一种超声波清洗装置制造方法及图纸

技术编号:20506270 阅读:22 留言:0更新日期:2019-03-05 23:01
本发明专利技术涉及一种超声波清洗装置。所述超声波清洗装置包括清洗槽,在所述清洗槽外表面上设置有若干移动式的超声波振子,所述超声振子能相对所述清洗槽外表面运动以实现清洗物的均匀清洗。本发明专利技术所述超声波清洗装置产生的清洗波达到清洗物(如晶圆)表面的能量是一样的大小,从而解决超声波驻波对清洗物(如晶圆)表面图形的局部破坏性或是局部清洗不充分。

An ultrasonic cleaning device

The invention relates to an ultrasonic cleaning device. The ultrasonic cleaning device comprises a cleaning groove, and a number of mobile ultrasonic oscillators are arranged on the outer surface of the cleaning groove. The ultrasonic oscillators can move relative to the outer surface of the cleaning groove to achieve uniform cleaning of the cleaning materials. The cleaning wave generated by the ultrasonic cleaning device of the invention reaches the same energy as the surface of the cleaning material (e.g. wafer), thereby solving the local destructive effect of the standing wave of the ultrasonic wave on the surface pattern of the cleaning material (e.g. wafer) or insufficient local cleaning.

【技术实现步骤摘要】
一种超声波清洗装置
本专利技术涉及半导体
,具体而言涉及一种超声波清洗装置。
技术介绍
在半导体及其它电子行业中,对表面洁净度的要求严格,大量使用超声波进行表面清洗。超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用,使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。超声波清洗得到广泛应用,但现在使用的超声波清洗机存在以下问题:超声波会产生反射、干涉和共振现象,出现波的叠加作用,在器件清洗过程中造成不利影响。因此,为了解决目前工艺中存在的问题需要对所述超声清洗装置进行改进,以减少驻波的破坏力量。
技术实现思路

