硅片单面制备纳米绒面的设备及太阳能电池片的生产设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种硅片单面制备纳米绒面的设备，所述设备包括：微米绒面刻蚀液槽，用于装盛微米绒面刻蚀液；纳米绒面刻蚀液槽，用于装盛纳米绒面刻蚀液；第一机械臂，用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具，并分别置入微米绒面刻蚀液槽和纳米绒面刻蚀液槽；所述硅片叠加结构为相互叠加的两片硅片。本实用新型专利技术使用机械臂将置于硅片装载夹具中的硅片叠加结构直接置入微米绒面的刻蚀液槽、纳米绒面的刻蚀液槽，不需要进入拆片装置，解决了刻蚀液、刻蚀工艺的浪费问题，解决了刻蚀后的硅片变薄，带来碎片率增加的问题。

【技术实现步骤摘要】
硅片单面制备纳米绒面的设备及太阳能电池片的生产设备
本技术属于太阳能电池
，尤其涉及一种硅片单面制备纳米绒面的设备及太阳能电池片的生产设备。
技术介绍
未经处理的原始硅片表面的反射率非常高，直接使用这种材料制备太阳能电池，光学损失巨大，降低了太阳能电池的光电转化效率。为了增加入射光的吸收率，传统各向异性/同性的化学腐蚀方法是工业上比较成熟的方法，可以制备微米级的太阳能电池绒面。为了降低多晶硅片的表面反射率，增大电池的光生电流密度，本领域公开了多种方式，如反应离子刻蚀法、电化学腐蚀法、等离子织构法、飞秒激光织构法和金属催化化学腐蚀法等。现有技术对于硅片单面制备纳米绒面的设备中，需要将单片硅片装载至硅片装载夹具中，依次置入微米绒面刻蚀液槽、纳米绒面刻蚀液槽、清洗槽等。但其实硅片只需要保留单面具有纳米绒面即可，有一面的纳米绒面需要刻蚀除去，这样造成了刻蚀液、刻蚀工艺的浪费，同时刻蚀后的硅片变薄，也会带来碎片率的增加。因此，本领域需要开发一种硅片单面制备纳米绒面的设备及太阳能电池片的生产设备。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本技术的目的之一在于提供一种硅片单面制备纳米绒面的设备，其特征在于，所述设备包括：微米绒面刻蚀液槽，用于装盛微米绒面刻蚀液；纳米绒面刻蚀液槽，用于装盛纳米绒面刻蚀液；第一机械臂，用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具，并分别置入微米绒面刻蚀液槽和纳米绒面刻蚀液槽；所述硅片叠加结构为相互叠加的两片硅片。本技术提供的硅片单面制备纳米绒面的设备，利用机械臂将硅片以叠加的形式浸入微米绒面刻蚀液槽和纳米绒面刻蚀液槽，解决了刻蚀液、刻蚀工艺的浪费问题，解决了刻蚀后的硅片变薄，带来碎片率增加的问题。优选地，所述第一机械臂用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具先置入微米绒面刻蚀液槽，然后置入纳米绒面刻蚀液槽。在一个优选技术方案中，所述设备还包括金属离子吸附液槽和/或第一清洗槽；所述第一机械臂用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具分别置入金属离子吸附液槽和第一清洗槽中。优选地，所述第一机械臂用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具依次置入微米绒面刻蚀液槽、第一清洗槽、金属离子吸附液槽和纳米绒面刻蚀液槽。在另一个优选技术方案中，所述设备还包括拆片装置，所述拆片装置用于将硅片叠加结构拆分成两片硅片，并以单片硅片形式装载在第二硅片装载夹具中；所述第一机械臂用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具置于拆片装置中。优选地，所述拆片装置包括第一硅片装载夹具固定台、第一真空吸附组件和第二真空吸组件；所述第一真空吸附组件包括至少一个第一真空吸附头；所述第二真空吸附组件包括至少一个第二真空吸附头；所述第一真空吸附头和第二真空吸附头分别用于吸附同一硅片叠加结构的两片硅片。优选地，所述设备还包括第二清洗槽和第二机械臂；所述第二机械臂用于抓取装载有单片硅片的第二硅片装载夹具置入第二清洗槽中。优选地，所述硅片装载夹具的槽宽度比装载的2片硅片的厚度之和大。