The invention discloses a silicon dioxide antireflective film with a sealing structure on the surface and a mesoporous structure on the inner layer. The antireflective film is a bilayer membrane structure with upper and lower layers. The SiO 2 nanoparticles in the upper layer of SiO 2 film are densely arranged, and the SiO 2 nanoparticles in the lower layer of SiO 2 film form a plurality of nano-pore structures. The pore size of the pore structure is 2-50 nm. The silicon dioxide film prepared by the invention has a sealing structure on the surface of the silicon dioxide film, a mesh structure on the bottom of the silicon dioxide mesoporous film, and a tight bond between the silicon dioxide condensates in the surface layer, so that the upper layer is a compact silicon dioxide film with very low porosity. Because the surface layer has a closed pore structure, water molecules can not enter the pore of the film, thus the antireflective film has excellent environmental stability. Sex and weather resistance.
【技术实现步骤摘要】
一种表层具有封孔结构内层具有介孔结构的二氧化硅增透膜及其制备方法
本专利技术涉及一种表层具有封孔结构内层具有介孔结构的二氧化硅增透膜,还涉及上述增透膜的制备方法,属于光学薄膜
技术介绍
增透膜是现代光学应用最广泛的一种薄膜,利用薄膜的干涉对光学表面的反射光和杂散光进行减弱或消除以增加薄膜的透过率。使用溶胶凝胶法制备增透膜具有操作简单、成本低、适用于不规则表面和大规模工业化生产等优点,特别是多孔薄膜的折射率可以大大低于相应体材料的折射率,且折射率连续可调。而提拉法的优点是厚度可控、膜层均匀、可以制备大面积的薄膜。在太阳能电池主件中的玻璃盖板上镀制增透膜,减少对入射光的反射损失,提高实际转换效率。太阳辐射的波长范围很广,但是绝大部分能量集中在可见光到近红外区,但是由于硅在红外波段透过率很高,利用很少,因此对太阳能电池的增透重点放在400-800nm范围。目前使用的减反射膜基本上暴露在大气环境中,需要承受住日晒雨淋、高湿热等恶劣环境的考验。因此一种在400-800nm具备高透过率,同时耐候性好的减反射膜的开发很有必要。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种表层具有封孔结构内层具有介孔结构的二氧化硅增透膜,该增透膜在400~800nm范围具有高透过率,同时耐候性好。本专利技术制得的增透膜表面为闭孔结构的SiO2薄膜能够阻止水分子进入孔隙中,切断了二氧化硅对水分子的吸附途径,从而有效解决了多孔SiO2薄膜吸潮引起的耐候性问题。一种表层具有封孔结构内层具有介孔结构的二氧化硅增透膜,所述增透膜为上下双层膜结构,上层SiO2薄膜中SiO2纳米颗粒致密 ...
【技术保护点】
1.一种表层具有封孔结构内层具有介孔结构的二氧化硅增透膜,其特征在于:所述增透膜为上下双层膜结构,上层SiO2薄膜中SiO2纳米颗粒致密排布,下层SiO2薄膜中SiO2纳米颗粒排布形成多个纳米孔洞结构,所述孔洞结构的孔径为2~50nm。
【技术特征摘要】
1.一种表层具有封孔结构内层具有介孔结构的二氧化硅增透膜,其特征在于:所述增透膜为上下双层膜结构,上层SiO2薄膜中SiO2纳米颗粒致密排布,下层SiO2薄膜中SiO2纳米颗粒排布形成多个纳米孔洞结构,所述孔洞结构的孔径为2~50nm。2.一种权利要求1所述的表层具有封孔结构内层具有介孔结构的二氧化硅增透膜的制备方法,其特征在于,包括如下操作步骤:步骤1,制备溶胶A:将正硅酸乙酯、乙醇、去离子水、酸催化剂和聚氧乙烯聚氧丙烯醚嵌段共聚物以一定的摩尔比混合,经陈化后制得溶胶A;步骤2,制备溶胶B:将正硅酸乙酯、乙醇、去离子水和酸催化剂以一定的摩尔比混合,经陈化后制得溶胶B;步骤3,将经过预处理的基底浸入步骤1的溶胶A中,采用浸渍提拉法在基底上镀SiO2薄膜;其中,提拉速率为50~200mm/min;步骤4,将镀有SiO2薄膜的基底放入步骤2的溶胶B中,采用浸渍提拉法在基底上镀SiO2薄膜,镀膜后进行退火处理,从而得到表层封闭、内层为介孔结构的双层增透膜。3.根据权利要求2所述的表层具有封孔结构内层具有介孔结构的二氧化硅增透膜的制备方法,其特征在于:步骤1和步骤2中,所述酸催化剂为盐酸、醋酸或硝酸中的一种。...
【专利技术属性】
技术研发人员:陶朝友,邹鑫书,
申请(专利权)人:中国工程物理研究院激光聚变研究中心,
类型:发明
国别省市:四川,51
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。