所述薄膜晶体管结构层122中具有若干薄膜晶体管(图未示)；所述像素限定层123设于所述薄膜晶体管结构层122上，所述像素限定层123设有与所述薄膜晶体管对应的开孔126，所述间隔柱124设于所述像素限定层123上。所述掩膜板14设于所述显示面板12的另一侧，即所述显示面板12的具有所述间隔柱124的一侧。如图1所示，具体的，所述掩膜板14具有若干透孔区141和非透孔区142，所述透孔区141成阵列排布，形成若干所述透孔区141的行和列；所述支撑柱15设置在所述非透孔区142，所述支撑柱15也成阵列排布，形成所述支撑柱15的行和列，所述支撑柱15的行平行于所述透孔区141的行，所述支撑柱15的列平行于所述透孔区141的列。在所述支撑柱15的行所在方向或列所在方向，所述支撑柱15与所述透孔区141交错设置。参见图2至图4所示，所述若干支撑柱15支撑于所述掩膜板14与所述显示面板12之间，所述支撑柱15与所述间隔柱124同层设置，即所述若干支撑柱15支撑于所述掩膜板14与所述像素限定层123之间。所述支撑柱15为棱台形的柱状结构，当然还可以为其他结构，如圆柱形结构，为了防止所述支撑柱15与所述间隔柱124干扰，因此，本实施例中，所述支撑柱15设计成棱台形的柱状结构，即具有若干第一侧面，而所述间隔柱124具有若干第二侧面，当所述支撑柱15与所述间隔柱124相邻时，所述第一侧面平行于第二侧面，这样有利于节省空间，避免所述支撑柱15与所述间隔柱124干扰。由于所述磁铁13为长条形，因此，本实施例中，每一行或者每一列的支撑柱15对应于一条磁铁13，若磁铁13的宽度较大，则可以两行或两列支撑柱15对应一条磁铁13。由于蒸镀时，需要在开孔126中形成发光层结构125，因此，本实施例中的每一透孔区141对应其中一开孔126。所述发光层结构125为红色发光层结构125a、绿色发光层结构125c和蓝色发光层结构125b中的一种。在一个显示面板12中，具有若干红色发光层结构本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的蒸镀结构，其特征在于，包括显示面板；若干磁铁，分布于所述显示面板的一侧；一掩膜板，设于所述显示面板的另一侧；若干支撑柱，支撑于所述掩膜板与所述显示面板之间，且每一支撑柱对应于其中一磁铁；以及蒸镀源，具有一蒸镀侧，朝向所述掩膜板。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的蒸镀结构，其特征在于，包括显示面板；若干磁铁，分布于所述显示面板的一侧；一掩膜板，设于所述显示面板的另一侧；若干支撑柱，支撑于所述掩膜板与所述显示面板之间，且每一支撑柱对应于其中一磁铁；以及蒸镀源，具有一蒸镀侧，朝向所述掩膜板。2.根据权利要求1所述的显示面板的蒸镀结构，其特征在于，还包括一底板，所述磁铁设于所述底板的一侧，所述显示面板设于所述底板的另一侧；所述显示面板包括玻璃基板，设于所述底板上；薄膜晶体管结构层，设于所述玻璃基板上；像素限定层，设于所述薄膜晶体管结构层上，所述像素限定层设有开孔；间隔柱，设于所述像素限定层上；所述掩膜板设于所述间隔柱上，所述支撑柱与所述间隔柱同层设置。3.根据权利要求2所述的显示面板的蒸镀结构，其特征在于，所述掩膜板具有若干透孔区和非透孔区，每一透孔区对应其中一开孔。4.根据权利要求3所述的显示面板的蒸镀结构，其特征在于，所述透孔区成阵列排布，形成若干所述透孔区的行和列；所述支撑柱也成阵列排布且位于所述非透孔区，形成所述支撑柱的行和列，所述支撑柱的行平行于所述透孔区的行，所述支撑柱的列平行于所...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵凯祥，刘开欣，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42