本技术目的之二是提供一种太阳能电池片的生产设备，所述太阳能电池片的生产设备包括：微米绒面刻蚀液槽，用于装盛微米绒面刻蚀液；纳米绒面刻蚀液槽，用于装盛纳米绒面刻蚀液；PN结腔室，用于对硅片进行PN结制备；去PN结刻蚀液单元，用于除去PN结通路的损伤；膜层沉积单元，用于在硅片一侧形成减反射膜；金属接触单元，用于在硅片上形成金属-半导体欧姆接触；拆片装置，所述拆片装置用于将硅片叠加结构拆分成两片硅片，并以单片硅片形式装载在第二硅片装载夹具中；第一机械臂，用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具，并分别置入微米绒面刻蚀液槽、纳米绒面刻蚀液槽和拆片装置中；所述硅片叠加结构为相互叠加的两片硅片；第二机械臂，用于抓取装载有单片硅片的第二硅片装载夹具，并分别置入去PN结刻蚀液单元、膜层沉积单元和金属接触单元；所述第一机械臂还可将第一硅片装载夹具置入PN结腔室；或所述第二机械臂也可将第二硅片装载夹具置入PN结腔室。优选地，第一机械臂用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具，依次置入微米绒面刻蚀液槽、纳米绒面刻蚀液槽和拆片装置中。优选地，所述去PN结刻蚀液单元，包括用于装盛去PN结通路的损伤刻蚀液的去PN结刻蚀液槽；第一硅片提取机械臂，用于转移第二硅片装载夹具中的单片硅片至PN结刻蚀液槽；以及第一硅片装载机械臂，用于将PN结刻蚀后的单片硅片装载至第二硅片装载夹具中。优选地，所述膜层沉积单元，包括用于在硅片一侧形成减反射膜的膜层沉积腔室；第二硅片提取机械臂，用于转移第二硅片装载夹具中的单片硅片至膜层沉积腔室；以及第二硅片装载机械臂，用于将膜层沉积后的单片硅片装载至第二硅片装载夹具中。优选地，所述金属接触单元，包括用于在硅片上形成金属-半导体欧姆接触的金属接触模块；第三硅片提取机械臂，用于转移第二硅片装载夹具中的单片硅片至金属接触模块；以及第三硅片装载机械臂，用于将膜层沉积后的单片硅片装载至第二硅片装载夹具中。在一个优选技术方案中，所述设备还包括金属离子吸附液槽和/或第一清洗槽；所述第一机械臂用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具分别置入金属离子吸附液槽、第一清洗槽中。在另一个优选技术方案中，所述设备还包括第二清洗槽和叠片装置；所述叠片装置用于将单片硅片叠加得到硅片叠加结构，并以硅片叠加结构形式装载在第一硅片装载夹具中；所述第二机械臂用于抓取装载有单片硅片的第二硅片装载夹具分别置入第二清洗槽和叠片装置。在另一个优选技术方案中，所述设备还包括金属离子吸附液槽、第一清洗槽、第二清洗槽和叠片装置；所述设备包括两个拆片装置，分别为第一拆片装置和第二拆片装置；第一机械臂，用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具，并依次置入微米绒面刻蚀液槽、第一清洗槽、金属离子吸附液槽、纳米绒面刻蚀液槽、第一拆片装置中；第二机械臂，用于从第一拆片装置中抓取装载有单片硅片的第二硅片装载夹具依次置入第二清洗槽和叠片装置；第一机械臂，用于抓取叠片装置叠加得到的装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具依次置入PN结腔室和第二拆片装置；第二机械臂，用于从第二拆片装置中抓取装载有单片硅片的第二硅片装载夹具分别置入去PN结刻蚀液槽、膜层沉积腔室和金属接触模块。在另一个优选技术方案中，所述设备还包括金属离子吸附液槽、第一清洗槽、第二清洗槽和叠片装置；第一机械臂，用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具，并依次置入微米绒面刻蚀液槽、第一清洗槽、金属离子吸附液槽、纳米绒面刻蚀液槽、第二清洗槽、PN结腔室和拆片装置中；第二机械臂，用于抓取装载有单片硅片的第二硅片装载夹具分别置入去PN结刻蚀液槽、膜层沉积腔室和金属接触模块。与现有技术相比，本技术具有如下优异效果：本技术使用机械臂将置于硅片装载夹具中的硅片叠加结构直接置入微米绒面的刻蚀液槽、纳米绒面的刻蚀液槽，不需要进入拆片装置，解决了刻蚀液、刻蚀工艺的浪费问题，解决了刻蚀后的硅片变薄，带来碎片率增加的问题。附图说明图1是实施例1提供的硅片单面制备纳米绒面的设备的结构示意图；图2是实施例2提供的硅片单面制备纳米绒面的设备的结构示意图；图3是实施例3提供的硅片单面制备纳米绒面的设备的结构示意图；图4是拆片装置结构示意图；本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片单面制备纳米绒面的设备，其特征在于，所述设备包括：微米绒面刻蚀液槽，用于装盛微米绒面刻蚀液；纳米绒面刻蚀液槽，用于装盛纳米绒面刻蚀液；第一机械臂，用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具，并分别置入微米绒面刻蚀液槽和纳米绒面刻蚀液槽；所述硅片叠加结构为相互叠加的两片硅片。