技术实现思路
部分中引入了一系列简化形式的概念,这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本专利技术的
技术实现思路
部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征,更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。为了克服目前存在的问题,本专利技术提供了一种超声波清洗装置,所述超声波清洗装置包括清洗槽,在所述清洗槽外表面上设置有若干移动式的超声波振子,所述超声振子能相对所述清洗槽外表面运动以实现清洗物的均匀清洗。可选地,所述清洗槽包括位于所述清洗槽顶部的顶盖,在所述顶盖上设置若干所述超声波振子。可选地,若干所述超声振子的频率相同,和/或若干所述超声振子的振幅相同。可选地,所述超声波清洗装置还包括超声波发生器以及两端分别连接所述超声波发生器和所述超声波振子的振动连接装置,所述振动连接装置牵引所述超声波振子进行移动。可选地,所述振动连接装置包括连接杆,所述连接杆的两端分别连接所述超声波发生器和所述超声波振子。可选地,所述超声波清洗装置还包括移动方向控制器,所述移动方向控制器与所述振动连接装置连接,以控制所述振动连接装置的移动方向。可选地,所述振动连接装置与所述超声波发生器的连接方式为:能以所述超声波发生器为基点,做平行于所述外表面的摆动。可选地,所述振动连接装置与所述超声波发生器的连接方式为:能以所述超声波发生器为基点,做平行于所述外表面的伸缩。可选地,所述超声波振子包括相互连接的换能器与变幅杆。可选地,所述换能器包括压电陶瓷的夹心式换能器。本专利技术所述超声波清洗装置中所述超声波振子不再采用目前工艺中的固定振子的设置方式,所述超声波清洗装置包括清洗槽,在所述清洗槽外表面上设置有若干移动式的超声波振子,所述超声振子能相对所述清洗槽外表面运动以实现清洗物的均匀清洗。通过所述改进可以使清洗物(如晶圆)表面的能量是一样的大小,从而解决超声波驻波对清洗物(如晶圆)表面图形的局部破坏性或是局部清洗不充分。附图说明本专利技术的下列附图在此作为本专利技术的一部分用于理解本专利技术。附图中示出了本专利技术的实施例及其描述,用来解释本专利技术的原理。附图中:图1为本专利技术的一个实施例的一种超声波清洗装置的结构示意图;图2为本专利技术的一个实施例的一种超声波清洗装置中超声波振子的结构示意图。具体实施方式在下文的描述中,给出了大量具体的细节以便提供对本专利技术更为彻底的理解。然而,对于本领域技术人员而言显而易见的是,本专利技术可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中,为了避免与本专利技术发生混淆,对于本领域公知的一些技术特征未进行描述。应当理解的是,本专利技术能够以不同形式实施,而不应当解释为局限于这里提出的实施例。相反地,提供这些实施例将使公开彻底和完全,并且将本专利技术的范围完全地传递给本领域技术人员。在附图中,为了清楚,层和区的尺寸以及相对尺寸可能被夸大。自始至终相同附图标记表示相同的元件。应当明白,当元件或层被称为“在...上”、“与...相邻”、“连接到”或“耦合到”其它元件或层时,其可以直接地在其它元件或层上、与之相邻、连接或耦合到其它元件或层,或者可以存在居间的元件或层。相反,当元件被称为“直接在...上”、“与...直接相邻”、“直接连接到”或“直接耦合到”其它元件或层时,则不存在居间的元件或层。应当明白,尽管可使用术语第一、第二、第三等描述各种元件、部件、区、层和/或部分,这些元件、部件、区、层和/或部分不应当被这些术语限制。这些术语仅仅用来区分一个元件、部件、区、层或部分与另一个元件、部件、区、层或部分。因此,在不脱离本专利技术教导之下,下面讨论的第一元件、部件、区、层或部分可表示为第二元件、部件、区、层或部分。空间关系术语例如“在...下”、“在...下面”、“下面的”、“在...之下”、“在...之上”、“上面的”等,在这里可为了方便描述而被使用从而描述图中所示的一个元件或特征与其它元件或特征的关系。应当明白,除了图中所示的取向以外,空间关系术语意图还包括使用和操作中的器件的不同取向。例如,如果附图中的器件翻转,然后,描述为“在其它元件下面”或“在其之下”或“在其下”元件或特征将取向为在其它元件或特征“上”。因此,示例性术语“在...下面”和“在...下”可包括上和下两个取向。器件可以另外地取向(旋转90度或其它取向)并且在此使用的空间描述语相应地被解释。在此使用的术语的目的仅在于描述具体实施例并且不作为本专利技术的限制。在此使用时,单数形式的“一”、“一个”和“所述/该”也意图包括复数形式,除非上下文清楚指出另外的方式。还应明白术语“组成”和/或“包括”,当在该说明书中使用时,确定所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或部件的存在,但不排除一个或更多其它的特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或组的存在或添加。在此使用时,术语“和/或”包括相关所列项目的任何及所有组合。这里参考作为本专利技术的理想实施例(和中间结构)的示意图的横截面图来描述专利技术的实施例。这样,可以预期由于例如制造技术和/或容差导致的从所示形状的变化。因此,本专利技术的实施例不应当局限于在此所示的区的特定形状,而是包括由于例如制造导致的形状偏差。例如,显示为矩形的注入区在其边缘通常具有圆的或弯曲特征和/或注入浓度梯度,而不是从注入区到非注入区的二元改变。同样,通过注入形成的埋藏区可导致该埋藏区和注入进行时所经过的表面之间的区中的一些注入。因此,图中显示的区实质上是示意性的,它们的形状并不意图显示器件的区的实际形状且并不意图限定本专利技术的范围。为了彻底理解本专利技术,将在下列的描述中提出详细的步骤以及详细的结构,以便阐释本专利技术提出的技术方案。本专利技术的较佳实施例详细描述如下,然而除了这些详细描述外,本专利技术还可以具有其他实施方式。目前工艺中超声波会产生反射、干涉和共振现象,出现波的叠加作用,于是在液体内形成驻波声场,会造成清洗波在被清洗物(例如晶圆)某处的振幅大大增加,从而获得更大的超声能量,超声波的驻波现象导致在驻波固定的地方表面清洗不完全,而另外的地方由于能量太大导致破坏(如晶圆表面的图形破损)。针对该问题,专利技术人对所述驻波产生的原因进行了分析:驻波(Standingwave)为两个振幅、波长、周期皆相同的正弦波相向行进干涉而成的合成波。此种波的波形无法前进,因此无法传播能量。驻波通过时,每一个质点皆作简谐运动。各质点振荡的幅度不相等,振幅为零的点称为节点或波节(Node),振幅最大的点位于两节点之间,称为腹点或波腹(Antinode)。由于节点静止不动,所以波形没有传播。能量以动能和势能的形式交换储存,亦传播不出去。目前的超声清洗装置是将超声本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种超声波清洗装置,所述超声波清洗装置包括清洗槽,其特征在于,在所述清洗槽外表面上设置有若干移动式的超声波振子,所述超声振子能相对所述清洗槽外表面运动以实现清洗物的均匀清洗。

【技术特征摘要】
1.一种超声波清洗装置,所述超声波清洗装置包括清洗槽,其特征在于,在所述清洗槽外表面上设置有若干移动式的超声波振子,所述超声振子能相对所述清洗槽外表面运动以实现清洗物的均匀清洗。2.根据权利要求1所述的超声波清洗装置,其特征在于,所述清洗槽包括位于所述清洗槽顶部的顶盖,在所述顶盖上设置若干所述超声波振子。3.根据权利要求1或2所述的超声波清洗装置,其特征在于,若干所述超声振子的频率相同,和/或若干所述超声振子的振幅相同。4.根据权利要求1或2所述的超声波清洗装置,其特征在于,所述超声波清洗装置还包括超声波发生器以及两端分别连接所述超声波发生器和所述超声波振子的振动连接装置,所述振动连接装置牵引所述超声波振子进行移动。5.根据权利要求4所述的超声波清洗装置,其特征在于,所述振动连接装置包括连接杆,所述连接...

【专利技术属性】
技术研发人员:许清秀
申请(专利权)人:中芯国际集成电路制造北京有限公司中芯国际集成电路制造上海有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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