【技术特征摘要】
1.一种硅片单面制备纳米绒面的设备，其特征在于，所述设备包括：微米绒面刻蚀液槽，用于装盛微米绒面刻蚀液；纳米绒面刻蚀液槽，用于装盛纳米绒面刻蚀液；第一机械臂，用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具，并分别置入微米绒面刻蚀液槽和纳米绒面刻蚀液槽；所述硅片叠加结构为相互叠加的两片硅片。2.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第一机械臂用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具先置入微米绒面刻蚀液槽，然后置入纳米绒面刻蚀液槽。3.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括金属离子吸附液槽和/或第一清洗槽；所述第一机械臂用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具分别置入金属离子吸附液槽和第一清洗槽中。4.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第一机械臂用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具依次置入微米绒面刻蚀液槽、第一清洗槽、金属离子吸附液槽和纳米绒面刻蚀液槽。5.如权利要求1或3所述的设备，其特征在于，所述设备还包括拆片装置，所述拆片装置用于将硅片叠加结构拆分成两片硅片，并以单片硅片形式装载在第二硅片装载夹具中；所述第一机械臂用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具置于拆片装置中。6.如权利要求5所述的设备，其特征在于，所述拆片装置包括第一硅片装载夹具固定台、第一真空吸附组件和第二真空吸附组件；所述第一真空吸附组件包括至少一个第一真空吸附头；所述第二真空吸附组件包括至少一个第二真空吸附头；所述第一真空吸附头和第二真空吸附头分别用于吸附同一硅片叠加结构的两片硅片。7.如权利要求5所述的设备，其特征在于，所述设备还包括第二清洗槽和第二机械臂；所述第二机械臂用于抓取装载有单片硅片的第二硅片装载夹具置入第二清洗槽中。8.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述硅片装载夹具的槽宽度比装载的2片硅片的厚度之和大。9.一种太阳能电池片的生产设备，其特征在于，所述太阳能电池片的生产设备包括：微米绒面刻蚀液槽，用于装盛微米绒面刻蚀液；纳米绒面刻蚀液槽，用于装盛纳米绒面刻蚀液；PN结腔室，用于对硅片进行PN结制备；去PN结刻蚀液单元，用于除去PN结通路的损伤；膜层沉积单元，用于在硅片一侧形成减反射膜；金属接触单元，用于在硅片上形成金属-半导体欧姆接触；拆片装置，所述拆片装置用于将硅片叠加结构拆分成两片硅片，并以单片硅片形式装载在第二硅片装载夹具中；第一机械臂，用于抓取装载有硅片叠加结构的第一硅片装载夹具，并分别置入微米绒面刻蚀液槽、纳米绒面刻蚀液槽和拆片装置中；所述硅片叠加结构为相互叠加的两片硅片；第二机械臂，用于抓取装载有单片硅片的第二硅片装载夹具，并分别置入去PN结刻蚀液单元、膜层沉积单元和金属接触单元；所述第一机械臂还可将第一硅片装载夹具置入PN结腔室；或所述第二机械臂也可将第二硅片装载夹具置入PN结腔室...

【专利技术属性】
技术研发人员：邹帅，叶晓亚，曹芳，王栩生，邢国强，
申请(专利权)人：苏州阿特斯阳光电力科技有限公司，阿特斯阳光电力集团有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32